【課題】透明性に優れ、経時による変色の少ない硬化物を与え、発光ダイオード素子の保護材料、レンズ材料等として適する熱硬化型シリコーン樹脂組成物を提供。
【解決手段】（Ａ）一般式：
【化１】


（式中、ｍは0、1又は2の整数、R¹は水素原子、フェニル基又はハロゲン化フェニル基、R²は水素原子又はメチル基、R³は１価の炭素原子数1〜10の有機基、Z¹は−R⁴−、−R⁴O−、又は、−R⁴(CH₃)₂SiO−（R⁴は２価の炭素原子数1〜10の有機基）で表される２価の基、Z²は酸素原子、又は、２価の炭素原子数1〜10の有機基である。）
で表される構造を分子中に少なくとも1つ有するオルガノポリシロキサン、及び、
（Ｂ）硬化触媒として有効量の有機過酸化物
を含有する加熱硬化型シリコーン組成物。 （もっと読む）

【課題】ゲル化物や粒子の発生を抑制することができ、例えば半導体素子などの絶縁膜等を構成するのに用いられたときに、電気的特性を高めることが可能なポリマーを得ることができる金属含有ポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】金属化合物、その加水分解物または加水分解物の縮合物からなる成分（Ａ）と、金属化合物、その加水分解物または加水分解物の縮合物からなる成分（Ｂ）とを反応させてなる金属含有ポリマーの製造方法であって、成分（Ａ）と成分（Ｂ）とを反応させる際に、成分（Ｂ）が成分（Ａ）よりも高い反応性を有し、容器に成分（Ａ）を入れた後、容器内に成分（Ｂ）を連続的または段階的に添加し、成分（Ａ）と成分（Ｂ）とを反応させる、金属含有ポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、可撓性、靭性、電気特性を改善する熱硬化性重合体組成物を提供する。
【解決手段】 式（１）で表されるシルセスキオキサン骨格を繰り返し単位として有する化合物の少なくとも１つである第１成分と、オキシラニル、オキシラニレンまたは３、４−エポキシシクロヘキシルを有するかご型構造のシルセスキオキサン誘導体の少なくとも１つである第２成分と、硬化剤である第３成分とを必須成分として含有する熱硬化性重合体組成物：


ここに、Ｒ^１ａ〜Ｒ^１ｄはアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アリール、またはオキシラニル、オキシラニレンもしくは３、４−エポキシシクロヘキシルを有する基である。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として好適に用いることができる絶縁膜形成用組成物およびその製造方法、ならびに前記絶縁膜形成用組成物を用いたシリカ系絶縁膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、（Ａ）成分；下記一般式（１）で表される化合物および下記一般式（２）で表される化合物の群から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物と、（Ｂ）成分；下記一般式（３）で表される構造を有するカルボシランとを加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、有機溶媒と、を含む。Ｒ^１_ａＳｉ（ＯＲ^２）_４−ａ ・・・・・（１） Ｒ^３_ｂ（Ｒ^４Ｏ）_３−ｂＳｉ−（Ｒ^７）_ｄ−Ｓｉ（ＯＲ^５）_３−ｃＲ^６_ｃ ・・・（２）


・・・・・（３） （もっと読む）

【課題】温石綿または温石綿含有物質を化学的に分解して安全で高品質のシリコーンポリマーを高効率で合成する方法を提供すること。
【解決手段】温石綿または温石綿含有物質を第一の酸性水溶液により分解する分解工程と、第一の酸性水溶液に溶解しないシリカを主とする酸不溶物を回収する回収工程と、回収した酸不溶物を苛性アルカリ水溶液に溶解する溶解工程と、混合後に得られる液が酸性となるような水素イオン濃度を有する第二の酸性水溶液に酸不溶物を溶解した苛性アルカリ水溶液を添加して混合する混合工程と、上記混合後に得られる酸性液にシリカ抽出溶媒を添加することによって該抽出溶媒でシリカを抽出するシリカ抽出工程と、シリカを抽出したシリカ抽出溶媒にシリル化剤を添加してシリル化反応を行うシリル化工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも低屈折率で誘電率、ヤング率等の膜特性に優れた組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ｍ個のＲＳｉ(Ｏ_0.5)₃ユニット（ｍは８〜１６の整数を表し、Ｒはそれぞれ独立して非加水分解性基を表し、Ｒのうち、少なくとも２つはビニル基またはエチニル基を含む基である）を有し、各ユニットが、各ユニットにおける酸素原子を共有して他のユニットに連結しカゴ構造を形成している化合物（Ｉ）の重合物を含む組成物。
ただし、組成物に含まれる固形分のうち、化合物（Ｉ）のビニル基同士が反応した重合物が６０質量％以上である。 （もっと読む）

【課題】ポリマーを構成するＳｉ原子にシリルメチル基が結合した新規なポリマーおよびその製造方法、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表されるシラン化合物を縮合して得られるポリマー。
【化１】


（式中、Ｘ_１〜Ｘ_３は、同一または異なり、それぞれハロゲン原子、アルコキシ基、アシロキシ基、またはヒドロキシ基を示し、Ｙ_１〜Ｙ_３は、同一または異なり、アルキル基、アルケニル基、またはアリール基を示す） （もっと読む）

【課題】比誘電率が低く、かつ、ＣＭＰ耐性および薬液耐性に優れた絶縁膜を形成することができるポリマーおよびその製造方法、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される少なくとも１種のシラン化合物と、（Ｂ）下記一般式（２）で表される化合物および下記一般式（３）で表される化合物から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物を、（Ｃ）金属キレート化合物または酸触媒の少なくとも一方の存在下で共縮合することを含む。
【化１】


・・・・・（１） （もっと読む）

本発明は、珪素、炭素、酸素及び水素原子を有する少なくとも１つの膜母材前駆体と、少なくとも１つの、Ｒが、直鎖或いは分岐、飽和或いは不飽和炭化水素基若しくは環状飽和或いは不飽和炭化水素基の何れかである式（I）の孔形成化合物か、または、少なくとも１つの次の孔形成化合物の何れかを反応させることを含む、基板への低誘電率ｋの多孔膜を形成する方法であって、少なくとも１つの次の孔形成化合物は、1-メチル-4-（1-メチルエチル）-7-オキサビシクロ［2,2,1］ヘプタン、1,3,3-トリメチル-2-オキサビシクロ［2,2,1］オクタンあるいは1,8-シネオール若しくは1-メチル-4-（1-メチルエテニル）-7-オキサビシクロ［4,1,0］ヘプタンである方法、新規な前駆体混合物及び式（I）の化合物の基板上への低誘電ｋ膜の化学気相堆積での孔形成化合物としての使用に関する。
【化１】

（もっと読む）

【課題】シロキサン系ポリマーの製造において、縮重合過程における反応を制御しながら効率的に進行させることにより、構造が制御されたシロキサン系ポリマーをより効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】トリアルコキシシラン、又はトリアルコキシシランとジアルコキシシランの混合物に、触媒存在下、温度を制御してマイクロ波を照射することにより、ポリシルセスキオキサン、又はシルセスキオキサンとシロキサンの共重合ポリマーを製造する。さらに、ポリシルセスキオキサン、又はシルセスキオキサンとシロキサンの共重合ポリマーに、温度を制御してマイクロ波を照射することにより、これらのポリマーを高分子量化する。 （もっと読む）

【課題】液晶の層間絶縁膜材料にはポジ型の感光特性が要求されるが、材料の安定性、脱ガス、焼成後の透明性などを両立可能な材料の開発が課題とされていた。
【解決手段】アルキルアミノ基を介して、シリコーン化合物にジアゾナフトキノン（ＤＮＱ）を直接結合させた感放射線性化合物を用いる。高感度で、透明性、耐熱性にすぐれた層間絶縁膜形成用感放射線組成物が提供できる。 （もっと読む）

【課題】新規なポリマー、特に、電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な膜形成組成物に用いられるポリマー、さらには膜形成組成物を用いて得られる絶縁膜およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】エチレン性二重結合またはアセチレン性三重結合を分岐末端にもつデンドリマーとケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも２つ以上有する化合物とをヒドロシリル化反応させて得られるポリマー、該ポリマーを含有する膜形成用組成物、該組成物を用いて得られる絶縁膜、及び該絶縁膜を有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】 硬化性および引張物性に優れるシーラントや接着剤として有用なポリオキシアルキレン系重合体および／または（メタ）アクリル酸エステル系重合体、および、該重合体を含有する硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】 一般式（１）：
−（ＳｉＲ^１_２Ｏ）_ｎＳｉＲ^１_２−ＣＲ^２Ｒ^３−ＣＨＲ^４−Ｒ^５−ＳｉＸ_３ （１）
で表される基（ａ）と、一般式（２）：
−（ＳｉＲ^１_２Ｏ）_ｎＳｉＲ^１_２−ＣＲ^４（ＣＨＲ^２Ｒ^３）−Ｒ^５−ＳｉＸ_３ （２）
で表される基（ｂ）とを有し、（ａ）と（ｂ）の比率（ａ／ｂ）が、ｍｏｌ比で平均して９９／１〜７５／２５であるポリオキシアルキレン系重合体および／または（メタ）アクリル酸エステル系重合体（式中、Ｒ^１は炭化水素基またはトリオルガノシロキシ基。Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は水素原子又は炭化水素基。Ｒ^５は２価の炭化水素基または直接結合。Ｘは水酸基または加水分解性基。ｎは０から１００の整数）。 （もっと読む）

【課題】 高温多湿条件下での復元性に優れるシーラントや接着剤として有用なポリオキシアルキレン系重合体、および、該重合体を含有するパネル用接着剤を提供すること。
【解決手段】 一般式（１）：
−（ＳｉＲ^１_２Ｏ）_ｎＳｉＲ^１_２−Ｒ^２−ＳｉＸ_３ （１）
（式中、Ｒ^１は炭化水素基またはトリオルガノシロキシ基。Ｒ^２は２価の炭化水素基。Ｘは水酸基または加水分解性基。ｎは０から１００の整数）で表される基を有し、１本以上の分岐鎖を有するポリオキシアルキレン系重合体。 （もっと読む）

【課題】感光性を有し、架橋剤を含有させずとも、アルカリ現象可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】下記の一般式（１）で表わされる構造を有し、Ｒ₁₁〜Ｒ_1nの内１つがＨであり、残りが有機基である１種のポリマー（Ａ１）を含むシリコン含有ポリマーと、活性光線もしくは放射線の放射により、酸または塩基を発生する化合物とを含むシリコン含有感光性組成物。
（もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜に適した、誘電率特性、膜強度に優れた組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物。


式中、Ｒ¹は水素原子または非加水分解性基を表し、Ｘは加水分解性基を表す。Ｒ²は水素原子または置換基を表す。ｍは３または４であり、ｎは０〜３の整数であるが、式（Ｉ）で表される分子内には、Ｘとして少なくとも１つの加水分解性基が存在する。Ｒ¹、Ｒ²、Ｘの各々について、複数存在するときは同じでも異なっていてもよい。 （もっと読む）

【課題】 耐エッチング性、耐薬品性、及び耐湿性に優れ、密着性が良好であり、しかも誘電率の低いシリカ系被膜、該シリカ系被膜の形成に好適なシリカ系被膜形成用材料等の提供。
【解決手段】 本発明のシリカ系被膜形成用材料は、ＣＨｘ、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合、Ｓｉ−ＣＨ_３結合、及びＳｉ−ＣＨｘ−結合を構造の一部に有するシリコーンポリマーを含む。ｘは、０〜２の整数を表す。シリコーンポリマーが一般式（１）〜（３）で表されるシリコン化合物と、一般式（４）〜（７）で表されるシリコン化合物とを加水分解縮重合反応させて得られる態様等が好ましい。
【化１３】


【化１４】


一般式（１）〜（７）中、ｎは０又は１を表す。Ｒ^１はｎ＝０のとき、塩素、臭素、フッ素及び水素のいずれかを表し、ｎ＝１のとき、炭素数１〜４の炭化水素、芳香族炭化水素、水素、カルボキシル基のいずれかを表す。Ｒ^２は炭素数１〜４の炭化水素、芳香族炭化水素、及び水素のいずれかを表す。Ｒ^３は炭素数１〜３の炭化水素及び芳香族炭化水素のいずれかを表す。 （もっと読む）

【課題】実質的な硬化性低下を伴なうことなく、硬化物の非着色性を改善できる硬化性組成物を提供する
【解決手段】 ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物（Ａ）、１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有する化合物（Ｂ）、ヒドロシリル化触媒（Ｃ）含有する硬化性組成物に、特定の亜リン酸系化合物（Ｄ）を含有させる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、低誘電性に優れた新規な可溶性のポリヘドラルシルセスキオキサンを提供し、そのポリヘドラルシルセスキオキサンによって形成された膜により、所要の透明性、耐熱性、表面硬度、密着性を満たすとともに、リワーク性に優れ、また下地基板上に形成されたカラーフィルターの段差を平坦化する性能に優れた光デバイス用保護膜を形成しうる硬化性樹脂組成物、該組成物から形成された保護膜、ならびに該保護膜の形成方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるポリヘドラルオルガノシルセスキオキサン、およびこれより得られる膜
【化１】


〔式（１）中、RPｈ基はRで置換されたフェニル基を表し、Ｒは炭素数１〜２０のアルキル基、あるいは、オリゴジメチルシロキサニル基などのオリゴシロキサニル基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】 不純物としてのアルカリ金属イオンの含有量の少ないシリコーンレジンを効率よく得るための精製方法を提供する。
【解決手段】 アルカリ金属触媒により平衡化反応させたシリコーンレジン等の不純物として、ナトリウムイオン、カリウムイオン、セシウムイオン等のアルカリ金属イオンを含有するシリコーンレジンを、ケイ酸アルミニウム粉体、ケイ酸粉体、ケイ酸マグネシウム粉体等の固体状塩基吸着剤により処理することを特徴とするシリコーンレジンの精製方法。 （もっと読む）