【課題】 不純物としてのアルカリ金属イオンの含有量の少ないシリコーンレジンを効率よく得るための精製方法を提供する。
【解決手段】 アルカリ金属触媒により平衡化反応させたシリコーンレジン等の不純物として、ナトリウムイオン、カリウムイオン、セシウムイオン等のアルカリ金属イオンを含有するシリコーンレジンを、ケイ酸アルミニウム粉体、ケイ酸粉体、ケイ酸マグネシウム粉体等の固体状塩基吸着剤により処理することを特徴とするシリコーンレジンの精製方法。 （もっと読む）

本発明は、（Ｂ）天然又は合成ゴムのような少なくとも１種のエラストマー；（Ｃ）補強充填剤のような無機充填剤；（Ｄ）特に１種（又は１種以上）の加硫剤を含めて一般的に使用される成分又は添加剤の全て又は一部を含むゴム組成物において、無機充填剤−エラストマーのカップリング剤としての有機珪素化合物を含むカップリング剤（Ａ）の有効量を使用すること関するものである。該使用は、該カップリング剤（Ａ）が次の成分（ｉ）及び（２ｉ）：（（ｉ）は、次式（Ｉ）：［（Ｇ⁰）₃ＳｉＯ_1/2］_m［（Ｇ⁰)₂ＳｉＯ_2/2］_n ［Ｇ⁰ＳｉＯ_3/2］_o［ＳｉＯ_4/2］_p［（Ｇ²）_a（Ｇ¹）_a'（Ｚ−ＣＯ−Ｎ＝Ｎ−ＣＯ−Ａ）ＳｉＯ_(3-a-a')/2］_q（式中、Ｚ、Ｇ¹、Ｇ²、Ｇ⁰、ａ、ａ’、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ及びｑは請求項１に定義されるものである。）に相当する少なくとも１種の官能化シロキサンであり、（２ｉ）は、少なくとも１種の官能化シロキサン（ｉ）と、式Ｉ（式中、ｍ＝ｎ＝ｏ＝ｐ＝０（ゼロ）であり、ｑ＝１であり、ａ＝０、１、２又は３であり、合計ａ＋ａ’＝３である。）に相当する少なくとも１種の官能化オルガノシランである。）を含む官能化有機珪素化合物であること、及び該カップリング剤（Ａ）がイソプレンエラストマーから作られたゴム組成物中に取り入れられることを特徴とする。 （もっと読む）

2種の異なるジハロシランおよび1種のトリハロシランの混合物を、有機液体媒体中でアルカリ金属カップリング剤と反応させることによって、分岐状ポリシランコポリマーがウルツ型カップリング反応経由で調製される。この分岐状ポリシランコポリマーは、反応混合物から回収される。キャッピングされた分岐状ポリシランコポリマーは、この反応混合物へのキャッピング剤の添加によって、同じウルツ型カップリング反応経由で調製される。キャッピング剤は、モノハロシラン、モノアルコキシシラン、ジアルコキシシラン、またはトリアルコキシシランである。分岐状ポリシランコポリマーおよびキャッピングされた分岐状ポリシランコポリマーは、有機液体媒体に可溶性である。 （もっと読む）

【課題】反応における多分散性を改良するＳｉ−Ｈ官能性シロキサンオリゴマーを調製するための新規な反応機構の提供。
【解決手段】水素化シリコン化合物と環状シロキサンオリゴマーとの間の反応に基づくＳｉ−Ｈ官能性シロキサンオリゴマーの製造方法であって、水素化シリコン中の水素と相互に作用し、環状シロキサンオリゴマーの中の開環を促進できるルイス酸の存在下で、ケイ素原子と水素原子との間へのシロキサンオリゴマー部分を挿入させ、Ｓｉ−Ｈ官能性シロキサンオリゴマーを形成させる方法。 （もっと読む）

本発明は、亜臨界条件の下にシリカ／ラテックスハイブリッドの均質なキセロゲル及びエーロゲルの製造方法に関係する。酸−塩基触媒の存在下でこれらのアルコゲルの二段階合成において、シリコンアルコキドの加水分解と重縮合は過剰の水を含有する有機媒体中において行われる。ポリブチルメタクリレート及びポリブチルアクリレートからなるラテックスはアルコキシシラン基で修飾されて最初に合成され、次いでシリコンアルコキシドで共加水分解を受ける第一の段階においてか又は予め加水分解されたコロイド状シリカと共縮合する第二の段階のいずれかにおいて混合物に取り込まれる。生成したアルコゲルは熟成され、洗浄され、そして亜臨界条件下に乾燥される。この操作により、０．１〜５０重量％のラテックスを含み、３００〜１３００ｋｇ／ｍ^３の密度、４０〜８５％の多孔性、４００〜９００ｍ^２／ｇの比表面積及び２〜１２ｎｍの平均孔直径を持つハイブリッド製品が得られる。この製品は、大気中の湿度及び湿気に耐え、相当する無機物質より優れた機械的性質を持ち、断熱材、遮音材及び電気的絶縁体として使用することができる。
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【課題】 低い誘電率の絶縁材料を形成できる化合物、該化合物を含有する絶縁材料形成用組成物、該組成物より得られる絶縁材料を提供する。
【解決手段】下記一般式(１)で表される化合物、その加水分解物および／または縮合物を含有することを特徴とする絶縁材料形成用組成物。
【化１】


一般式（１）中、Ｒ₁〜Ｒ₈は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はシリルオキシ基を表わす。ただし、Ｒ₁〜Ｒ₈で表される基のうち少なくとも１つは、置換基として下記一般式（２）で表わされる基を有するアルキル基、アリール基、アルコキシ基又はシリルオキシ基を表わす。
【化２】


一般式（Ｓ２）中、Ｘは加水分解性基を表し、Ｒ₉はアルキル基、アリール基又はヘテ
ロ環基を表す。ｍは１〜３の整数を表わす。 （もっと読む）

【課題】 低い誘電率かつ高い機械的強度を有する絶縁膜を形成可能な絶縁材料形成用組成物を提供する。
【解決手段】 一般式（１）で表される化合物、その加水分解およびその縮合物から選ばれる少なくとも１種以上のシラン化合物を、置換または無置換のアンモニウム塩存在下で加水分解、縮合して得られる化合物を含有する絶縁材料形成用組成物の製造方法。
【化１】


一般式（１）中、Ｘ¹は、加水分解性基を表し、Ｒ¹は、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、ｎ₁は１〜３の整数を表し、ｍ₁は２以上の整数を表す。Ｌ¹は単結合または２価の連結基を表し、Ａは、かご型構造を含有する基を表す。 （もっと読む）

【課題】 低い誘電率を有する絶縁膜を形成可能な絶縁材料形成用組成物および当該組成物より得られる絶縁膜。
【解決手段】 一般式（１）で表される化合物、その加水分解およびその縮合物から選ばれる少なくとも１種以上のシラン化合物に、一般式（２）で表される化合物を添加して、加水分解、縮合して得られる化合物を含有することを特徴とする絶縁材料形成用組成物。
【化１】


一般式（１）中、Ｘ¹は、加水分解性基を表し、Ｒ¹は、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、ｎ₁は１〜３の整数を表し、ｍ₁は２以上の整数を表す。Ｌ¹は、単結合または２価の連結基を表し、Ａは、かご型構造を含有する基を表す。
【化２】


一般式（２）中、Ｘ₂は、加水分解性基を表わし、Ｒ₂〜Ｒ₄は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基又はビニレン基を表わす。 （もっと読む）

【課題】 アウトガス成分が少なく、透明性に優れ、その硬化物が高度の耐熱性を持ち、耐塩基性、耐クラック性に優れ、電気・電子材料等に有用なケイ素含有硬化性組成物の提供。
【解決手段】 （Ａ）成分として、下記の（α）成分及び（β）成分のそれぞれから選ばれる１種以上を、ヒドロシリル化反応して得られる１分子中に２個以上のＳｉ−Ｈ基を含有するプレポリマー（Ａ）と、（Ｂ）成分として、Ｓi −Ｈ基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に２個以上含有する環状シロキサン化合物（Ｂ）と、（Ｃ）成分として、ヒドロシリル化触媒（Ｃ）を含有することを特徴とするケイ素含有硬化性組成物。 （α）成分： 下記の式（１）で示される、１分子中に２個以上のＳｉ−Ｈ基を含有する環状シロキサン化合物。


（β）成分： Ｓi −Ｈ基との反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に２個以上含有する化合物。 （もっと読む）

【課題】 誘電率が低く、機械的強度が高い絶縁材料を提供できる化合物、及び該化合物を用いた絶縁材料形成用組成物、当該組成物より得られる絶縁膜などの絶縁材料を提供する。
【解決手段】 アダマンタン構造に連結基を介してケイ素を含有する基が置換した特定の化合物を加水分解及び／または縮合して得られるケイ素酸素架橋化合物、及び該化合物を用いた絶縁材料形成用組成物、当該組成物より得られる絶縁材料。 （もっと読む）

本発明は、式（１−０）で示されるシルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体である。


Ｒ^０；水素，アルキル，シクロアルキル，アリール，アリールアルキル、
Ｒ^１；塩素，Ｒ^０，−ＣＮを有する基、
Ｘ ；反応性の基又はＲ^１（ただしＸの少なくとも２つは反応性の基）
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本発明は、式（１−０）で示されるシルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体である。


Ｒ^０；水素，アルキル，シクロアルキル，アリール，アリールアルキル、
Ｙ ；式（ａ）又は式（ｂ）で示される基、 Ｚ；−Ｏ−，−ＣＨ_２−，単結合、
Ｘ ；反応性の基又はＲ^０（ただしＸの少なくとも１つは反応性の基）
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【課題】
物性向上のための新規なエチレン性不飽和基含有ケイ素化合物と、低カールでクラックの発生が少なく硬化塗膜は硬度が高い感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
エチレン性不飽和基含有モノカルボン酸（１）とエポキシ基含有ケイ素化合物（２）との反応物であるエチレン性不飽和基含有ケイ素化合物（Ａ）。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：下記一般式（８）；
ＳｉＸ_４ …（８）
（式中、Ｘは加水分解性基を示す。）
で表される化合物、一般式（８）で表される化合物の多量体、及び／又は一般式（８）で表される化合物の部分縮合物を必須成分として加水分解縮合して得られる樹脂を含むシロキサン樹脂、
（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び
（ｃ）成分：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有してなるものである。 （もっと読む）

本発明は、アクリル機能性樹脂に関する。特に、本発明は、光開始剤を用いて紫外線に暴露させることにより、またはフリーラジカル発生剤を用いて、もしくは用いずに、加熱によって、硬化可能であるポリ[オルガノ-コ-（メタ）アクリルオキシヒドロカルビレン]シルセスキオキサン樹脂に関する。該樹脂組成物は、室温における高い貯蔵安定性を有し、且つ、平坦化層、層間絶縁膜、保護層、ガス透過性層、ネガ型フォトレジスト、反射防止コーティング、及び絶縁保護コーティング、並びにＩＣ実装用として有用な膜を造成する。 （もっと読む）

Ｎ−カルバゾリルアルキル基及び加水分解性基を有する硬化性のカルバゾリル官能基含有シクロシロキサン、前記硬化性のカルバゾリル官能基含有シクロシロキサンを含むシリコーン組成物、前記シリコーン組成物を硬化させることによって調製される硬化したカルバゾリル官能基含有ポリシロキサン、及びカルバゾリル官能基含有ポリシロキサンを含む有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）。 （もっと読む）

【課題】絶縁膜中に規則的で均一なナノ気孔を形成させ得る新規星型高分子物質の提供。
【解決手段】アルコキシシラン末端基を有し、中心部にエーテル基を有する式（Ｉ）で表される星型高分子を気孔誘導体として用いると、規則的で均一に分布されたナノ気孔を有する低誘電性シリケート高分子薄膜が得られる。前記星型高分子は、環状モノマーを多価アルコールと開環重合させた後、得られた高分子をアルコキシシラン化合物と反応させることによって製造される。 （もっと読む）