【課題】太陽電池の光吸収層を形成するためのＣｕ−Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ四元系合金膜を形成するときに使用するＣｕ−Ｉｎ−Ｇａ三元系焼結合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｉｎ：４０〜６０質量％、Ｇａ：１〜４５質量％を含有し、残部がＣｕからなる成分組成を有するＣｕ−Ｉｎ−Ｇａ三元系焼結合金スパッタリングターゲットであって、このスパッタリングターゲットの素地中に分散しているＩｎ含有合金相の最大粒径が１０μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面を絶縁性の高い酸化物で被覆してなり、例えば、長期にわたって渦電流損失が小さく、高透磁率の圧粉磁心を製造可能な酸化物被覆軟磁性粉末を安価に製造することができる酸化物被覆軟磁性粉末の製造方法、かかる製造方法により製造された酸化物被覆軟磁性粉末、およびこの粉末を用いて製造され、高透磁率で耐久性に優れた安価な圧粉磁心、およびこの圧粉磁心を備えた高性能の磁性素子を提供すること。
【解決手段】チョークコイル１０は、圧粉磁心１１と導線１２とを有する。圧粉磁心１１は、酸化物被覆軟磁性粉末と結合材とを混合し、加圧・成形して得られたものである。この酸化物被覆軟磁性粉末は、Ｆｅを主成分とする軟磁性材料の溶湯を、軟磁性材料の融点より２００℃以上高温に設定し、１０ｇ／ｍ^３以上の水蒸気を含む雰囲気下でアトマイズ法に供することにより、粉末化された溶湯の表面を酸化させて酸化物を生成することにより製造される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、垂直磁気記録媒体における中間層膜として用いるＮｉ−Ｗ−Ｂ系スパッタリングターゲット材合金およびこれを用いて製造した薄膜を提供する。
【解決手段】 ａｔ％で、Ｗ：１〜２０％，Ｂ：０．１〜１０％を含み、残部Ｎｉおよび不可避的不純物からなる垂直磁気記録媒体における中間層膜製造用Ｎｉ−Ｗ−Ｂ系スパッタリングターゲット材。また、上記スパッタリングターゲット材をガスアトマイズ法により作製した原料粉末を固化成形したことを特徴とする垂直磁気記録媒体における中間層膜製造用Ｎｉ−Ｗ−Ｂ系スパッタリングターゲット材の製造方法。さらに上記のスパッタリングターゲット材を用いて製造したＮｉ−Ｗ−Ｂ系薄膜。 （もっと読む）

【課題】溶解性に優れ、不純物の含有量が少ない銅電解液の原料として好適な粗銅粉を効率よく製造することができる銅電解液原料の製造方法、及びこれを用いて精製銅を効率よく製造することができる銅の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、粉体化工程と、銅粉溶解工程と、濾過工程と、電解工程とを含む銅の製造方法で用いられる銅電解液原料を製造する方法であって、粗銅を粉体化処理して粗銅粉とする銅電解液原料の製造方法である。該粉体化処理が、アトマイズ法である態様、該アトマイズ法が水アトマイズ法である態様などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】有用な貴金属を早期に回収でき、その有効利用が図れ、不純物を電解前に除去することができ、粗銅粉を用いることにより銅の溶解効率が向上し、硫酸を繰り返し使用して効率よく電気銅を製造することができる銅の製造方法の提供。
【解決手段】粗銅粉を、酸化剤及び硫酸を含む液に溶解させて銅溶解液を作製する銅粉溶解工程と、前記銅溶解液を濾過し、濾液と貴金属を含む一次残渣を得る濾過工程と、前記濾液を銅電解液とし、該銅電解液を電解して電気銅を製造する電解工程と、を含むことを特徴とする銅の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】磁気特性に優れた、具体的には鉄損が小さい軟磁性粉体、軟磁性成形体およびそれらの製造方法を提供することにある。
【解決手段】軟磁性粉体１は、Ａｌ、Ｓｉ等とＢとを含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなることを特徴とする。また、軟磁性粉体１ａは、Ａｌ、Ｓｉ等とＢとを含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる粉体本体部２ａと、粉体本体部２ａの表面を被覆するＡｌ、Ｓｉ等の酸化物からなる酸化物被膜３ａとを備える。さらに、軟磁性粉体１ｂは、Ａｌ、Ｓｉ等を含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる粉体本体部２ｂと、粉体本体部２ｂの表面を被覆するＡｌ、Ｓｉ等の酸化物からなる酸化物被膜３ａおよびＢの酸化物からなる酸化物被膜３ｂとを備える。 （もっと読む）

【課題】高透磁率の圧粉磁心を製造可能な軟磁性粉末、この軟磁性粉末を用いて製造された高透磁率の圧粉磁心、およびこの圧粉磁心を備えた高性能の磁性素子を提供すること。
【解決手段】チョークコイル１０は、トロイダル形状の圧粉磁心１１と、この圧粉磁心１１に巻き回された導線１２とを有する。圧粉磁心１１は、軟磁性粉末と結合材（バインダ）とを混合し、加圧・成形して得られたものである。圧粉磁心１１に用いられた軟磁性粉末は、Ｆｅ、ＳｉおよびＭｎを含み、（ａ）Ｆｅを主成分とするものである、（ｂ）Ｓｉの含有率が１ｗｔ％以上８ｗｔ％以下である、（ｃ）Ｍｎの含有率が０．２ｗｔ％超１ｗｔ％以下である、という各条件を全て満たすものである。また、この軟磁性粉末が、ＡｌおよびＣｒを含むことにより、圧粉磁心１１の耐食性を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】異方性ナノコンポジット磁石の製造の提供。
【解決手段】合金粉末は、ＬＲはＰｒおよびＮｄの少なくとも一方を含み、ＨＲはＤｙおよびＴｂの少なくとも一方を含み、ＴはＦｅおよびＣｏの少なくとも一方を含みＦｅを必ずＴの６０ａｔ％以上を含む遷移金属元素、ＱはＢおよびＣの少なくとも一方を含みＢを必ずＱの５０ａｔ％超含む元素とすると、ＬＲ＋ＨＲが全体の７ａｔ％以上１５ａｔ％以下、ＨＲが（ＬＲ＋ＨＲ）の１０ａｔ％以上２０ａｔ％未満、Ｑが全体の４ａｔ％以上１０ａｔ％以下、残部がＴ、またはＴおよびＴの５ａｔ％以下のＭと、不可避不純物とを含む組成を有し、Ｎｄ_２Ｆｅ_１７Ｂ_ｘ型化合物相を６０ｖｏｌ％以上、Ｎｄ_２Ｆｅ_１４Ｂ型化合物相を１０ｖｏｌ％以下、ＨＲＦｅ_２相およびα−Ｆｅ相の合計を３０ｖｏｌ％未満含み、且つ、Ｎｄ_２Ｆｅ_１７Ｂ_ｘ型化合物相の平均結晶粒径が２μｍ以上の組織を有する合金粒子を８０ｖｏｌ％以上含む。 （もっと読む）

【課題】高強度な割に高延性なＡｌ−Ｚｎ−Ｍｇ−Ｃｕ系の７０００系Ａｌ合金を提供することを目的とする。
【解決手段】Ａｌ−Ｚｎ−Ｍｇ−Ｃｕ系の７０００系Ａｌ合金溶湯を、不活性ガスによって、好ましくはスプレイフォーミングし、急冷凝固させたプリフォーム体を固化させたＡｌ合金であって、このＡｌ合金に含まれる酸素量を減らして、介在物が無い組織とし、常温での機械的な特性として、６００ＭＰａ以上の引張強度を有し、かつ、引張強度が６００ＭＰａ以上、８００ＭＰａ未満の場合には１５％以上の伸びを有するとともに、引張強度が８００ＭＰａ以上の場合には１０％以上の伸びを有するものとし、転造などの冷間加工性に優れたＡｌ合金とする。 （もっと読む）

【課題】長期にわたる耐食性に優れるとともに、損失（鉄損）が小さい低損失の圧粉磁心を製造可能な軟磁性粉末、この軟磁性粉末を用いて製造された耐食性に優れた圧粉磁心、およびこの圧粉磁心を備えた磁性素子を提供すること。
【解決手段】チョークコイル１０は、トロイダル形状の圧粉磁心１１と、この圧粉磁心１１に巻き回された導線１２とを有する。圧粉磁心１１は、軟磁性粉末と結合材（バインダ）とを混合し、加圧・成形して得られたものである。圧粉磁心１１に用いられた軟磁性粉末は、Ｆｅ、ＳｉおよびＣｒを含み、（ａ）Ｆｅを主成分とするものである、（ｂ）Ｓｉの含有率が１ｗｔ％以上８ｗｔ％以下である、（ｃ）Ｃｒの含有率が８ｗｔ％超１３ｗｔ％以下である、（ｄ）アトマイズ法により製造されたものである、（ｅ）平均粒径が５〜３０μｍである、（ｆ）タップ密度が３．５ｇ／ｃｍ^３以上である、という各条件を全て満たすものである。 （もっと読む）

【課題】均一なサイズの活性金属のマイクロボール、並びにその製造方法を提供する。更にその表面を不動態膜で覆うことにより、大気中で安定なマイクロボールを提供する。
【解決手段】坩堝１０に活性金属を充填すると共に、マイクロボール回収皿１９をオリフィス１７の下側に挿入して、ゲートバルブ２０を閉じる。坩堝１０内、回収皿１９を挿入した空間、及びマイクロボール取出室２２を真空引きした後、不活性ガスを導入する。その後、加熱装置１３で加熱して活性金属を溶解してから、圧電アクチュエータ１１に圧電パルスを印加して、オリフィス１７から活性金属溶湯を噴射させる。噴射した溶湯は、オリフィス１７の口径とほぼ同じ大きさのマイクロボールとなって、回収皿１９に回収される。 （もっと読む）

【課題】導電性に優れた銅粉末およびその製造方法を提供する。
【解決手段】硼素を０．０１〜０．１ｗｔ％含有する銅粉末。また、溶融した銅に、含有量が０．０１〜０．１ｗｔ％となるように硼素を添加後、アトマイズ法により粉末化した銅粉末の製造方法。また、このようにして得られた銅粉末を用いて、電気回路基板上に電気回路をパターンニング形成する。 （もっと読む）

【課題】はんだ付けに際してはんだ部分にボイド発生の少ないＡｕ−Ｇｅ合金はんだペーストに関するものであり、さらにこのＡｕ−Ｇｅ合金はんだペーストはＡｕメッキしてある基板をはんだ付けするために特に有効なＡｕ−Ｇｅ合金はんだペーストを提供する。
【解決手段】Ｇｅ：１０．５〜１５．５質量％を含有し、残りがＡｕおよび不可避不純物からなる組成を有するガスアトマイズＡｕ−Ｇｅ合金粉末を８０〜９８質量％含有し、残部がノンハロゲンフラックスからなり、前記ノンハロゲンフラックスは、水酸基を４〜６個有する糖類を含む還元性固体活性剤、イソボルニル基を含有する化合物を含む高粘性溶剤および低粘性溶剤を含有する。 （もっと読む）

【課題】既存のものよりも保磁力差の小さい、酸化物含有Ｃｏ系合金磁性膜、該磁性膜を形成し得るターゲット材およびスパッタリングターゲット、該ターゲット材の製造方法を提供する。
【解決手段】Ｆｅ含量が１００ｐｐｍ以下である、酸化物含有Ｃｏ系合金磁性膜および酸化物含有Ｃｏ系合金ターゲット材、該ターゲット材がバッキングプレートに接合されてなるスパッタリングターゲット、ならびに、Ｃｒ鋳塊を、Ｃｏ鋳塊およびＣｏ粉末から選ばれる少なくとも１種のＣｏ原料と共に溶融してＣｏ−Ｃｒ合金を調製した後、該Ｃｏ−Ｃｒ合金をアトマイズ法により処理してＣｏ−Ｃｒ合金粉末を得て、該Ｃｏ−Ｃｒ合金粉末と、Ｐｔ粉末および酸化物粉末とを混合して混合粉末を得て、該混合粉末を成形した後に焼成するか、あるいは成形すると同時に焼成する、酸化物含有Ｃｏ系合金ターゲット材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハや電子回路等の基板に形成された配線や電極等の下地層又はパッド、特に銅又は銅合金からなる下地層又はパッドの上にＳｎ−Ｐｂ系ハンダバンプを形成するに際し、該Ｓｎ−Ｐｂ系ハンダバンプとの濡れ性が良好であると共に、該Ｓｎ−Ｐｂ系ハンダの成分であるＳｎの拡散を抑制し、前記下地層との反応を効果的に防止することのできるバリヤー層を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ｎｉ−Ｓｎ合金スパッタリングターゲットであって、下地層又はパッドとＳｎ−Ｐｂ系ハンダバンプとの間におけるＳｎ拡散を抑制することを特徴とするバリヤー層形成用ニッケル合金スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】より大きな粒径のアモルファス金属粉末を、効率よく製造することができる金属粉末製造装置、かかる金属粉末製造装置により製造された金属粉末、およびかかる金属粉末を成形してなる成形体を提供すること。
【解決手段】金属粉末製造装置（アトマイザ）１は、溶融金属Ｑをアトマイズ法により粉末化して、多数の金属粉末Ｒを得るために用いられるものである。この金属粉末製造装置１は、溶融金属Ｑを供給する供給部（タンディシュ）２と、供給部２の下方に設けられた液体噴出部３と、液体噴出部３の下方に設けられたノズル６および筒状体９Ａとを有している。ノズル６は、液体ジェットＳ４（第２の液体）を噴射するオリフィス６４を有しており、この液体ジェットＳ４に、分散液Ｃ１が衝突すると、分散液Ｃ１の進行方向は、強制的に変化することとなる。すなわち、ノズル６は、分散液Ｃ１の進行方向を変化させる進行方向変更手段を構成する。 （もっと読む）

【課題】塗布性に優れ、ろう付後の製品の寸法精度が良好で、エロージョンが生じにくく、ろう付後のろう付部（フィレット）の外観が良好であるアルミニウムろう付用ペースト状組成物、それが塗布されたアルミニウム含有部材、および、それを用いたアルミニウム含有部材のろう付方法を提供する。
【解決手段】アルミニウムろう付用ペースト状組成物は、アルミニウム含有粉末を含むアルミニウムろう付用ペースト状組成物であって、アルミニウム含有粉末の累積粒度曲線において、Ｑ容量％に対応する粒径ＤμｍをＤ（Ｑ）μｍと表した場合、Ｄ（５０）μｍが２０μｍ以上、１５０μｍ以下、かつ、Ｄ（９０）μｍ／Ｄ（１０）μｍの値が５以下であり、目開き４５μｍの篩目を通過するアルミニウム含有粉末中の粒子の質量割合が５０％以下であり、アルミニウム含有粉末の流動度が８０秒／５０ｇ以下である。 （もっと読む）

【課題】低比重であると共に耐熱性及び耐軟化性を有する高強度・低比重アルミニウム合金を提供すること。
【解決手段】Ｍｇ：１〜１５％（ｍａｓｓ％、以下同様）及びＦｅ：０．３〜１０％を含有し、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｎｂ、Ｍｏからなる第１成分群から１種以上の元素を、個々の含有量が０．２〜８％、第１成分合計含有量（Ｘ％）が０．２〜１０％の範囲となるよう含有し、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｃからなる第２成分群から１種以上の元素を、個々の含有量が０．０３〜５％、第２成分合計含有量（Ｙ％）が０．０３〜８％の範囲となるよう含有し、残部が不可避的不純物及びアルミニウムよりなる。Ｆｅの含有量（Ｆｅ％）と、上記第１成分群の各元素含有量（ｘ％）と、上記第２成分群の各元素含有量（ｙ％）とが、Ｆｅ≧ｘ≧ｙの関係にあり、比重が２．７以下である。 （もっと読む）

【課題】 小さな寸法変化率と良好な延性と低い凝集性とを有する金属粉末を提供する。
【解決手段】 水ジェットカーテンの噴射水流を噴射させる環状噴射スリット２を下向きに配置して中心軸に沿って溶融金属流を流下させる工程と、噴射水流が通過しない水ジェットカーテンの括れ状空洞７が形成されるように下降角度θと旋回角度ωとを有する向きへ水を噴射させる工程とを備えて一葉双曲面状水ジェットカーテンの噴射水流１２を発生させて金属粉末を製造する水アトマイズ法を採用し、下降角度θを0〜30°、旋回角度ωを1〜20°とし、水の圧力を90〜150MPa及び水の流量を300〜800L/minとし、50%径が0.1〜5μm、球形度が0.6〜0.9、粒度幅指数が１以下、比酸素量が0.5〜7mg/m²、比水分量が1mg/m²以下である金属粉末を得る。 （もっと読む）

【課題】保磁力に優れ、媒体ノイズの少ないＣｏ系合金磁性膜をスパッタリング法によって形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】クロム、ニッケル、タンタルおよびプラチナの金属元素のうち１種以上と残部がコバルトとの合金からなる合金相と、酸素、窒素および炭素のうち少なくとも１種の元素と、これらの元素に対して親和力のあるシリコン、アルミニウム、ホウ素、チタン、およびジルコニウムのうち少なくとも１種の元素との化合物からなるセラミックス相の微細均質分散混合相からなるスパッタリングターゲット。 （もっと読む）