【課題】通常の湿度環境下で長期間保管しても潤滑特性が低下しない転動要素を得る。
【解決手段】本発明の転動要素は、鉄基合金の表面に真空技術を適用した膜形成法で作製された銀または金及びそれらの合金からなる固体潤滑膜が被覆された転動要素であり、前記転動要素に前記固体潤滑膜を被覆後、大気中に取り出す前に真空室内を乾燥した気体で置換することで作製されたものである。 （もっと読む）

【課題】抵抗性メモリ素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】抵抗性メモリ素子は、トランジスタのソース２０２またはドレイン２０３上の層間絶縁膜２０６を貫通して形成されたコンタクトプラグ２０７と、コンタクトプラグ２０７に接続された下部電極２１と、下部電極２１上に遷移金属固溶体で形成された固溶層２４と、固溶層２４上に形成された遷移金属酸化物による抵抗層２２と、抵抗層２２上に形成された上部電極２３と、を備える。これにより、電圧及び抵抗特性が安定化した信頼性のあるメモリ素子を具現できる。 （もっと読む）

【課題】反射率が小さく、透過率が高い優れた反射防止膜を有するだけでなく、プラスチック基材上における、耐衝撃性、密着性、耐熱性、耐摩耗性及び耐アルカリ性に優れ、生産性も良好な光学部材を提供すること。
【解決手段】プラスチック基材と、真空蒸着で形成された多層反射防止膜とを有する光学部材であって、反射防止膜中の少なくとも１層が、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化イットリウム及び酸化ニオブから選ばれる少なくとも１種の無機物質と、常温、常圧下で液体であるケイ素非含有有機化合物とを蒸着原料として、形成されるハイブリッド層である光学部材である。 （もっと読む）

【課題】 リン酸塩ガラス等の、反応性が強く軟化温度が高いガラスの繰り返し成形においてもガラスと成形型の離型性が良好で、種々の光学ガラス素子成形型基材とコーティング層との密着強度が高く、耐久性に優れ、かつ、コーティング層の劣化及び変色を抑制した光学ガラス素子成形型を提供すること。
【解決手段】 光学ガラス素子成形型基材の光学ガラス素子成形面に
１〜１０ｗｔ％のモリブデン（Ｍｏ）、
１０〜３０ｗｔ％のレニウムＲｅ、
１〜１５ｗｔ％のロジウム（Ｒｈ）及び／又はルテニウム（Ｒｕ）、
４０〜８５ｗｔ％のイリジウム（Ｉｒ）と白金（Ｐｔ）、及び
０〜５ｗｔ％の金（Ａｕ）
を含有するコーティング層を積層する。 （もっと読む）

【課題】初期反射率がAl並の８８％以上であり、かつ、耐凝集性及び耐硫化性に優れたAg合金薄膜およびこのAg合金薄膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】[1] AuまたはAu、Bi、Snの２種以上を含有するAg合金薄膜であって、式(1) ：5.28[Bi]＋0.15[Au]＋1.14[Sn]≦8.7 、式(2) ：1.0 ≦10[Bi]＋[Au]、式(3) ：2.0 ≦[Sn]＋２[Au]⁴ を満足すると共に、130 〜200 ℃の不活性ガス雰囲気中で熱処理されていることを特徴とするAg合金薄膜、[2] このAg合金薄膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットであって、AuまたはAu、Bi、Snの２種以上を含有すると共に、式(4) ：2.64[Bi]＋0.15[Au]＋1.14[Sn]≦8.7 、式(5) ：1.0 ≦５[Bi]＋[Au]、式(6) ：2.0 ≦[Sn]＋２[Au]⁴ を満足することを特徴とするAg合金スパッタリングターゲット。但し、上記式において、[Bi]、[Au]、[Sn]はBi、Au、Snの含有量（原子％）を示すものである。 （もっと読む）

【課題】 従来と比べて担持する物質の使用量を少なくすることによりコストを低減させた担持微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る担持微粒子の製造方法は、内部形状が多角形である真空容器内に、表面に複数の細孔２１を有する微粒子３を収容し、前記真空容器を回転させることにより該真空容器内の微粒子を攪拌あるいは回転させながらスパッタリングを行う担持微粒子の製造方法であって、前記担持微粒子における前記超微粒子又は薄膜は、前記複数の細孔２１内より前記微粒子３の見掛け表面に多く担持されており、前記担持微粒子は、前記超微粒子又は薄膜が担持されていない前記細孔２１を有し、前記担持微粒子は、１次電池の電極触媒、２次電池の電極触媒、燃料電池の電極触媒、１次電池の電極材料、２次電池の電極材料、及び燃料電池の電極材料のうち少なくとも一つに用いられるものである。 （もっと読む）

【課題】金属反射膜層と前記樹脂層とが直接接触する場合でも、優れた耐湿熱性や耐光性などの耐環境性を長期に亙って維持できる、光情報記録媒体用Ａｇ合金反射膜、この反射膜を備えた光情報記録媒体、及び、この反射膜形成用のスパッタリングターゲットを提供することを目的とする。
【解決手段】光情報記録媒体に用いられるＡｇ合金反射膜を、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｙｂから選択される特定の元素を含有させて、Ａｇ合金反射膜と樹脂層とが互いに直接接触させた状態での、反射膜側のＡｇが隣接する樹脂層側へ拡散、凝集する劣化モードを抑制して、耐光性と耐湿熱性との耐環境性を向上させるとともに、この高耐環境性を長期に亙って維持させる。 （もっと読む）

【課題】イリジウム酸化膜の表面上に他の膜を形成した場合に、その他の膜とイリジウム酸化膜との界面における密着性の高い、イリジウム酸化膜、及びその製造方法、また、金属膜とイリジウム酸化膜との界面における密着性の高い電極、誘電体キャパシタ、及び半導体装置、並びにこれらの製造方法を提供する。
【解決手段】（１１０）結晶面が選択的に配向したイリジウム酸化膜である。また、イリジウムを含むターゲットを用い、酸素を含むガスを導入しながらスパッタリングする反応性スパッタリング法により、成膜温度が２７５℃以上４００℃以下の条件およびスパッタ圧力が０．６９Ｐａ（５．２ｍＴｏｒｒ）以上１．０９Ｐａ（８．２ｍＴｏｒｒ）以下の条件下で、イリジウム酸化膜を形成する方法である。 （もっと読む）

【課題】 一般的な成膜方法であるスパッタリング法や蒸着法等の物理的気相成長法において、特殊な処理をしなくても、Ｐｔ−Ｆｅ二元系合金膜よりも低温で規則化することができる磁性薄膜を提供すること。
【解決手段】Ｐｔ ４０〜６０ａｔ％、Ｆｅ ４０〜６０ａｔ％およびＰ ０．０５〜１．０ａｔ％ならびにさらに場合によりＣｕおよび／またはＮｉ ０．４〜１９．５ａｔ％より構成される磁性薄膜およびスパッタリングターゲットまたは蒸着材料。 （もっと読む）

【課題】物理気相成長法における、付加物質の放出方向による制限の緩和ないし抑制を図る。
【解決手段】複合粉体の製造装置１において、筒型の回転ステージ２の内面に粉体１１を載置する工程と、この回転ステージ２を回転させる工程と、この回転ステージ２に内包される位置に、付加物質の供給源３を導入する工程とによって、複合粉体の製造を行い、前記回転では、回転で生じる遠心力により、前記粉体を前記回転ステージに押し付ける。 （もっと読む）

【課題】反射率が高く、湿度や熱によるAgの凝集が発生し難いリフレクター用Ag合金反射膜およびリフレクター並びにリフレクター用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】(1) リフレクター用Ag合金反射膜であって、Agを主成分とし、Ti、Ｖ、Cr、Mn、Mg、Ｗから選ばれる１種以上を合計で３原子％超７原子％以下含有することを特徴とするリフレクター用Ag合金反射膜、(2) このAg合金反射膜においてAu、Pt、Pd、Cuから選ばれる１種以上を合計で0.3 〜２原子％含有しているもの、(3) このAg合金反射膜において波長が650nm の光によって測定される反射率が85％以上であるもの、(4) このAg合金反射膜においてスパッタリング法により形成されているもの、(4) このAg合金反射膜を備えていることを特徴とするリフレクター、(5)このAg合金反射膜の形成用ターゲット等。 （もっと読む）

【課題】パターンエッチングによる加工性が良好で、信頼性が高く消費電力が低い有機ＥＬ表示装置を可能とする導電膜基板を提供する。
【解決手段】導電膜基板を、透明基材と、この透明基材上に順次積層された透明導電膜、中間層および金属層とを備えたものとし、透明導電膜は酸化インジウムスズ膜、中間層はＭｏ層、Ｍｏ合金層および酸化インジウム亜鉛層のいずれか、金属層はＡｇ合金層とし、これにより、透明導電膜と金属層との密着性が良好なものとなり、かつ、透明導電膜に対して中間層と金属層を一括で選択エッチングしてリード部のパターンを形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】有機EL素子などの製造工程で形成される各層における相互汚染を回避でき、しかも、フットプリントも小さく、生産性の高い成膜システムを提供する。
【解決手段】基板に成膜する成膜装置１３であって、処理容器３０の内部に、第１の層を成膜させる第１成膜機構３５と、第２の層を成膜させる第２成膜機構３６を備える。処理容器３０内を減圧させる排気口３１を設け、第１成膜機構３５を、第２成膜機構３６よりも排気口３１の近くに配置した。第１成膜機構３５は、例えば基板に第１の層を蒸着によって成膜させ、第２成膜機構３６は、例えば基板に第２の層をスパッタリングによって成膜させる。 （もっと読む）

【課題】有機EL素子などの製造工程で形成される各層における相互汚染を回避でき、しかも、フットプリントも小さく、生産性の高い成膜システムを提供する。
【解決手段】基板Ｇに成膜する成膜装置１３であって、処理容器３０の内部において、第１の層を成膜させる第１成膜機構３５と、第２の層を成膜させる第２成膜機構３６を備え、第１成膜機構３５は、処理容器３０の内部に配置された、成膜材料の蒸気を基板に供給するノズル３４と、処理容器の外部に配置された、成膜材料の蒸気を発生させる蒸気発生部４５と、蒸気発生部４５で発生させた成膜材料の蒸気をノズル３４に送る配管４６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】純Ａｇからなる反射膜と略同等レベルの初期反射率に到達でき、かつ銀にビスマスを添加した材料からなる耐環境性に優れた反射膜を基板に堆積可能な、真空成膜装置および真空成膜方法を提供する。
【解決手段】真空成膜装置１００は、内部を減圧可能な真空槽２０と、真空槽内において、基板１１を保持する基板ホルダ１２と、基板ホルダ１２にバイアス電圧を印加するバイアス電源Ｖ１と、真空槽内において、銀にビスマスを添加した反射膜用の材料を配置する材料ホルダ１５と、材料ホルダ１５から基板に向けて材料を放出させるとともに材料の放出に際して前記材料をイオン化する材料放出手段と、を備え、イオン化された材料の運動エネルギーをバイアス電圧に基づき増加させるようにして基板１１に材料からなる反射膜が堆積され、反射膜の反射率はバイアス電圧およびビスマスの添加量に基づいて調整される装置である。 （もっと読む）

【課題】結晶化温度よりも低い熱処理温度においても緻密な複合酸化物の結晶微粒子膜が得られる製造方法を提供する。
【解決手段】本複合酸化物の結晶微粒子膜の製造方法は、基板１上に少なくとも１種類のアルカリ土類金属元素とチタンとを含む複合酸化物の結晶微粒子膜２を形成する工程と、結晶微粒子膜２上に貴金属膜３を形成する工程と、貴金属膜３が形成された結晶微粒子膜２を４００℃以上６００℃未満で熱処理する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】金網をマグネトロン電極に一体に固定するため、マグネトロン電極と金網との距離は常に一定であるので、マグネトロン電極と試料との間の高さの調整だけで、金網に電子の突入により生じる温度上昇による試料表面への輻射熱の影響や金網の編みの隙間を通りぬける電子の量などの条件を一定にできる。
【解決手段】減圧可能な試料室と、試料室内に設けられ、磁界発生手段とその下部側に設けられたターゲット金属とを付加した上部陰電極と、試料室内に設けられ、上部陰電極に対向して配置された下部陽電極と、上部陰電極と下部陽電極との間に放電電圧を印加する電源とを備え、試料表面にターゲット金属をスパッタリングにより形成するイオンスパッタリング装置において、上部陰電極の近傍で下部陽電極との間に下部陽電極と同電位の金網が上部陰電極に絶縁して設置し、金網を上部陰電極に連動して上下移動させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低抵抗の金属薄膜の形成方法と金属配線パターンの形成方法、並びに表示パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】スパッタリング方法を用いてガラス基板の上に低抵抗の金属薄膜を形成する場合、不活性ガスと共に含酸素ガスを一定量供給することにより、低抵抗金属薄膜とガラス基板との接着性を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】膜厚ばらつきの調整作業を効率的に行うことが可能であり、また基板５へのパーティクルの付着を防止することが可能な、スパッタ装置を提供する。
【解決手段】ターゲット４２を保持しつつ、基板に対するターゲット４２の傾斜角を調整可能なターゲット位置調整機構４０と、そのターゲット位置調整機構４０とチャンバ３２の壁面との間を封止する封止部材６６とを有し、ターゲット位置調整機構４０とチャンバ３２との摺動部６１が、封止部材６６により封止されたチャンバ３２の外側に配置されている。ターゲット位置調整機構４０は、基板に対するターゲット４２の傾斜角を、チャンバ３２の外側において調整しうるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】発生するプラズマを広範囲に低濃度に分布した状態で輸送して被処理体の均一な処理を行うことができる表面処理装置及びそれによって表面処理される光学素子成形用型を提供すること。
【解決手段】表面処理装置１は、真空チャンバ２と、筒状の絶縁物を介してトリガー電極と接続されたターゲットと、ターゲットの周囲にアーク放電を誘起させるアーク電極とを有し、アーク放電によって生じるプラズマ８を放出する蒸着源１０と、光学素子成形用型母材１１を載置する支持台１２と、磁石１３を有して、蒸着源１０から放出されるプラズマ８の進行方向が、支持台１２の近傍において中心軸線Ｃ方向となるように偏向させる偏向部１５とを備えている。磁石１３は周方向断面が略矩形でリング状に一体に形成された多面体とされている。 （もっと読む）