【課題】
本発明は、このような実情に鑑み、従来より高精度の組成比変化にて、多元化合物を一
度の蒸着にて生成できる装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
発明１の多元化合物作製装置は、一つの蒸着室内に、蒸着材料を蒸発させる材料蒸発機構と、前記材料蒸発機構からの蒸気により蒸着される基材を保持する基材保持部と、この基材保持部と前記材料蒸発機構との間に配置した蒸気通過用開口部を持つマスクと、このマスクを前記基材の蒸着面に沿って移動させるマスク移動機構とを有する多元化合物作製装置であって、前記マスクと基材に蒸着面との間隔を調整する間隔調整手段が設けてあることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板に形成されたホールの内部にスパッタリングにより成膜した貴金属膜の厚みを、ホールの両サイドで対称なものとすることができ、したがって、貴金属膜に断線等の不具合が生じる虞がなく、信頼性をより向上させることができる貴金属膜の成膜装置及び貴金属膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の貴金属膜の成膜装置は、基板２３に形成されたホールの内部に貴金属膜をスパッタリングにより成膜する装置であり、ターゲット２４と、このターゲット２４に対向配置されるステージ２２と、ターゲット２４にスパッタリング電力Ｐ_ｔ（Ｗ）を印加する電源２６とを備え、ターゲットの直径Ｔと、ターゲット２４とステージ２２上の基板２３との距離Ｌとの比Ｌ／Ｔを、０．５以上かつ１．５以下の範囲で変更可能とした。 （もっと読む）

【課題】所望の領域に寸法精度良く薄膜を形成することが可能な薄膜形成方法を得る。
【解決手段】基板上に半導体粒子または導電性粒子からなる薄膜を形成する薄膜形成方法であって、粒子径が１００ｎｍ以下の前記半導体粒子または導電性粒子が分散された分散液を、前記基板の所定の領域に配置する配置工程と、前記分散液を配置した基板を２０ＫＨｚ以上、５０ＭＨｚ以下の周波数で振動させて前記所定の領域以外の領域に存在する前記分散液を除去する振動工程と、前記基板上の分散液の溶媒を除去して前記基板上に前記半導体粒子または導電性粒子からなる薄膜を形成する溶媒除去工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】発電所などの高温環境で使われる部品の磨耗および擦り傷などの損傷を効果的に防止することが可能な、高温用部品の潤滑コーティング装置を提供すること。
【解決手段】高温用部品がセットされるセッティング部、および前記高温用部品に対するスパッタリング空間を形成する蓋を備えたチャンバーと、前記セッティング部にセットされた高温用部品を回転駆動させる回転駆動手段と、前記チャンバーのスパッタリング空間を真空に保つための真空ポンプと、前記チャンバーのスパッタリング空間を不活性気体雰囲気に造成するための不活性気体供給部と、前記蓋の上面部と前・後面部に前記高温用部品を向いて複数設置されたターゲットと、前記ターゲットに対応するように前記蓋の上面部と前・後面部に設置され、ターゲットの原子を放出させて前記高温用部品に蒸着させる複数のスパッタガンと、前記回転駆動手段、前記真空ポンプ、前記不活性気体供給部および前記スパッタガンを制御する制御部とを含んでなる、高温用部品の潤滑コーティング装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】ルテニウムターゲットを代替することができ、かつ、安価なスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】ＰｄとＷを主要成分として含有するＰｄ−Ｗ系スパッタリングターゲットとし、該ターゲットの構造を、Ｗを１〜２２ａｔ％含有し、残部がＰｄおよび不可避的不純物からなるＰｄ−Ｗ合金マトリックス中に、平均粒径５〜４０μｍのＷ粒子が分散した構造とし、ターゲット全体に対するＷの含有量が１５〜５０ａｔ％となるようにする。 （もっと読む）

【課題】 密着性および熱耐食性に優れるとともに、安定な電気特性および良好な光反射特性を有する反射電極およびその製造方法、ならびに前記反射電極を有する電気光学装置を提供する。
【解決手段】 銀（Ａｇ）を主成分として、マグネシウム（Ｍｇ）、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、モリブデン（Ｍｏ）、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）および金（Ａｕ）から選ばれる１種類以上の元素を添加成分として含むとともに、窒素を１．３ａｔ％以上５．５ａｔ％以下の含有率で含むＡｇ合金膜を備えて、反射電極を構成する。このようなＡｇ合金膜を備えることによって、比抵抗値および反射率値を大幅に低下させることなく、基板との密着性および熱耐食性を改善することができるので、密着性および熱耐食性に優れるとともに、安定な電気特性および良好な光反射特性を有する反射電極を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】 長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供すること、前記装飾品を提供することができる製造方法を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供すること。
【解決手段】 本発明の装飾品１の製造方法は、基材２上に、主としてＴｉＮで構成された第１の被膜３を形成する第１の被膜形成工程と、第１の被膜３上に、９９ｗｔ％以上の含有率でＡｕを含む第２の被膜４を形成する第２の被膜形成工程と、第２の被膜４上に、Ａｕを主成分とし、６．０〜１０．０ｗｔ％のＰｄ、および、１２．０〜１５．０ｗｔ％のＡｇを含むＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ系合金をターゲットとして用いた乾式めっき法により、第３の被膜５を形成する第３の被膜形成工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供すること、前記装飾品を提供することができる製造方法を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供すること。
【解決手段】 本発明の装飾品１の製造方法は、基材２上に、主としてＴｉＮで構成された第１の被膜３を形成する第１の被膜形成工程と、第１の被膜３上に、Ａｕを主成分とし、６．０〜８．０ｗｔ％のＰｄ、６．０〜８．０ｗｔ％のＡｇ、３．０〜５．０ｗｔ％のＩｎ、および、３．０〜５．０ｗｔ％のＺｎを含むＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ−Ｉｎ−Ｚｎ系合金をターゲットとして用いた乾式めっき法により、第２の被膜４を形成する第２の被膜形成工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 ターゲット材ピース同士を摩擦攪拌接合する際に生じる虞のあった接合不良の発生を低減または解消して、確実に接合されることを可能としたスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 このスパッタリングターゲット材は、複数枚のターゲット材ピース１（１ａ、１ｂ）同士を突き合わせて当該突き合わせ部を摩擦攪拌接合２により接合して１枚板状に形成してなるスパッタリングターゲット材であって、前記ターゲット材ピース１ａ、１ｂ同士の突き合わせ部がそれぞれ、当該ターゲット材ピース１ａ、１ｂの厚さ方向に凹凸した形状で互いに噛み合うように嵌合する噛み合わせ構造３ａ、３ｂを備えている。 （もっと読む）

【課題】装飾部品の表面にＡｕを含有する硬質膜であり、特にＡｕ固有の光沢と色調とを有して明度の高く耐傷性に富んだことを特徴とした装飾部品を提供すること。
【解決手段】表面に硬化層を有し、硬化層はＴｉ、Ｚｒ、またはＨｆのうちから選ばれる一種類以上の金属からなる窒化物、炭化物または炭窒化物で構成された下地層と、ＡｕまたはＡｕ合金からなる仕上層と、下地層と仕上層との間に設けた硬質透明誘電体層によって構成することにより、Ａｕ固有の光沢と色調とを有して明度が高く傷の目立たない高品位な装飾部品を達成できる。硬質透明誘電体層は積層構造を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】装飾部品の表面にＡｕを含有する硬質膜であり、特に金固有の光沢と色調を有し、耐摩耗性の高い高品位であることを特徴とした金色装飾部品を提供すること。
【解決手段】Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆのうちから一種類以上の金属からなる窒化物、炭化物もしくは炭窒化物で構成された下地層と、Ａｕ、または任意組成のＡｕ−Ｎｉ合金、Ａｕ−Ｃｕ−Ｐｄ合金などＡｕ合金からなる仕上層と、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆのうちから一種類以上の金属からなる窒化物、炭化物もしくは炭窒化物から成る保護層とから構成される硬化層を形成させることにより、効果的に金固有の光沢と色調を有し、耐摩耗性に優れた高品位の金色装飾部品が達成される。 （もっと読む）

【課題】反射率が高く、且つ耐湿熱性および耐光性に優れた光情報記録媒体のＡｇ基合金反射膜または半透過反射膜を提供すること。
【解決手段】Ｈｆを０．０５〜０．８原子％含有するＡｇ基合金からなることを特徴とする光情報記録媒体の反射膜または半透過反射膜。 （もっと読む）

【課題】成膜速度が向上し、プラズマのエネルギよるダメージがないカソード電極の製造方法、及び薄膜固体リチウムイオン２次電池の製造方法の提供。
【解決手段】スパッタリング法により、コバルト酸リチウム焼結体からなるターゲットを用い、このターゲットに高周波電力及びＤＣ電力を重畳印加させながら、希ガスを供給して、０．１〜１．０Ｐａの圧力下、薄膜固体リチウムイオン２次電池用の負極活物質層として機能するコバルト酸リチウム薄膜からなるカソード電極を形成する。このカソード電極を備えた薄膜固体リチウムイオン２次電池を製造する。 （もっと読む）

【課題】熱的に安定なシリサイド（ＮｉＳｉ）膜の形成が可能であり、膜の凝集や過剰なシリサイド化が起り難く、またスパッタ膜の形成に際してパーティクルの発生が少なく、ユニフォーミティも良好であり、さらにターゲットへの塑性加工性に富む、特にゲート電極材料（薄膜）の製造に有用なニッケル合金スパッタリングターゲット及び該ターゲットにより形成されたニッケルシリサイド膜を提供する。
【解決手段】白金を２２〜４６ｗｔ％、イリジウム、パラジウム、ルテニウムから選択した１成分以上を５〜５０ｗｔｐｐｍ含有し、残部がニッケル及び不可避的不純物からなることを特徴とするニッケル合金スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】圧延膜において、ピンホール部が効果的に封孔された、水素透過効率が高い、ピンホールのない水素分離膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】水素分離膜を製造する製造方法であって、第１金属を圧延して膜１を形成する膜形成工程と、前記膜１に生じたピンホール部２に有機物を主成分とする液状又は顔料を主成分とする粉末状の塗布剤３を塗布する塗布工程と、ピンホール部２に前記塗布剤３を塗布した前記膜１に、第２金属４を蒸着する蒸着工程と、を備えることを特徴とする、水素分離膜製造方法。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、経時で安定した表面抵抗値を示すパラジウム金属膜積層フィルムを提供するものである。
【解決手段】
基材フィルムの少なくとも片面にパラジウム金属膜が積層された積層体であって、金属膜中に含まれる希ガスの濃度が０．１〜１０ａｔｍ％以下であるパラジウム金属膜積層フィルム。
または、基材フィルムの少なくとも片面にパラジウム金属膜が積層された積層体であって、パラジウム金属膜の密度が９．００ｇ／ｃｍ^３以上であるパラジウム金属積層フィルム。
または、基材フィルムの少なくとも片面にパラジウム金属膜が積層された積層体であって、成膜直後のパラジウム金属膜のパラジウム面密度Ａと成膜直後のパラジウム金属膜の表面抵抗値Ｂが下記式（１）を満たすパラジウム金属積層フィルム。
Ａ×Ｂ≦７０００×１０^１５ （１） （もっと読む）

【課題】面内均一性に極めて優れたＡｇ系薄膜を形成するのに有用なＡｇ系スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ａｇ系スパッタリングターゲットのスパッタリング面の平均結晶粒径ｄ_ａｖｅを下記手順（１）〜（３）によって測定したとき、平均結晶粒径ｄ_ａｖｅは１０μｍ以下を満足している。 （手順１）スパッタリング面の面内に任意に複数箇所を選択し、選択した各箇所の顕微鏡写真（倍率：４０〜２０００倍）を撮影する。 （手順２）各顕微鏡写真について、井桁状または放射線状に４本以上の直線を引き、直線上にある結晶粒界の数ｎを調べ、各直線ごとに下式に基づいて結晶粒径ｄを算出する。 ｄ＝Ｌ／ｎ／ｍ 式中、Ｌは直線の長さ、ｎは直線上の結晶粒界の数、ｍは顕微鏡写真の倍率を示す。 （手順３）全選択箇所の結晶粒径ｄの平均値をスパッタリング面の平均結晶粒径ｄ_ａｖｅとする。 （もっと読む）

【課題】ほとんど保磁力あるいは飽和磁化が無い非磁性部を記録層に形成することができ、優れた磁気特性の記録媒体を容易に得ることができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１上にＣｒＰｔ₃からなる記録層１３’を形成する工程と、記録層１３’の表面にマスクパターン層１５’を形成する工程と、マスクパターン層１５’から露出した記録層１３’の各部にイオンを照射する工程とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 加飾性、金属光沢性があり、光透過性と光吸収性が両立され、さらには導電性を有する光学薄膜積層体を提供することを課題とする。
【解決手段】 基材の一方の面に薄膜積層体を備える光学薄膜積層体であって、該薄膜積層体が高屈折率薄膜層、低屈折率薄膜層を少なくとも１層以上積層した積層構造であり、且つ、前記基材の薄膜積層体が形成されている面と反対側の面に導電性薄膜層が形成されていることを特徴とする光学薄膜積層体とした。また、前記導電性薄膜層が形成されている面の表面の表面抵抗率が１．００×１０^−４Ω／□未満であることを特徴とする光学薄膜積層体とした。 （もっと読む）

【課題】充分な耐衝撃性を有し、加工プロセスや磁気記録層の成膜プロセスを複雑なものとすることがなく、表面平坦性に優れ、しかもコストダウンを可能とする磁気記録媒体用Ｓｉ基板を提供すること。
【解決手段】本発明では、多結晶Ｓｉウェハの平坦化の工程でのエッチングは行なわれず、機械研削のみで平坦化がなされる（Ｓ１０４、Ｓ１０６）。これは、エッチング速度に結晶面依存性があるため、多結晶Ｓｉウェハをエッチングすると、ウェハ表面に露出している各結晶粒の結晶方位面の違いによって段差が生じることが避けられず、精密な表面平坦化の障害となるためである。そして、最終研磨段階に先立って予めＳｉウェハ表面を酸化膜で被覆して酸化膜付きＳｉウェハとし（Ｓ１０７）、この酸化膜表面を平坦化することで表面に段差のない平坦な基板（酸化膜付きＳｉ基板）を得ている（Ｓ１０８）。 （もっと読む）