【課題】 形成する膜の物性を容易に制御でき、また、生産性良く膜の形成が可能な制御性の良い成膜装置を提供する。
【解決手段】 膜を形成すべき基板５をアノード電極３に載置し、反応室１中に原料ガスを供給し、前記アノード電極３と、該アノード電極３に対向して配置してあるカソード電極４との間に高周波電圧を印加して原料ガスのプラズマを発生させ、制御部９を用いて駆動部８を制御することによって、成膜中にカソード電極４をアノード電極３に接近又は離隔させる。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、ガスバリア性が良好で、カールの発生が抑制され、さらにガスバリア膜の接着性の高いガスバリア性シートを提供する。特に、有機ＥＬディスプレイ等の耐久試験として行われるヒートサイクル試験後においても、カールの発生が抑制され、ガスバリア性能も維持されるガスバリア性シートを提供する。
【解決手段】基材２にガスバリア膜３を有するガスバリア性シート１において、ガスバリア膜３を、ＳｉＮ_ｓＭ_ｔＯ_ｕＣ_ｖ膜（ただし、ｓ＝０．５〜１．５、ｔ＝０．０１〜０．３、ｕ＝０．２５〜１、ｖ＝０〜１、ＭはＡｌ及び／又はＭｇである。）とすることによって、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性および密着性に優れたガスバリアフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】フィルム基材上にガスバリア層が積層された構成を有し、該ガスバリア層は、該フィルム基材に高周波電力を印加して該フィルム基材の周辺でプラズマ生成ガスをプラズマ化させ、更に、該フィルム基材に負の直流高電圧のパルスを印加しつつターゲット材料をスパッタすることにより積層されていることを特徴とするガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】表面平滑性、ガスバリア性および密着性に優れた高平滑ガスバリアフィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】フィルム基材上に高平滑化層、中間層及びガスバリア層がこの順に積層された構成を有し、該中間層は、該フィルム基材に高周波電力を印加して該フィルム基材の周辺でプラズマ生成ガスをプラズマ化させ、更に、該フィルム基材に負の直流高電圧のパルスを印加しつつターゲット材料をスパッタすることにより積層されていることを特徴とする高平滑ガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】基板上に、少なくとも位相シフト膜とメタル含有膜を有する位相シフトマスクブランクであって、該位相シフト膜と該メタル含有膜の密着性を向上した位相シフトマスクブランクを提供する。
【解決手段】位相シフトマスクブランクであって、少なくとも、基板上に、金属シリサイド化合物を主成分とする１層以上の位相シフト膜と、１層以上のメタル含有膜を具備し、前記位相シフト膜とメタル含有膜との界面にＳｉＯ_ｘ層を具備し、前記位相シフト膜と前記ＳｉＯ_ｘ層の界面に、膜の組成が連続的に変化した層を有するものであることを特徴とする位相シフトマスクブランク。 （もっと読む）

【課題】スプラッシュによる成膜不良を低減可能な薄膜形成装置、薄膜形成方法、電気光学装置の製造方法、電子機器を提供すること。
【解決手段】薄膜形成装置１００は、チャンバー１０１内に設けられた蒸発源としてのハース１０４に収納された膜材料ＭにプラズマビームＰＢを照射して加熱することにより蒸発させて、基板Ｗに薄膜を形成する薄膜形成装置であって、プラズマビームＰＢを発生させるプラズマビーム発生器１１０と、基板Ｗをハース１０４に対して対向するように支持する基板装着部１２１と、基板装着部１２１とハース１０４との間に設けられた複数の開口部を有する導電性の捕獲板１３０と、捕獲板１３０に正または負の電位を与える電位発生部Ｖ４と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れると共に、酸素および水蒸気のガスバリア性に優れた透明ガスバリアフィルムおよびそれを用いたエレクトロルミネッセンス素子の提供。
【解決手段】樹脂基板１の片面または両面に珪素原子と窒素原子とを含む薄膜２を有する透明ガスバリアフィルム１０であって、前記薄膜２に含まれる珪素原子と窒素原子との割合がＳｉＮｘ（ただし、０．５≦ｘ≦１．４）であり、かつ、前記薄膜２の膜厚が２０〜５０ｎｍであることを特徴とする透明ガスバリアフィルム１０。 （もっと読む）

【課題】触媒気相成長法と物理気相成長法により連続してガスバリア層を積層形成することにより、基材フィルム表面にプライマー処理を施すことなくガスバリア性に優れたガスバリア積層フィルム、及び該フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】基材フィルムの少なくとも一方の面に、厚さ０．１〜５００ｎｍの無機及び／又は有機の薄膜層（Ａ層）、及び厚さ０．１〜５００ｎｍの無機薄膜層（Ｂ層）を順次形成してなるガスバリア積層フィルムであって、上記Ａ層が加熱触媒体を用いて材料ガスを接触熱分解する触媒化学気相成長法により形成され、かつＢ層が物理気相成長法により形成されたガスバリア積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、緻密で密着性のよいガスバリア膜を成膜できるイオンプレーティング用蒸発源材料の原料粉末等を提供する。また、イオンプレーティング法に適した蒸発源材料及びその製造方法、並びにガスバリア性シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】平均粒径が５μｍ以下の二酸化ケイ素粉末と、平均粒径が５μｍ以下の炭化ケイ素粉末及び／又は一酸化ケイ素粉末からなるケイ素化合物粉末とを有する原料粉末により、上記課題を解決する。この原料粉末は、二酸化ケイ素粉末の比表面積が６００ｍ^２／ｇ以上であることが好ましく、ケイ素化合物粉末が二酸化ケイ素粉末１００重量部に対して１０重量部以上５０重量部以下で添加されていることが好ましい。本発明のイオンプレーティング用蒸発源材料は、前記原料粉末を焼結又は造粒させて平均粒径が２ｍｍ以上の塊状粒子又は塊状物に加工したものである。 （もっと読む）

【課題】銅系金属層の密着性に優れ、微細エッチングが可能で、信頼性の高いフレキシブル回路基板を提供する。
【解決手段】樹脂フィルム１の表面に、シリコンに対して窒素が当量で０．５〜１．３３含まれるスパッタ法による窒化シリコン層２を形成し、さらに銅系金属層３を形成したことにより、銅系金属層３の密着性が良好となる。さらに、上記窒化シリコン層２は絶縁物であることからエッチングの必要が無く、銅系金属層だけをエッチングすればよいため、サイドエッチングがあまり起こらずに微細エッチングが可能となる。しかも、高温下で仮に樹脂フィルム１側からの水分や酸素が浸透したとしても窒化シリコン層２によってブロックされ、銅系金属層３の酸化や密着力の低下が生じず、信頼性にも優れたフレキシブル回路基板６となる。 （もっと読む）

【課題】珪化タングステンの欠損を抑制すること。
【解決手段】本発明は、半導体層１０上に、半導体層１０の表面が露出するような開口部を有し酸化シリコンを含む絶縁膜１４を形成する工程と、絶縁膜１４及び開口部内に庇を有するショットキ電極３０を形成する工程であって、少なくとも絶縁膜１４が接触する領域に酸素含有量が２．６％以上の部分を有する珪化タングステンからなる接触層２０を形成する工程を含むショットキ電極３０を形成する工程と、絶縁膜１４を弗酸を含む溶液で除去する工程と、を有する電界効果トランジスタの製造方法及び電界効果トランジスタである。 （もっと読む）

【課題】パーティクル発生の少ないＴｉＳｉ_x膜を得るためのチタンシリサイドスパッタリングターゲットを提供すること。
【解決手段】薄膜形成用チタンシリサイドターゲットにおいて、ターゲット組成がＴｉＳｉ_x（ここでｘ＝2.0〜2.7）と表され、ターゲット中のＷ含有量が50ppm未満であり、かつＷ化合物の析出物を含まないことを特徴とするチタンシリサイドターゲットによって、パーティクル発生の少ないＴｉＳｉ_x膜をスパッタリングによって得る。 （もっと読む）

【課題】しぼ加工等の凹凸加工に合わせて樹脂材料の選択や成形条件を制限する必要がない成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】表面が平坦で所定の外形を有する樹脂成形品７の上に、表面に凹凸形状を備えた凹凸膜７ａを成膜する工程と、凹凸膜７ａの上にその凹凸形状に沿って装飾膜５を成膜する工程とを有する製造方法である。この製造方法では、樹脂成形品７の表面を直接凹凸加工する必要がないため、樹脂成形品７を表面が平坦な金型１０１，１０２等で容易に成型でき、樹脂選択や成型条件を凹凸加工に合わせて制限する必要がない。装飾膜６は、金属膜、および、樹脂成形品の材料とは屈折率の異なる誘電体膜の少なくとも一方を含む構成にすることができる。 （もっと読む）

【課題】波長２００ｎｍ以下の短波長露光光源用のマスクに好適な、耐薬品性、耐光性、耐温水性を向上させた位相シフトマスクブランク、この位相シフトマスクブランクを用いて得られるハーフトーン型の位相シフトマスクを提供する。
【解決手段】透明基板１上に、露光波長に対し所定の透過率を有し、窒素、金属及びシリコンを主たる構成要素とする光半透過膜２が形成された位相シフトマスクブランク１０であって、透明基板１上に光半透過膜２を成膜した後、該光半透過膜２に高濃度のオゾンガスを作用させる。この光半透過膜２をパターニングして光半透過部２ａが形成されたハーフトーン型位相シフトマスク２０が得られる。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイ・プラズマディスプレイ・無機ＥＬディスプレイ・有機ＥＬディスプレイ・電子ペーパー等の透明電極に最適である光学特性、酸化亜鉛膜と透明基板の密着性およびシート抵抗値の安定性の良好な酸化亜鉛系透明導電積層体を提供すること。
【解決手段】アクリル系樹脂（ａ）５０〜９９．９質量％、およびポリ乳酸系樹脂（ｂ）５０〜０．１質量％からなる樹脂組成物の透明基板上に片面又は両面に、１種以上のハードコート層が被覆され、該ハードコート層上に、酸化亜鉛系透明導電膜が形成されてなる酸化亜鉛系透明導電積層体。 （もっと読む）

【課題】プラスチック基材から発生する水分を外部に逃がすことによって、ムクミが発生せず、耐擦傷性に優れた光学物品の製造方法とこの光学物品を提供すること。
【解決手段】メガネレンズ１は、レンズ基材１０の表面に、ハードコート層１１、反射防止層１２、防汚層１３が順に積層される。反射防止層１２は、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層され、ハードコート層１１側から順に第１膜１２１、第２膜１２２、第３膜１２３、第４膜１２４、第５膜１２５からなる５層で構成されている。第１膜１２１、第３膜１２３、第５膜１２５は二酸化ケイ素からなり、第２膜１２２、第４膜１２４は、ポーラス化された窒化ケイ素からなる。 なお、反射防止層１２は、スパッタリング法により形成され、低屈折率層は、アルゴンの導入圧が２〜５Ｐａで形成され、高屈折率層は、アルゴンの導入圧が５〜１０Ｐａで形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光学特性、金属酸化物膜と透明基板の密着性に優れた金属酸化物積層基板を提供することにある。
【解決手段】基材にアクリル系樹脂およびポリ乳酸系樹脂の樹脂組成物を用い、さらにハードコート層を被覆する事で表面硬度を高めて金属酸化物膜を形成することにより、光学特性、金属酸化物膜と透明基板の密着性に優れた金属酸化物積層基板が出来る。 （もっと読む）

【課題】透過率調整が簡便で薬品耐性に優れ、しかも低欠陥の高品質な位相シフト膜を備えたフォトマスクブランクを提供すること。
【解決手段】複数のターゲットを用いて透明基板上に位相シフト膜をスパッタリング成膜するに先立ち、これら複数のターゲットの表面を、ターゲットと実質的に反応しないガス（例えばアルゴン）を用いてスパッタ処理することとした。このスパッタ処理により、他のターゲットからスパッタリングされた粒子がターゲット上に飛来して形成された堆積物が除去され、位相シフト膜のスパッタリング成膜時の異常放電が抑制される。その結果、位相シフト膜の透過率調整が簡便で、得られた膜が薬品耐性に優れ、しかも低欠陥の高品質な位相シフト膜を備えたフォトマスクブランクを提供することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透明樹脂基板、その中でも特に外力による複屈折の変化、即ち光弾性係数の小さいアクリル系透明樹脂基板に、ハードコート層を設け、その上に金属酸化物膜を形成することにより、プラズマディスプレイ用光学フィルターに最適な光学特性、金属酸化物膜と透明基板の密着性に優れた金属酸化物積層体、および透明電極に最適な光学特性、透明導電膜との密着性およびシート抵抗値の安定性の良好な金属酸化物積層体を提供することにある。
【解決手段】基材にアクリル系樹脂およびスチレン系樹脂の樹脂組成物を用いる事により、この透明基板上に金属酸化物膜を直接形成することができ、光学特性、金属酸化物膜と透明基板の密着性に優れた金属酸化物膜積層体を得る事が出来る。またハードコート層の形成を容易にしてさらにハードコート層を被覆する事で表面硬度を高めて金属酸化物膜を形成することにより、光学特性、金属酸化物膜と透明基板の密着性に優れる他、シート抵抗値の安定性も改良出来る。 （もっと読む）

【課題】優れたガスバリア性、耐熱性および密着性等を有しており、かつアクリルポリマー層を高速成膜可能なガスバリア性積層体を提供する。
【解決手段】フィルム基材に、透明無機化合物層およびアクリルポリマー層が順次形成されたガスバリア性積層体であって、前記アクリルポリマー層が、カルボキシル基を有するアクリルポリマーを沸点が５０℃以上９０℃未満である溶剤に希釈させた希釈液から形成されたものであることを特徴とするガスバリア性積層体、このガスバリア性積層体からなるディスプレイ用フレキシブル基板。 （もっと読む）