【課題】耐酸化性、耐摩耗性に優れた硬質皮膜について、特に密着性を改善した硬質皮膜被覆部材を提供することである。
【解決手段】基体に硬質皮膜を被覆した部材において、該硬質皮膜は、金属元素とＮを有し、該基体の表面はＮ元素富化領域を有し、該Ｎ元素富化領域は該基体の表面から深さ方向に１μｍ以内に形成されていることを特徴とする硬質皮膜被覆部材及び基体表面にＮ元素のイオン注入を行う第１の工程と、硬質皮膜を被覆する第２の工程とから成る製造法である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、基材を劣化したり表面粗度を悪化することなく基材表面に酸化アルミニウム被膜を直接形成した表面被覆切削工具を提供することにある。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材と、該基材上に形成された１以上の被膜とを備えるものであって、この被膜は、少なくとも酸化アルミニウム被膜を含み、該酸化アルミニウム被膜は、酸化アルミニウムを含む被膜であって上記基材上に直接形成されるものであり、かつその酸化アルミニウムの結晶構造がγ型であるか、またはγ型とα型の混在構造となっていることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 イオン化スパッタによって高アスペクト比のホールに対してボトムカバレッジ率の良い成膜を行うとともに、スパッタチャンバー内外の構成を簡略化する。
【解決手段】 排気系１１を備えたスパッタチャンバー１内に設けられたターゲット２をスパッタ電源３によってスパッタし、放出されたスパッタ粒子を基板５０に到達させて成膜する。スパッタ電源３は５Ｗ／ｃｍ^２ 以上の電力をターゲット２に投入し、この電力のみで形成されたプラズマＰ中でスパッタ粒子がイオン化する。ターゲット２と基板ホルダー５との間には円筒状のシールド６が設けられてプラズマ形成空間を規制し、電界設定手段８がイオン化したスパッタ粒子をプラズマＰ中から引き出して基板５０に入射させるための電界を設定する。 （もっと読む）

【課題】 アルミニウム等の非鉄金属の切削加工に使用する信頼性の高い寿命センサ回路付き切削工具を提供する。
【解決手段】 導電性母材３の表面に少なくとも１層の絶縁性被覆層２を有し、その上に導電性硬質層４を用いた回路を形成してなる寿命センサ回路付き切削工具１であって、絶縁性被覆層２のうち少なくとも１層は硬質炭素膜であるとともに、硬質炭素膜のラマンスペクトルについてＤバンドにおける面積強度をＩ_Ｄ、Ｇバンドにおける面積強度をＩ_Ｇとした場合に、面積強度比Ｒ＝（Ｉ_Ｄ／Ｉ_Ｇ）が１．４以下とする。 （もっと読む）

【課題】金型を精度よく、容易に再生することができ、かつ、優れた耐久性・耐摩耗性を得ることができるハニカム構造体成形用金型の再生方法及び再生金型を提供すること。
【解決手段】材料を供給するための供給穴１２と、供給穴１２に連通して格子状に設けられ、材料をハニカム形状に成形するためのスリット溝１３とを有し、使用により摩耗した部分を有するハニカム構造体成形用金型１の再生方法は、スリット溝１３を形成した金型本体１１の押出方向の先端面である溝形成表面１３０と、溝形成表面１３０とスリット溝１３の内側面１３１とが交わって形成される角部１４の摩耗部分１９との上に、溝形成表面１３０側から成膜材料を供給して、ＰＶＤ処理を行うことによって再生膜２を形成する。 （もっと読む）

【課題】基板と、切断エッジをもち幾何学的に規定された切断形状の切断歯に磨耗保護皮膜が設けられている鋸刃の提供。
【解決手段】鋸刃 (15) が基板 (16)と、切断エッジ (3) をもち幾何学的に規定された切断形状の切断歯 (2) を夫々ひとつもつ複数の歯体 (1) とを示し、このとき、切断歯 (2) には、切断エッジ (3) を覆って拡がる磨耗保護皮膜 (7) が設けられている。切断歯 (2) の切断エッジ (3) は、磨耗保護皮膜 (7) のない状態に関するとき、0,005 mm と 0,045 mm との間の刃半径 (4) を有する。切断エッジ (3) をもち幾何学的に規定された切断形状の切断歯 (2) を製造するために歯体 (1) を研磨し、切断エッジ (3) がほぼ0,005 mm と 0,045 mm との間の、とりわけ、ほぼ0,010 mm と 0,025 mm との間の刃半径 (4) を示すように切断歯 (2) を仕上げ加工し、磨耗保護皮膜 (7) が切断エッジ (3) を覆って拡がるように、切断歯 (2) の上に磨耗保護皮膜 (7) を形成するという手順によって、鋸刃 (15) が製造される。 （もっと読む）

【課題】高温による変色や酸化を防止することができる内燃機関用部品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による内燃機関用部品の製造方法は、金属から形成された部品本体を用意する工程と、第１のターゲットおよび第１のターゲットとは異なる角度で配置された第２のターゲットを有するチャンバ内に部品本体を配置する工程と、第１のターゲットおよび第２のターゲットをスパッタリングすることによって部品本体の外側を覆うセラミックス膜を形成する工程とを包含する。 （もっと読む）

【課題】シリンダ内周面との摺動において初期に焼付の発生がなく、長時間にわたってシリンダ内周面との間で低フリクションを実現できるピストンリングを提供する。
【解決手段】ピストンリング１は外周摺動面にダイヤモンドライクカーボン皮膜２を有し、更にその皮膜上にＳｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｗ及びＢの群から選ばれた１種又は２種以上の元素の窒化物からなる皮膜３を有する。窒化物皮膜３は窒化物形成元素単体を含む場合や酸素又は炭素が固溶されている場合もある。ダイヤモンドライクカーボン皮膜２と窒化物皮膜３との間に、Ｓｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｗ、Ｂ及びＮｂの群から選ばれた元素からなる単体皮膜を形成することもある。 （もっと読む）

【課題】高速切削加工で硬質潤滑層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆超硬合金製切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）マグネトロンスパッタリング装置にて、磁場中成膜されたＴｉＮ層またはＴｉＣＮ層の密着接合層、（ｂ）同じく磁場中成膜され、非晶質炭素と非晶質ＷＣの２相混合相からなる非晶質分散相と、組成式：（Ｔｉ_１−ＸＷ_Ｘ）Ｃ_１−ＹＮ_Ｙ（ただし、原子比で、Ｘ：０．０１〜０．３、Ｙ：０．５〜０．８）、を満足する（Ｔｉ，Ｗ）ＣＮからなる結晶質連続相の組織、Ｗ：２〜１８原子％、Ｔｉ：３０〜４５原子％、窒素：３０〜４５原子％、を含有し、残りが炭素（ただし、５〜２５原子％含有）と不可避不純物からなる全体組成、を有する硬質潤滑層、以上（ａ）および（ｂ）を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】離型性が良好で、耐久性の高い光学素子成形用型の製造方法および光学素子成形用型を提供する。
【解決手段】光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型１１の成形面に、中間層１４を形成した後、この中間層上にａ−Ｃ：Ｈ膜を含む硬質炭素膜１３を形成する。
その際、前記中間層が、炭素を３０ａｔｏｍ％以上、ケイ素を２０ａｔｏｍ％以上、酸素を５ａｔｏｍ％以上で２０ａｔｏｍ％以下、水素を５ａｔｏｍ％以上で１５ａｔｏｍ％以下とする元素組成を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】高硬度鋼の重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】窒化ほう素を３０〜９５質量％含有する超高圧焼結材料製インサートの表面に、硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具において、（ａ）硬質被覆層は、１．５〜６μｍの平均層厚を有する下部層と０．３〜３μｍの平均層厚を有する上部層とからなり、（ｂ）下部層は、蒸着形成された組成式：［Ｔｉ_１−ＸＳｉ_Ｘ］Ｎ（ただし、Ｘは、原子比で、０．０２〜０．１を示す）を満足するＴｉとＳｉの複合窒化物層からなり、（ｃ）上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ０．０１〜０．３μｍの薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、薄層Ａは、組成式：［Ｔｉ_１−ＸＳｉ_Ｘ］Ｎ（ただし、Ｘは、原子比で、０．０２〜０．１を示す）を満足するＴｉとＳｉの複合窒化物層、薄層Ｂは、チタン窒化物（ＴｉＮ）層からなる。 （もっと読む）

【課題】ボンバードの際に、基材に過昇温や異常放電が生じ難く、ひいてはプロセス制御性の良好なアークイオンプレーティング装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバー１と、基材を真空チャンバー内でその高さ方向に対して垂直方向に移動させる回転テーブル２と、前記基材の表面を金属イオンでクリーニングするボンバード用蒸発源９Ａと、金属イオンを前記基材の表面に成膜する複数の成膜用蒸発源７Ａを備える。前記ボンバード用蒸発源９Ａは、その蒸発面の縦幅あるいは蒸発面面積が前記成膜用蒸発源７Ａよりも大きく形成される。 （もっと読む）

【課題】高硬度鋼の重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】窒化ほう素を３０〜９５質量％含有する超高圧焼結材料製インサートの表面に、硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具において、（ａ）硬質被覆層は、１．５〜６μｍの平均層厚を有する下部層と０．３〜３μｍの平均層厚を有する上部層とからなり、（ｂ）下部層は、蒸着形成された組成式：［Ｃｒ_１−ＸＳｉ_Ｘ］Ｎ（ただし、Ｘは、原子比で、０．０２〜０．１を示す）を満足するＣｒとＳｉの複合窒化物層からなり、（ｃ）上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ０．０１〜０．３μｍの薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、薄層Ａは、組成式：［Ｃｒ_１−ＸＳｉ_Ｘ］Ｎ（ただし、Ｘは、原子比で、０．０２〜０．１を示す）を満足するＣｒとＳｉの複合窒化物層、薄層Ｂは、チタン窒化物（ＴｉＮ）層からなる。 （もっと読む）

【課題】 期待通りの性能を奏する被膜を形成する。
【解決手段】 この成膜装置１０によれば、真空槽１２内のプラズマ領域６４内でイオン化された材料、例えば窒素イオンおよびホウ素イオンは、当該プラズマ領域６４内にある被処理物３６，３６，…に照射される。これによって、被処理物３６，３６，…の表面に、窒素およびホウ素の化合物であるｃＢＮ膜が形成される。ここで、被処理物３６，３６，…には、バイアス電力Ｅｂとして、周波数ｆが１０［ｋＨｚ］〜３００［ｋＨｚ］のパルス電力が供給される。従って、例えば当該バイアス電力Ｅｂとして高周波電力が供給される場合に比べて、表皮効果による影響が抑制され、ひいては被処理物３６，３６，…の変質が防止される。よって、期待通りの高硬度なｃＢＮ膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】低摩擦係数を有し、高密着性で、耐摩耗性のＤＬＣ及びその製造方法を提供する。また、低摩擦係数で、耐摩耗性及び密着性に優れた保護膜を有する摺動部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】固体カーボンターゲットを使用せず、金属ターゲットのみをアーク放電で昇華させつつ炭化水素ガスを導入し、金属及び炭化水素をイオン化して基材上に形成されたことを特徴とする金属複合ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）皮膜。 （もっと読む）

【課題】真空成膜装置用部品、ターゲットおよびバッキングプレートにおいて、成膜工程中に付着する成膜材料の剥離を安定かつ有効に防止する。
【解決手段】真空成膜装置用部品１は、部品本体２の表面に形成された溶射膜３を具備する。溶射膜３は溶射形成後に還元雰囲気中にて1073〜1373Kの加熱温度で脱ガス処理が施されたＷ溶射膜またはＭｏ溶射膜からなり、かつガス残存量が10Torr・cc/g以下とされている。ターゲットおよびバッキングプレートは同様な溶射膜を具備する。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる母材とダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）皮膜などの硬質皮膜との密着性が良好な硬質皮膜被覆部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる母材２０の表面を処理して、母材２０の最大表面粗さを３μｍ以下にした後、処理装置１０の真空処理室１２内において、ターゲット２２としてクロムターゲットを使用してスパッタリングすることにより、母材２０上にクロム皮膜を介して窒素含有クロム皮膜を形成し、その後、表面の硬質皮膜としてＤＬＣ皮膜を形成する場合には、ターゲット２２としてカーボンターゲットを使用してスパッタリングすることにより、窒素含有クロム皮膜上にＤＬＣ皮膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 より低い温度で基板を加熱した場合でも金属材料を十分にホールに埋め込むことができる高温リフロースパッタリングの技術を提供する。
【解決手段】 セパレーションチャンバー１の周囲に気密に接続された複数の処理チャンバーのうちの一つはスパッタチャンバー４であり、二段階成膜が行われる。第一の行程ではターゲット４２と基板９との距離は長い第一の距離とされてホール９０の内面にベース薄膜９３が作成され、第二の工程ではターゲット４２と基板９との距離が短い第二の距離とされ、ヒータ４４１で基板９を加熱して薄膜をリフローさせてホール９０内に埋め込む。セパレーションチャンバー１は、冷凍機１３により１３０Ｋ〜５０Ｋに冷却されるパネル１２が設けられ、不純ガスがパネル１２の表面に凝縮される。 （もっと読む）

【課題】焼結体製基材に被覆した硬質膜を強靭にしてその寿命を延ばすようにした硬質膜被覆焼結部材を提供する。
【解決手段】セラミックス膜、BCN系超硬質材膜、金属とセラミックスの混合物膜のいずれかが前記硬質膜として前記焼結体製基材の表面に被覆され、かつ、均一に分布した直線状の転位の転位密度が１×１０^４〜９×１０^1０ｃｍ^-2である転位組織を前記焼結体製基材界面から数１０μｍ以下の範囲で有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 使用中に傷が発生しない高硬度、高耐傷性で腐蝕が発生しない高耐蝕性の金色色調の装飾部品を提供すること。
【解決手段】 ステンレス、ＡｌおよびＡｌ合金、ＴｉおよびＴｉ合金、黄銅などの軟質基材からなる時計外装部品、ピアス、イヤリング、指輪、メガネフ−ム、ペンダント、ネックレス、ブレスレット、ブロ−チなどの装飾部品の表面に、Ｈｆ、Ｔｉ、Ｚｒのうちから少なくとも１種類以上の金属からなる窒化物層とＡｕ合金層が交互に繰り返し積層され、最表層がＡｕ合金層である多層積層構造の硬化層を形成させることにより衝撃によるキズが発生しない高硬度、高耐傷性で腐蝕が発生しない高耐蝕性で金色色調の装飾部品が達成される。 （もっと読む）