【課題】反射防止膜を有する光学フィルターを安価な設備を用いた高速成膜技術により安価に製造する。
【解決手段】光学フィルターの反射防止膜を構成する低屈折率透明膜及び高屈折率透明膜をガスフロースパッタリング法により成膜する。ガスフロースパッタリング法は、高真空排気が不要であるため安価な設備で実施でき、しかも高速成膜が可能であることから、ガスフロースパッタリング法を採用することによる設備費の低減、成膜時間の短縮により、光学フィルターを安価に製造することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】軟質難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する被覆切削工具を提供する。
【解決手段】被覆切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）Ｃｒ硼化物層の表面層、（ｂ）組成式：（Ｔｉ_{１−（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＣｒ_Ｙ ）Ｎ（ただし、原子比で、０．４５≦Ｘ≦０．６５、０．０１≦Ｙ≦０．１０、０．５０≦Ｘ＋Ｙ≦０．７０を示す）、を満足するＴｉとＡｌとＣｒの複合窒化物層の耐摩耗硬質層、からなる硬質被覆層を形成してなり、さらに、前記表面層の少なくとも切刃稜線部を含むすくい面部分および逃げ面部分の表面粗さを、前記表面層全面に、Ｃｒ窒化物層で構成された研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材として、酸化アルミニウム微粒を配合した研磨液を噴射し、前記の研磨材層のウエットブラストによる粉砕化Ｃｒ窒化物微粒と、噴射研磨材としての酸化アルミニウム微粒の共存下で研磨して、Ｒａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】ガスフロースパッタリング法によって、連続的に送られるフレキシブル基板に効率よく成膜することができる成膜方法及び装置を提供する。
【解決手段】フレキシブル基板１をチャンバ２に通すと共に、各差動排気ポンプ及び排気用ポンプを駆動し、各小室４、処理室６及び成膜室７内を所定の真空度に減圧し、フレキシブル基板１を連続走行させながら表面処理器９及び各成膜部１０を作動させる。これにより、フレキシブル基板の表面にガスフロースパッタリング法により薄膜が形成される。 （もっと読む）

本願発明は、相対的に柔らかい支持材、任意的に支持材に設けられる接着層および／または接着層システム、および相対的に硬い装飾層とを有してなる物品に関する。この物品は、中間層が、支持材と装飾層との間および／または接着層と接着層システムと装飾層との間に設けられており、また少なくともＤＬＣ（ダイアモンドライクカーボン）を主成分としていることを特徴とする。本願発明はまた、この種の物品を作るための方法に関する。
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【課題】ガスフロースパッタリング法によって多数の基材に効率よく成膜することができる成膜方法及び装置を提供する。
【解決手段】スパッタリングにより薄膜を形成すべき基材（例えば光学レンズや、ディスプレイ用透明基板など）をドラム２の外周面に取り付け、チャンバ１内を所定の真空度に減圧し、ドラム２を回転させながら成膜部４を作動させる。これにより、基材の表面にガスフロースパッタリング法により薄膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】金型を精度よく、容易に再生することができ、かつ、優れた耐久性・耐摩耗性を得ることができるハニカム構造体成形用金型の再生方法及び再生金型を提供すること。
【解決手段】材料を供給するための供給穴１２と、供給穴１２に連通して格子状に設けられ、材料をハニカム形状に成形するためのスリット溝１３とを有し、使用により摩耗した部分を有するハニカム構造体成形用金型１の再生方法は、スリット溝１３を形成した金型本体１１の押出方向の先端面である溝形成表面１３０と、溝形成表面１３０とスリット溝１３の内側面１３１とが交わって形成される角部１４の摩耗部分１９との上に、溝形成表面１３０側から成膜材料を供給して、ＰＶＤ処理を行うことによって再生膜２を形成する。 （もっと読む）

【課題】エージング後のＣＯＤレベルを向上することができる、窒化物半導体発光素子と、窒化物半導体レーザ素子の製造方法と、を提供する。
【解決手段】光出射部にコート膜が形成されている窒化物半導体発光素子であって、光出射部は窒化物半導体からなり、光出射部に接するコート膜が酸窒化物からなる窒化物半導体発光素子である。また、共振器端面にコート膜が形成されている窒化物半導体レーザ素子を製造する方法であって、劈開により共振器端面を形成する工程と、共振器端面に酸窒化物からなるコート膜を形成する工程と、を含む、窒化物半導体レーザ素子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】軟質難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する被覆切削工具を提供する。
【解決手段】被覆切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）Ｃｒ硼化物層の表面層、（ｂ）組成式：（Ｔｉ_{１−（Ｘ＋Ｙ＋Ｚ）}Ａｌ_ＸＣｒ_ＹＳｉ_Ｚ）Ｎ（ただし、原子比で、０．４５≦Ｘ≦０．６５、０．０１≦Ｙ≦０．１０、０．０１≦Ｚ≦０．１０、０．５０≦Ｘ＋Ｙ＋Ｚ≦０．７０を示す）、を満足するＴｉとＡｌとＣｒとＳｉの複合窒化物層の耐摩耗硬質層、からなる硬質被覆層を形成してなり、さらに、前記表面層の少なくとも切刃稜線部を含むすくい面部分および逃げ面部分の表面粗さを、前記表面層全面に、Ｃｒ窒化物層で構成された研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材として、酸化アルミニウム微粒を配合した研磨液を噴射し、前記の研磨材層のウエットブラストによる粉砕化Ｃｒ窒化物微粒と、噴射研磨材としての酸化アルミニウム微粒の共存下で研磨して、Ｒａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】エレクトロクロミック素子を安価な設備を用いた高速成膜技術により安価に製造する。
【解決手段】基板上に、透明導電膜、酸化発色層、電解層、還元発色層、及び透明導電膜が積層されたエレクトロクロミック素子の酸化発色層、電解層、還元発色層及び透明導電膜のうちのいずれか１層又は２層以上をガスフロースパッタリング法により成膜する。ガスフロースパッタリング法は、高真空排気が不要であるため安価な設備で実施でき、しかも高速成膜が可能であることから、ガスフロースパッタリング法を採用することによる設備費の低減、成膜時間の短縮により、エレクトロクロミック素子を安価に製造することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】成膜装置のロードロックチャンバの排気時に発生するパーティクルが基板に付着し、基板上に成膜する膜内に取り込まれることにより膜に欠点が生ずる。
【解決手段】ガラス基板の成膜を行う面に光触媒特性を有する薄膜デバイス用ガラス基板の提供し、および、この基板を用いて成膜する前に、この基板の成膜を行う面に紫外光または可視光を照射する成膜方法を提供する。特に非常に厳しい欠点の仕様が要求される極端紫外光反射型リソグラフィ用マスクブランク用基板、およびその基板への成膜方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】非金属材に、金属光沢を付与するだけでなく、グラデーションのある多彩な金属光沢を与える方法及びそれでなる、多彩な金属光沢を有する非金属材を提供することを目的とする。
【解決手段】非金属材の表面に、窒素、酸素、水素及び炭素を含めるガスの雰囲気の下に、該ガスの含有成分を調整しながら金属材のターゲットを使用するスパッタリングによりサーメットを積層するサーメット積層工程を備えることを特徴とする、非金属材に多彩な金属光沢を与える方法、及び、非金属材の表面に、金属材と窒素、酸素、水素及び炭素の元素の成分が深さの方向に変化したサーメット層が積層してあることを特徴とする、多彩な金属光沢を有する非金属材を提供する。 （もっと読む）

【課題】ニオブ酸リチウム（ＬＮ）またはタンタル酸リチウム（ＬＴ）単結晶からなり、より結晶性に優れた電気光学用途向け単結晶薄膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】Ｓｉ（１１１）基板１上に、立方晶炭化ケイ素層３および酸化マグネシウム単結晶層４を順次積層させ、前記酸化マグネシウム層４の上に、ＬＮまたはＬＴからなる薄膜５をエピタキシャル成長させることにより、ＬＮまたはＬＴからなる単結晶薄膜６を形成させる。 （もっと読む）

【課題】すぐれた偏光分離特性を有する膜割れのない光学多層膜を実現する。
【解決手段】基板１０１上に下地層１０２を介して、低屈折率膜１１１と、高屈折率膜および中屈折率膜を含む挿入膜１１２または少なくとも高屈折率膜および中屈折率膜の一方を含む挿入膜１１２ａとを交互に積層した第１の誘電体膜群１１０を形成する。第１の誘電体膜群１１０上には、低屈折率膜１２１と高屈折率膜１２２を交互に積層した第２の誘電体膜群１２０を形成する。第１の誘電体膜群１１０の各低屈折率膜１１１を、引張応力を有するＭｇＦ₂ 膜と、圧縮応力を有するＳｉＯ₂ 膜を接合した２層構造にすることで、膜内応力を緩和する。 （もっと読む）

【課題】 同一の装置で同時に複数の表面処理を実施することができ、多機能化により小型で且つ低コストな巻取式複合真空表面処理装置を提供する。
【解決手段】 真空容器１０内で回転するキャンロール１２に沿って移動するフィルム１３に表面処理を施す装置であって、処理ゾーンをフィルム巻取巻出ロール１２ａ、１２ｂから分離する一対の第１遮蔽板１７と、処理ゾーン内を少なくとも２つの表面処理手段を含む複数の処理室Ａ、Ｂ、Ｃに区画する第２遮蔽板１８と、処理室Ａ、Ｂ、Ｃ毎に移動可能に配置されて１つの表面処理手段に対向するフィルム表面処理位置以外を覆うマスク板１９とを備え、マスク板１９を移動させることにより、処理室Ａ、Ｂ、Ｃ毎にフィルム処理位置に対向する表面処理手段を選ぶことができる。 （もっと読む）

【課題】皮膚に刺しても傷みを和らげるとともに、超音波画像を用いてモニターした場合においても、鮮明な画像が得られる医療用セラミック被覆穿刺針を提供する。
【解決手段】針の最表面にＳｉＮｘの混合層４、次いでＳｉＮｘのセラミック膜３を被覆、さらに、その上にＳｉＮｘとＤＬＣ膜の複合層２を被覆、最上層としてＤＬＣ１を被覆することにより、低摩耗で密着性に優れた医療用セラミック被覆穿刺針および針を用いる。これらの針の使用により皮膚に針を刺した場合には傷みを和らげることが可能である。さらにこれらの針を用いて超音波画像をモニターした場合には、鮮明な画像の提供が可能で患者の検査・治療を容易に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】高速回転下で使用した場合であっても、更なる低トルク化や発熱量の減少を図ることができる転がり軸受を提供する。
【解決手段】内輪１及び外輪２の軌道面１ａ，２ａと、玉３の転動面とのうち少なくとも一方の転がり面に、特定の金属からなる金属層４と、この金属層４を構成する金属と炭素との化合物からなる複合層５と、ＤＬＣ層６と、撥油層７とをこの順で形成し、撥油層７の潤滑剤との接触角θを５０°以上とした。 （もっと読む）

【課題】Ｍｏを含むＮｉ基合金からなり、表面の平滑度が極めて小さく、その上に多結晶配向中間薄膜上に酸化物超電導薄膜を成膜した場合に、良好な超電導特性を持つ酸化物超電導導体を製造可能な酸化物超電導導体用金属基材の製造方法及び該金属基材を用いた酸化物超電導導体の製造方法の提供。
【解決手段】Ｍｏを含むＮｉ基合金からなる母材に、１１００℃以上の温度で少なくとも１回の焼鈍しと、少なくとも１回の圧延とを行い、最終圧延の後に電解研磨を行う酸化物超電導導体用金属基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】遮光膜のドライエッチング速度を向上させることでローディング現象を低減でき、微細パターンであっても良好なパターン精度が得られるフォトマスクブランクを提供する。
【解決手段】遮光膜２上に形成されるレジストパターン３ａをマスクにしてドライエッチング処理により遮光膜をパターニングするフォトマスクの作製方法に対応するドライエッチング処理用のフォトマスクブランクであって、遮光膜は、クロムを含むスパッタリングターゲットを使用し、雰囲気ガスとして酸素及び／又は窒素を含む活性ガスと、ヘリウムを含む不活性ガスとを含む混合ガス雰囲気下でスパッタ成膜し、遮光膜のドライエッチング速度を高めることで、ドライエッチング時間を短縮する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング装置において、仕込室から成膜室への気体分子流入を効果的に抑制する。
【解決手段】内部にスパッタカソードが配置された成膜室、成膜室に仕切りバルブを介して連接された仕込室、成膜室にメインバルブを介して接続された高真空ポンプ、および仕込室に接続された粗引きポンプを備えたスパッタリング装置において、さらに、高真空ポンプと仕込室とを接続するバイパス配管、および、バイパス配管を開閉するための、メインバルブと同時には開かないように設定可能なバイパスバルブを設けた。 （もっと読む）

【課題】非磁性部分またはギャップ部分によって互いに分離された一連の同心の磁気トラック部分を有する、データ記録で使用される磁気媒体を提供する。
【解決手段】磁気ディスク２０２は、隣接トラック干渉および隣接トラック書込みを回避する、新規な磁性表面２０４を有する。ディスク２０２は、より薄い非磁性ギャップ４０４によって分離された磁気トラック部分４０２を有する。トラック部分４０２は、したがって、トラック幅（ＴＷ）を規定する幅を有する。磁性部分の幅は、ディスクドライブシステムのトラック幅を規定してもよい。磁性部分４０４は、ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅなどの材料を包含する。非磁性部分は、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ｓｉ（ＯＮ）_Ｘなどの材料を包含するか、または単に、部分４０４の磁性材料がトラック部分４０２に対して窪んでいるエアギャップであってもよい。 （もっと読む）