【課題】窒化硼素皮膜の残留圧縮応力を低減させ、耐摩耗性が要求される使用環境化において、更に被覆部材の耐摩耗性を改善することが可能な被覆部材を提供することである。
【解決手段】基材表面に硼素、窒素、酸素からなる化合物皮膜を被覆した部材であり、該化合物皮膜は結晶質窒化硼素内に非晶質窒化硼素が分散した組織構造を有し、且つ、該化合物皮膜の断面における非晶質窒化硼素の領域の面積を、円の面積として置き換えた場合の直径である等価円直径として求めた場合、１０ｎｍ未満であることを特徴とする被覆部材である。 （もっと読む）

【課題】 水素をほとんど含まず実質的に炭素のみからなり、基材との密着性に優れ、高硬度で耐摩耗性に優れた非晶質硬質炭素皮膜を提供する。
【解決手段】 基材表面に形成され実質的に炭素のみからなる第１の非晶質硬質炭素層と、第１の非晶質硬質炭素層の表面に形成され実質的に炭素のみからなる第２の非晶質硬質炭素層とから構成され、断面から見たとき、第１の非晶質硬質炭素層の透過型電子顕微鏡像が第２の非晶質硬質炭素層の透過型電子顕微鏡像より明るい。 （もっと読む）

【課題】軟質難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する被覆切削工具を提供する。
【解決手段】被覆切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）Ｃｒ硼化物層の表面層、（ｂ）組成式：（Ｔｉ_{１−（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＳｉ_Ｙ ）Ｎ（ただし、原子比で、０．４５≦Ｘ≦０．６５、０．０１≦Ｙ≦０．１０、０．５０≦Ｘ＋Ｙ≦０．７０を示す）、を満足するＴｉとＡｌとＳｉの複合窒化物層の耐摩耗硬質層、からなる硬質被覆層を形成してなり、さらに、前記表面層の少なくとも切刃稜線部を含むすくい面部分および逃げ面部分の表面粗さを、前記表面層全面に、Ｃｒ窒化物層で構成された研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材として、酸化アルミニウム微粒を配合した研磨液を噴射し、前記の研磨材層のウエットブラストによる粉砕化Ｃｒ窒化物微粒と、噴射研磨材としての酸化アルミニウム微粒の共存下で研磨して、Ｒａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】フラッシュメモリ素子の製造方法に関するものであり、タングステンシリサイド膜の抵抗を減少させながらタングステンシリサイド膜とポリシリコン膜との界面特性を向上させること、タングステンシリサイド膜内のフッ素による誘電体膜の劣化を防止することができるフラッシュメモリ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板１１の上部にトンネル酸化膜１２及び第１ポリシリコン膜１３を形成した後、パターニングする段階と、全体構造の上部に誘電体膜１４、第２ポリシリコン膜１５及びタングステンシリサイド膜１６を形成する段階と、酸化工程を実施して上記タングステンシリサイド膜１６内の剰余シリコンを上記タングステンシリサイド膜１６の上部の表面に移動させた後、酸化させて酸化膜１７を形成する段階と、上記酸化膜１７を除去する段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】良好な特性を示す記録層を直流スパッタリングで形成するのに適したスパッタリ
ングターゲットとその製造方法、並びに、該スパッタリングターゲットを用いた高密度光
記録媒体とその製造方法の提供。
【解決手段】（１）Ｂｉ、Ｆｅを含み、比抵抗が１０Ωｃｍ以下であることを特徴とする
スパッタリングターゲット。
（２）Ｂｉ、Ｆｅ、及びＯを含み、更に導電性を付与する物質を含むことを特徴とするスパッタリングターゲット。
（３）Ｂｉ、Ｆｅ、及びＯを含み、化学量論組成よりも酸素が少ない化合物を含む（１）から（２）のいずれかに記載のスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置および方法において、突沸により発生した物質を捕捉するとともに、十分な膜厚を安定して確保する。
【解決手段】蒸着材料５を加熱して、蒸発した該蒸着材料を基板３に蒸着させる蒸着装置１は、蒸着材料５を収容する本体１１と、蒸着材料５より上方に配置されて蒸着材料５の突沸により発生する物質を捕捉する捕捉部材１２とを有する蒸着ボート６と、蒸着ボート６を加熱する加熱手段７とを備える。蒸着の際に、捕捉部材１２の温度が、蒸着材料５の温度以上となるように構成する。 （もっと読む）

【課題】軟質難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する被覆切削工具を提供する。
【解決手段】被覆切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）Ｃｒ硼化物層の表面層、（ｂ）組成式：（Ｔｉ_{１−（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＢ_Ｙ ）Ｎ（ただし、原子比で、０．４５≦Ｘ≦０．６５、０．０１≦Ｙ≦０．１０、０．５０≦Ｘ＋Ｙ≦０．７０を示す）、を満足するＴｉとＡｌとＢの複合窒化物層の耐摩耗硬質層、からなる硬質被覆層を形成してなり、さらに、前記表面層の少なくとも切刃稜線部を含むすくい面部分および逃げ面部分の表面粗さを、前記表面層全面に、Ｃｒ窒化物層で構成された研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材として、酸化アルミニウム微粒を配合した研磨液を噴射し、前記の研磨材層のウエットブラストによる粉砕化Ｃｒ窒化物微粒と、噴射研磨材としての酸化アルミニウム微粒の共存下で研磨して、Ｒａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】基板処理のサイクルタイムを減じる装置と方法を提供すること。
【解決手段】本基板処理装置１は、送り込み領域６と、コーティング処理用の第１〜４のプロセスチャンバ２、３、４、８と、取り出し領域７とを備える。これらのチャンバは中央搬送チャンバ５に接続される。第１と第４のチャンバ２、８はそれぞれロック領域６、７の一方と中央搬送チャンバ５との間に直列に配列される。第２と第３のチャンバ３、４は、互いに独立してアクセスされることが可能なように中央搬送チャンバに並列接続される。本処理方法によれば、ａ）基板を装置内に送み、ｂ）基板を第１のチャンバ内に搬送し、第１の処理ステージを実行し、ｃ）基板を中央搬送チャンバに搬送し、ｄ）基板を、代替的に第２又は第３のチャンバに搬送し、第２の処理ステージを実行し、ｅ）基板を中央搬送チャンバに搬送し、ｇ）基板を装置から取り出す。 （もっと読む）

【課題】潤滑油の給油が制限された条件下においても耐摩耗性、耐焼付性及び摺動性に優れたミシンを提供する。
【解決手段】ミシン１において、硬化処理を行っていない低炭素鋼及び低炭素合金鋼からなる母材の表面にポーラス層と緻密層からなる窒化化合物層を生成し、その上にスパッタリングコーティング方式によりＣｒ又はＷ等の金属層からなる中間層を介在させ、さらにその上にＤＬＣ層を形成した。母材とＤＬＣ層との間に中間層を設けたことで、母材とＤＬＣ層との密着性が向上する。また、最表面にＤＬＣ層を形成することで、表面の硬度を向上することができると共に、表面の摩擦抵抗が減少するため潤滑性を向上することができる。これにより、強制的に給油を行わないドライ環境下においても、強制的に給油を行っていた従来のミシンと同等の耐久性を達成することができる。 （もっと読む）

【課題】アークを迅速かつ確実に識別することができる、アーク識別方法およびアーク識別装置を提供すること。
【解決手段】ａ．評価信号である出力信号または出力信号と関連する信号が、評価信号の半波が正の場合には基準値を超える時点、または、評価信号の半波が負の場合には基準値を下回る時点を突き止め、ｂ．当該時点に続く時点、すなわち、評価信号が同じ半波内で、評価信号の半波が正の場合には基準値を下回る時点、または評価信号の半波が負の場合には基準値を上回る時点を突き止め、c．当該時点のうちの少なくとも１つの時点を用いて、少なくとも１つの時間区間を突き止め、ｄ．出力信号の後続の半波に対して、ステップａ）〜ｃ）を繰り返し、ｅ．相応する時間区間を比較し、ｆ．相応する時間区間が所定の許容差を超えて相違している場合にアーク識別信号を生成する、プラズマ処理におけるアーク識別方法。 （もっと読む）

【課題】高速切削加工で硬質潤滑層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆超硬合金製切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）マグネトロンスパッタリング装置にて、磁場中成膜されたＴｉＮ層またはＴｉＣＮ層の密着接合層、（ｂ）同じく磁場中成膜され、非晶質炭素と非晶質ＷＣの２相混合相からなる非晶質分散相と、組成式：（Ｔｉ_１−ＸＷ_Ｘ）Ｃ_１−ＹＮ_Ｙ（ただし、原子比で、Ｘ：０．０１〜０．３、Ｙ：０．５〜０．８）、を満足する（Ｔｉ，Ｗ）ＣＮからなる結晶質連続相の組織、Ｗ：２〜１８原子％、Ｔｉ：３０〜４５原子％、窒素：３０〜４５原子％、を含有し、残りが炭素（ただし、５〜２５原子％含有）と不可避不純物からなる全体組成、を有する硬質潤滑層、以上（ａ）および（ｂ）を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】プラチナまたはプラチナ合金被膜特有の色調が得られ、へこみや傷等による外観品質の劣化が起きにくく、しかも、高級感のある白色被膜を有する装飾品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の白色被膜を有する装飾品は、金属またはセラミックスからなる装飾品用基材と、該基材表面に形成された下地層と、この表面に乾式メッキ法により形成された炭化チタン層と、この表面に乾式メッキ法で形成されたプラチナまたはプラチナ合金からなる装飾被膜層とで構成される。これにより、上記装飾品は、傷等による外観品質の劣化が起きにくく、しかも、プラチナまたはプラチナ合金被膜特有の色調が得られ、高級感のある白色被膜を有する。 （もっと読む）

【課題】使用初期において、摺動により摩擦係数を速やかに低下させて、早期に低摩擦係数で安定させることのできる、なじみ性の高い硬質炭素膜を提供する。
【解決手段】基材１上に中間層２を介して形成された硬質炭素膜３が、ダイヤモンドライクカーボン層６と、ダイヤモンドライクカーボン層６上に形成されたグラファイト粒子堆積層７とからなる。グラファイト粒子堆積層７は、ラマン分光分析によるラマンスペクトルをピーク分離して得られる、Ｄバンドを表すピークの面積強度Ｉ_D とＧバンドを表すピークの面積強度Ｉ_G の比たる、Ｉ_D ／Ｉ_G が１以下である。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングにより成膜するに際し、大気に解放してメンテナンスを行う必要性を少なくすることができ、成膜プロセスの安定化を図ることが可能となるスパッタ装置を提供する。
【解決手段】減圧した前記チャンバーにスパッタリングガスを導入し、電力印加によるスパッタリングによって前記基板に成膜を行うスパッタ装置において、
前記成膜に際し、成膜に用いるターゲットをカソードとして機能させると共に、前記成膜に用いるターゲットと異なる位置に設けられた成膜に用いない金属ターゲットをアノードとして機能させ、成膜するように構成する。 （もっと読む）

【課題】β−ＦｅＳｉ_２半導体を、今後様々なデバイスへ用いる場合、光及び電気特性の
制御が必要となる。特に、キャリア濃度の低減と制御、及び光学バンドギャップの値の制
御などは必要不可欠である。
【解決手段】β−ＦｅＳｉ_２の薄膜の物理気相成長法又は化学気相成長法において、基板
温度を４００℃以上とし、成膜時の雰囲気に水素ガスを流入して成長する薄膜中に水素を
混入することによりβ−ＦｅＳｉ_２を水素化させ、水素化の度合いにより光学バンドギャ
ップの値及び比抵抗の値を制御した直接遷移型半導体を形成することを特徴とするβ−Ｆ
ｅＳｉ_２半導体薄膜の製造方法 （もっと読む）

【課題】離型性が良好で、耐久性の高い光学素子成形用型の製造方法および光学素子成形用型を提供する。
【解決手段】光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型１１の成形面に、中間層１４を形成した後、この中間層上にａ−Ｃ：Ｈ膜を含む硬質炭素膜１３を形成する。
その際、前記中間層が、炭素を３０ａｔｏｍ％以上、ケイ素を２０ａｔｏｍ％以上、酸素を５ａｔｏｍ％以上で２０ａｔｏｍ％以下、水素を５ａｔｏｍ％以上で１５ａｔｏｍ％以下とする元素組成を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】高級感があり、耐傷付き性に優れ、傷等による外観品質の劣化が起きにくく、しかも、ステンレス鋼被膜に近い、高級感のある白色被膜を有する装飾品を提供する。
【解決手段】本発明の白色被膜を有する装飾品は、最外層として貴金属または貴金属の合金からなる白色色調を有する被膜が乾式メッキ法により形成された装飾品において、金属またはセラミックスからなる装飾品用基材と、該基材表面に形成された下地層と、該下地層の表面に乾式メッキ法により形成された耐摩耗層、および該耐摩耗層の表面に乾式メッキ法により形成された最外層からなる発色層とから構成され、前記発色層は、厚み０．２〜１．５μｍの耐摩耗層と厚み０．００２〜０．１μｍの最外層とからなる、ステンレス鋼色調を有する硬質の白色被膜であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高価な金属の使用量を削減してコストを下げても、十分な光輝性及び不連続構造の金属皮膜が得られるようにする。
【解決手段】樹脂製品１０（例えばミリ波レーダー装置カバー）は、板状の樹脂基材１１と、樹脂基材１１の上に成膜された下地膜１２と、下地膜１２の上に成膜された光輝性及び不連続構造の金属皮膜１３とを含み、金属皮膜１３の上には保護膜としてのトップ塗膜、おさえ塗膜等が形成される。金属皮膜１３は、第１の金属が真空蒸着されてなる不連続構造の第１膜１３ａと、第１膜１３ａの表面が空気に触れて改質された改質表面１３ｂと、改質表面１３ｂの上に第２の金属が真空蒸着されてなる不連続構造の第２膜１３ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】放電インピーダンスを一定に保ち、高精度な膜厚制御が可能となるスパッタ装置およびスパッタリングによる成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜室にターゲットを備え、前記成膜室における前記ターゲットと対向する基板ホルダーに保持された基板に、スパッタリングによって成膜するスパッタ装置を、つぎのように構成する。
前記ターゲット１−２の前記基板方向前方に、前記ターゲットから飛び出す電子の進行を妨げる前記基板ホルダーと同電位の遮蔽部材１−５が位置するように構成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、摺動材の摺動面全体に微細周期構造の形成及び表面改質を行うことで優れたトライボロジー特性を有する摺動材及びその製造方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】摺動材の基材１の摺動面に成膜されたＤＬＣ膜２に、低フルーエンスのパルスレーザ（フェムト秒レーザ等）を照射することで、照射領域をガラス状炭素に改質された改質領域３とするとともに微細周期構造４を形成する。こうして表面加工された領域を被覆するように潤滑層５を形成することで、摩擦係数等のトライボロジー特性が大幅に改善された摺動材を得ることができる。 （もっと読む）