本発明の1つの目的は、気化させる粒子状材料を再装填する効率的な方法を提供することである。この目的は、気化ゾーンを有する蒸着チェンバーの中に材料を供給してその材料を気化させて層を形成する方法によって達成される。改善点として、材料の汚染を防ぐために制御された環境下で材料を受け取るキャビティを規定するカートリッジを用意するステップと、そのキャビティからの材料を受け取り、受け取ったその材料を供給路に沿って気化ゾーンまで移動させるステップと、カートリッジを蒸着チェンバーに取外し可能に固定するステップを含んでいる。
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【課題】 不純物を低減して、リン分子を分子線として照射することができる分子線源および分子線源使用方法を提供する
【解決手段】 充填空間１１に赤リン材料を充填し、充填空間１１と精製空間１２とを連通させた状態で、充填部２１を第１気化温度ｔ１ｇに加熱して充填空間１１に存在する赤リンを昇華して、精製空間１２に白リンを凝縮する。次に精製空間１２と貯留空間１３とを連通させた状態で、精製部２２を第１気化温度ｔ１ｇよりも低い第２気化温度ｔ２ｇに加熱して精製空間１２に存在する白リンを気化して、貯留空間１３に白リンを凝縮する。このようにして貯留空間１３に生成した白リンを分子線の照射材料として用いて、リン分子線を照射する。 （もっと読む）

【課題】 複数の球状レンズに対して成膜材料源から飛び出した粒子状の成膜材料を到達させるに際して、全ての球状レンズに均一に且つそれぞれの中央部分に重点的に成膜材料が被着するようにして、この種の球状レンズを使用してなる光学部品の光学特性を良好なものとする。
【解決手段】 成膜処理チャンバ２の内部において、成膜用治具６が、成膜エリアＥ１，Ｅ２内に位置している時に、全ての球状レンズ１２の中央部分に向かって成膜材料が飛行する状態を維持して、成膜材料の飛行方向と平行な回転軸線７廻りに回転すると共に、回転軸線７廻りに回転し得る状態を維持して、成膜材料の飛行方向Ａと直交する仮想平面内で成膜エリアＥ１，Ｅ２を通過する無限軌道に沿って移動する。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着装置において、膜厚の設計自由度を高めるとともに微調整を容易とし、かつ、膜厚設計用の可動部材の収納性を高める。
【解決手段】真空槽内に、基板の保持手段と蒸着源とを備える真空成膜装置において、さらに、基板の成膜面に蒸着源に対する遮蔽領域を形成する少なくとも１つの遮蔽部材、遮蔽部材の駆動源、および、駆動源の制御装置を備え、制御装置が、遮蔽部材が遮蔽領域を形成しない状態における基板の面内膜厚分布の実測値または計算値および基板の面内膜厚分布の目標値を予め記憶しておく記憶手段、並びに、記憶手段に入力された各値に基づいて、基板上の各点の位置に対応する成膜時間を算出し、成膜時間に基づいて駆動源の操作量を決定する演算手段からなり、駆動源がその操作量に基づいて遮蔽領域の位置を移動させて所望の面内膜厚分布を得るよう構成した。 （もっと読む）

【課題】直径２インチのような大面積半導体基板を所望の温度速度で均一に加熱することができ基板加熱装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバ１内に基板２を取り付け、レーザダイオードバーを複数積層して形成した半導体レーザ発振器１３よりの高出力半導体レーザ光をレーザ光集光手段１４によって集光して光ファイバ１５に通して均一な強度分布の円形レーザ光とした後光学レンズ装置１２により上記レーザ光を拡散してから基板２に照射して基板２を加熱する。 （もっと読む）

【課題】ＭｇＯ基板を効率よく均一に加熱し、ＭｇＯ基板の上に酸化物超伝導体薄膜を均一に形成することができる酸化物超伝導体薄膜製造方法を提供する。
【解決手段】ＭｇＯ基板１０１の裏面に、膜厚３００ｎｍ程度のカーボン層１０２を形成した後、分子線エピタキシー装置に搬入し、カーボン層を輻射加熱することでＭｇＯ基板を均一に加熱し、ＭｇＯ基板の主表面にＮｄ1Ｂａ2Ｃｕ3Ｏ7-d（０≦ｄ≦０．３）からなる酸化物超伝導体薄膜１０４を形成する。次に、カーボン層を除去してＭｇＯ基板の裏面を露出させる。このＭｇＯ基板を、分子線エピタキシー装置の処理室内に搬入し、ＭｇＯ基板に形成されている酸化物超伝導体薄膜を輻射加熱することでＭｇＯ基板を加熱し、ＭｇＯ基板の裏面に、Ｓｍ1Ｂａ2Ｃｕ3Ｏ7-d（０≦ｄ≦０．３）からなる酸化物超伝導体薄膜を、膜厚６００ｎｍ程度に形成する。こうして、ＭｇＯ基板の両面に酸化物超伝導体薄膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】大面積の基板に対しても、シャドーマスクを用いることなく、選択的に薄膜の形成を行うことのできる成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】蒸発源１００は筒状セル１２８と、それを加熱する下側ヒータ１３４、上側ヒータ１３６を備えている。加熱板１３０は、その内側に設けたヒータ１３８により温度制御が可能となっている。加熱板１３０は、連結する材料供給部１０２から筒状セル１２８内に供給される蒸着材料を加熱し、蒸発若しくは昇華によって気化させる。加熱板１３０を筒状セル１２８内で回転させる回転機構１３２を設け温度の均一化を図っても良い。材料供給部１０２を加熱するヒータ１４０を設けて、筒状セル１２８内に供給する蒸着材料の温度を上げるようにしても良い。このような蒸発源１００により、大面積の基板に対しても均一性良く、連続して成膜することができる。 （もっと読む）

【課題】安定した光学特性とを有し、且つ耐久性に富む光学多層膜と、その製造方法とを提供する。
【解決手段】高屈折率誘電体膜３１の一部もしくは全部がアナターゼ結晶構造を有する二酸化チタン製とする。 （もっと読む）

【課題】カソードの抵抗を減少させることができると共に、素子の暗点不良を最小化することができる蒸発源及びこれを用いた真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明は、蒸発源及びこれを用いた真空蒸着装置に関し、本発明は、薄膜材料が収容された空間部及び薄膜材料を外部に吐出する開口部を含むるつぼと；前記るつぼの空間部に位置し、１つ以上の孔を有するインナープレートと；前記るつぼの外周面に位置する加熱装置と；を備え、前記インナープレートは、多段に積層されることを特徴とする蒸発源及び真空蒸着装置を開示する。
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【課題】均一かつ細密に充填したＳＡＭを大面積の基板に形成することを可能とする装置及び方法を提供する。
【解決手段】自己組織化分子を含有する液体原料を気化し、基板上に自己組織化単分子膜を形成する装置であって、前記基板を内部に保持する成膜室と、前記液体原料を前記成膜室内に直接噴射する噴射弁を備えるようにした。 （もっと読む）

【課題】分子線源セル内の分子線材料の残量の減少により熱容量が変化しても、分子線源セルの温度制御性能の低下を抑え、安定した成膜を継続して行なうことができる分子線源セルの制御システムを提供する。
【解決手段】本発明の分子線源セルの制御システムは、分子線エピタキシャル装置の温度制御システムであって、成膜終了後、成膜開始までの間に、フィードバックゲインの調整の要否を判断する判断手段と、変温手段による坩堝の加熱または冷却と、温度計測手段からの坩堝の温度変化の情報に基づいて、温度制御手段内のフィードバックゲインを調整する調整手段とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製造過程で異物が付着したとしてもショートの発生を抑制することが可能な表示装置の製造装置、及び、表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 表示素子を構成する第１電極を形成済みの処理基板ＳＵＢを保持する保持機構２２０と、光活性層を形成するための材料を放射する蒸着源２１０と、保持機構２２０によって保持された処理基板ＳＵＢと蒸着源２１０とが対向した状態で相対的に蒸着源２１０が処理基板ＳＵＢの一端部ＳＡから他端部ＳＢまで走査するように蒸着源２１０及び処理基板ＳＵＢの少なくとも一方を移動させる移動機構２４０と、を備え、移動機構２４０は、処理基板ＳＵＢの一端部ＳＡから他端部ＳＢに向かう順方向に規定幅で移動させた後に前記処理基板の他端部から一端部に向かう逆方向に規定幅より小さい幅で移動させる揺動を繰り返して走査させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、酸素や水蒸気に対するバリア性の良好なガスバリアフィルムを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基材と、上記基材の少なくとも一方の面に形成され、蒸着膜からなるガスバリア層と、上記ガスバリア層上に形成され、有機金属化合物の加水分解物またはＭ_２Ｏ・ｎＳｉＯ_２（Ｍはリチウムまたはリチウムを含む複数のアルカリ金属、ｎはモル比で１〜２０の範囲内）で表されるアルカリ金属ポリシリケート、および窒素含有ケイ素化合物を含有する膜からなるゾルゲルコート層とを有し、上記ゾルゲルコート層の膜厚が、０．０１μｍ〜５０μｍの範囲内であることを特徴とするガスバリアフィルムを提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】高温の排気ガスによる変色や酸化を防止することができる内燃機関用排気管を提供する。
【解決手段】本発明による内燃機関用排気管は、内燃機関からの排気ガスが通過する通路６を囲む金属管５と、金属管５の外側を覆っており、金属管５の表面に主として含まれる金属元素の含有率が０．５質量％以下であるセラミックス膜１０とを備えている。セラミックス膜１０は、３０質量％以下のＯおよび１０質量％以上のＮを含むＳｉＯＮ膜である。 （もっと読む）

【課題】フォトクロミック機能を有する塩化銀または塩化銀を主成分とする薄膜を、真空蒸着手法のみによって容易に形成できるようにする。
【解決手段】塩化銀または塩化銀を主成分とする蒸着材料を、１００℃以上の温度での複数段階の昇温加熱で熔解させて真空蒸着する。 （もっと読む）

【課題】従来の真空蒸着装置においては、ワークホルダの自転機構は駆動源を直接持たない間接的な機械式回転機構のため一定の広角度ステップでしか自転できない。又、支持ホルダに所定の傾きでワークホルダを設置しているので、ワークホルダの自転軸の傾きが蒸着源に対し一定となってしまい、蒸着源方向に対面露出できない被蒸着物表面（特に側面）が生じてしまう。
【解決手段】蒸着炉内の蒸発源より加熱蒸発した蒸発粒子を、被蒸着ウエハ及びマスク等から構成され且つ蒸着炉内で自公転する複数個の被蒸着ワークに蒸着する機構を備えた真空蒸着装置において、被蒸着ワークを保持自転させるワークホルダに、このワークホルダ自体を回転させる第１の回転機構と、ワークホルダに保持されている被蒸着ワークを回転させる第２の回転機構との２軸自転機構を備えている真空蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、酸素や水蒸気に対するバリア性の良好なガスバリアフィルムを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基材と、上記基材の少なくとも一方の面に形成され、蒸着膜からなるガスバリア層と、上記ガスバリア層上に形成され、有機金属化合物の加水分解物またはＭ_２Ｏ・ｎＳｉＯ_２（Ｍはリチウムまたはリチウムを含む複数のアルカリ金属、ｎはモル比で１〜２０の範囲内）で表されるアルカリ金属ポリシリケート、およびポリエチレンイミンを含有する膜からなるゾルゲルコート層とを有することを特徴とするガスバリアフィルムを提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】 接触する被切削材の凝着を大きく抑制でき、しかも、基材と皮膜との密着性に優れ、これによって優れた耐摩耗性を確保することが可能な切削工具と、工業的な量産規模での製造を可能とする前記切削工具の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る切削工具１は、超硬合金からなる基材１Ａと、該基材１Ａの表面に形成された皮膜１Ｂとを備え、少なくとも被切削材Ｍと接触する接触面、或いは少なくとも逃げ面において、前記皮膜１Ｂの最外層がＳｉＣからなることを特徴とする。切削工具１は、ＳｉＣを成膜源とする物理蒸着法（好適にはレーザデポジション法）を用いて、超硬合金からなる基材１Ａの表面に最外層がＳｉＣからなる皮膜１Ｂを形成することによって製造される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ナノオーダー強誘電分域構造を持ち、且つ製作工藝も簡単だった強誘電分域アレイ構造及びその製造方法、及び該強誘電分域アレイ構造を持つ強誘電フィルムを提供する。
【解決手段】本発明の強誘電分域アレイ構造は、複数の強誘電分域構造を備え、前記強誘電分域構造はナノオーダー直径を持ち、且つ、強誘電フィルムの内に三角格子状に緊密に配列される。本発明の強誘電分域アレイ構造の製造方法は、一つの表面を備え、且つ一定の厚さを有する強誘電フィルムを提供するステップと、前記強誘電フィルムに、前記表面に垂直なように、一定の電界を印加することにより、前記強誘電フィルム内に、強誘電分域アレイ構造を形成するステップとを備える。本発明の強誘電フィルムは、前記強誘電分域アレイ構造を備える。 （もっと読む）

反射性、水密性、水蒸気透過性のメンブレンの製造方法において、水密性、水蒸気透過性のメンブレンを設けるステップと、担体フィルムを設けるステップと、該メンブレンを該担体フィルムに被着するステップと、真空蒸着法によって該メンブレンの自由な表面に金属表面を被着するステップと、水密性、水蒸気透過性のカバー層を被着するステップと、該担体フィルムを除去するステップとを有する製造方法。連続的なカバー層が設けられた金属コーティングを有する反射性、水密性、水蒸気透過性のメンブレンにおいて、ＤＩＮ ＥＮ ＩＳＯ ６３３０：２０００にしたがって３回洗浄を行った後になお活性の金属コーティングの表面の少なくとも８０％が得られることを特徴とするメンブレン。 （もっと読む）