【課題】
結合剤のない針状貯蔵燐光体パネルにおいて、良好な内部湿分耐性を有するものを提供する。
【解決手段】
蒸着装置のるつぼユニットからマトリックス成分、活性化剤成分及び／又はそれらの組み合わせを含む燐光体プリカーサ原材料を蒸着することによって専用の支持体上に被覆された燐光体層を有する貯蔵燐光体パネルの製造方法であって、前記方法が（１）前記プリカーサ原材料をるつぼユニットに加え、そして（２）前記燐光体プリカーサ原材料から燐光体層を蒸着し、蒸着がるつぼユニットにおいて高い温度で行なわれ、前記温度が前記マトリックス原材料の溶融温度を７０℃より多く越える、工程を含み、前記燐光体層の「活性化剤被覆重量数」が少なくとも７０００の値に達する。 （もっと読む）

【課題】
蒸着工程による貯蔵燐光体プレートの製造方法において燐光体のスピードを最適化する。
【解決手段】
マトリックス成分及び活性化剤成分又はそのプリカーサ成分を燐光体プリカーサ原材料として加熱することによって及び／又はるつぼユニットから蒸着することによって支持体上に貯蔵燐光体層を作る方法であって、前記プリカーサ原材料をるつぼにおいて液体形態で加熱する工程が温度Ｔ_１まで行なわれ、前記プリカーサ原材料を前記煙突において蒸発された形態で加熱する工程が温度Ｔ_２まで行なわれる方法において、正の温度差［Ｔ_２−Ｔ_１］が維持されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】放出される油気の量を設定可能な、基材にオイルを蒸着するための装置を提供する。
【解決手段】この構成は、オイルパンと、線状に配置された孔を有するカバーとを有する。このカバーの上に密封装置が載っており、この密封装置も開口部を有する。この密封装置によって、カバーの孔を開閉可能であり、全ての孔を同時に処理することができる。密封装置によって、極めて短時間に、異なる気化速度を設定することができる。 （もっと読む）

【課題】 基板の表面に形成する薄膜に混入する還元作用を有するガスの量を抑制するとともに、基板の表面または基板の表面に形成する薄膜に与える損傷を抑制して基板の表面に結晶性の高い薄膜を形成することができる分子線エピタキシャル成長装置および分子線エピタキシャル成長方法を提供する。
【解決手段】 成長室１３の収容空間１２には、ウエハ１８を保持するマニピュレータ２１、分子線を発生する分子線源２２および液体窒素によって冷却されるシュラウド２３が設けられる。収容空間１２には、ウエハ１８が直接見込めない位置から、分子状態の水素ガスが導入される。収容空間１２に導入された水素ガスの分子は、シュラウド２３の表面に衝突しながら拡散する。収容空間１２に拡散された水素ガスを含む雰囲気において、分子線エピタキシャル成長を行い、ウエハ１８の表面に高品質な薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】同一の分子線材料を有する分子線セルを複数有する分子線エピタキシャル装置の稼動率を向上させ、かつ、成膜において高い再現性を実現する、分子線エピタキシャル装置の制御装置を提供する。
【解決手段】分子線エピタキシャル装置１００の制御装置１１８は、同一の分子線材料１０５を有する複数の分子線セル１０７について、各分子線セル１０７内の分子線材料１０５の残量を求める残量算出部４０５と、次回の成膜における各層での同一の分子線材料１０５の合計の消費量を等しくしたまま、上記各分子線セル１０７における設定を変更したものについて、次回の成膜後の当該各分子線セル１０７に残存する分子線材料１０５の予測消費時間を算出する予測消費時間算出部４０６と、上記予測消費時間の差が小さくなるように、次回の成膜での上記各分子線セル１０７における設定を決定するセル設定決定部４０７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】マスクを介して被蒸着基板に蒸着材料を真空蒸着する場合に、マスクと被蒸着基板１０の蒸着面との密着性を向上することができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置の基板ホルダー１２は、被蒸着基板１０を裁置する額縁状のステンレス製のマスクフレーム２４と、この上方に配されたアルミニウム製の額縁状の押さえ板２２と、この押さえ板２２の上方で上下動するマグネット板２０とより構成され、このマスクフレーム２４の内部にシート状のマスク２６が張設され、マグネット板２０によってマスク２６を吸引して、被蒸着基板１０の一主面にマスク２６を密着させる。 （もっと読む）

【課題】電池の充放電に伴い（リチウムイオンの吸蔵・放出に伴い）集電体上から活物質としてシリコンを含む薄膜が剥離し難いリチウム二次電池用電極の製造方法を提供する。
【解決手段】真空蒸着法にて集電体上にリチウムイオンを吸蔵・放出する活物質としてシリコンを含む薄膜を形成したリチウム二次電池用電極の製造方法である。集電体に薄膜を形成する際に、集電体とシリコンを含有する薄膜原料とを、0.01Pa〜1Paの雰囲気圧力に調節した不活性ガス中に配置するとともに、薄膜原料を溶融して蒸発させて、集電体上にシリコンを含む薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】作業効率の向上を図り得る真空蒸着用アライメント装置を提供する。
【解決手段】マスク保持体５により保持されたマスク体４と基板保持体７により保持されたガラス基板６との位置合わせを、蒸着用とは異なる位置合わせ用真空容器２内で行うとともに、各真空容器に対するこれらの搬入出を、マスク体４に基板６を載置し、さらにこの基板に押さえ板９を載置した状態で、搬送手段１７にて行うようにした装置であって、搬送手段により支持されたマスク体をマスク保持体にて保持した際に、押さえ板だけを持ち上げ得る押さえ板支持棒７２を当該マスク保持体の保持枠７１に設けるとともに、マスク体に基板が載置された状態で昇降手段１６にて基板保持体を上昇させた際に、当該基板保持体の保持枠７４に、基板だけを持ち上げ得る基板支持棒７５を設けたもの。 （もっと読む）

【課題】構造欠陥の発生が少ない蛍光体シートの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板上への成膜材料の蒸着により所定の蛍光体膜を形成する蛍光体シートの製造方法であって、前記基板を前記成膜材料の蒸発源上方から退去させておき、前記基板と前記成膜材料の蒸発源との間に設けられている開閉可能なシャッタを閉じた状態で前記成膜材料の蒸発を開始し、一定時間経過後に、前記シャッタを開き、その後に前記基板の搬送を開始し、前記基板上に前記蛍光体膜を形成することを特徴とする蛍光体シートの製造方法。 （もっと読む）

【課題】シャドウマスクによるアプローチを利用して、高密度パターン化メディア上にサーボパターンを加工する装置、システム、方法を提供する。
【解決手段】装置は、リソグラフィックプロセスによって生成される、複数のアパーチャ306を有する蒸着マスク302を含む。固有の蒸着角度に方向付けされた蒸着ソース500から蒸着マスク302のアパーチャ306を通して、材料308を基板300上に形成する。このように、各アパーチャ306は複数の蒸着位置310に対応する。アパーチャ306の寸法を正確に定めて、アパーチャを正確に位置付けることによって、結果として定まる蒸着位置からサーボパターンフィーチャーを生成する。前記蒸着マスクは、前記基板上で複数の蒸着位置に材料を向けるようになっている複数のビットパターンアパーチャをさらに含む。前記蒸着位置は、サーボパターンの形成と同時にビットパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】垂直または水平蒸着方法を利用して薄膜を蒸着する際に、移動する蒸発源に形成された加熱部によりチャンバ内部に温度差が生じる現象を最小化することができる薄膜蒸着装置及びそれを用いた薄膜蒸着方法を提供する。
【解決手段】内部が真空状態に保持される真空チャンバと、前記真空チャンバ内に加熱部を有し、薄膜材料を収納する蒸発源と、前記蒸発源と対向するように配設された基板に対応する成膜部と、前記成膜部以外の位置に対応する防着部とを備える薄膜蒸着装置において、前記防着部は、前記加熱部で発生する熱吸収手段を有して、前記チャンバ内部の温度を均一に維持する。 （もっと読む）

【課題】 膜厚制御誤差が小さい多層膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 蒸着源４を有するチャンバ１内に、複数の基板を保持するホルダ５と、成膜中に所定の観測波長の光に対する反射率又は透過率をモニタして各層の膜厚を制御するために、各層を形成するごとに切り替わってホルダ５の開口部5aに露出する複数の第一のモニタ基板11と、多層膜の反射率又は透過率の分光特性をモニタするために、ホルダ５上に設置された第二のモニタ基板12とを有する装置により基板上に多層膜を形成する方法であって、第一のモニタ基板11の各層の反射率又は透過率から算出される各層の屈折率と、各層の屈折率及び第二のモニタ基板12上の多層膜の反射率又は透過率の分光特性から推定される各層の物理膜厚とに基づいて以降形成する層の膜厚の設計値を変更する工程を有することを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】高いガスバリア能を有し、かつカール耐性に優れたガスバリア性薄膜積層体、ガスバリア性樹脂基材を高い生産性で提供し、またガスバリア性薄膜積層体、ガスバリア性樹脂基材を用いて密着性及びガスバリア耐性に優れた有機エレクトロルミネッセンスデバイスを提供する。
【解決手段】ポリマー膜と無機膜をそれぞれ少なくとも１層有するガスバリア性薄膜積層体において、該ポリマー膜の少なくとも１層が、大気圧またはその近傍の圧力下で重合性モノマーを含むガスを基材の表面に吹き付け、基材表面上で重合させて形成された重合膜であることを特徴とするガスバリア性薄膜積層体。 （もっと読む）

【課題】近接昇華法を用いた炭化ケイ素単結晶ウェハの製造において、昇華用原料を均熱加熱できる製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】昇華用原料２と炭化ケイ素基板４の間に炭化ケイ素単結晶の成長領域を形成することができる程度に昇華用原料２と炭化ケイ素基板４を近接して配置した後、坩堝１０の昇華用原料２収容側から電子衝撃加熱して昇華雰囲気を形成し、炭化ケイ素基板４上に炭化ケイ素単結晶を成長させる。上記炭化ケイ素基板としては、α型（六方晶）炭化ケイ素単結晶から、前記炭化ケイ素単結晶の（０００１）ｃ面から０．４度以上２度以下のオフ角で切り出された炭化ケイ素単結晶ウェハを用いる。 （もっと読む）

本発明は、ジルコニア系成分、例えば、イットリア安定化ジルコニア、及び（アルミナ＋シリカ）系成分、例えば、ムライトを含むセラミック粉末に関する。このセラミック粉末は、溶射装置で堆積することにより、同じ組成を有する耐熱衝撃性被覆を形成するのに有用である。本発明は、ガスタービンエンジンの熱的環境のような高温環境に曝される部品を保護するのに適した熱障壁被覆組織にも関する。本発明は、更に、自立した固体セラミック物品を形成することにも関する。 （もっと読む）

【課題】耐久性（耐光性）に優れるとともに、例えば、液晶分子の配向状態を規制する機能に優れる無機配向膜を備える電子デバイス用基板、かかる電子デバイス用基板を製造する電子デバイス用基板の製造方法、信頼性の高い液晶パネルおよび電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶パネル１は、ＴＦＴ基板１７と、ＴＦＴ基板１７の内表面に接合された無機配向膜３と、液晶パネル用対向基板１２と、液晶パネル用対向基板１２の内表面に接合された無機配向膜４と、無機配向膜３と無機配向膜４との空隙に封入された液晶分子を含有する液晶層２と、ＴＦＴ基板１７の外表面に接合された偏光膜７と、液晶パネル用対向基板１２の外表面に接合された偏光膜８とを有している。無機配向膜３、４は、それぞれ、ＴＦＴ基板１７または液晶パネル用対向基板１２の内表面にほぼ平行、かつ、長軸がほぼ一定方向に向くように配設された複数の角柱状の無機粒子で構成されている。 （もっと読む）

【課題】熱による微量の遊離ハロゲンとの反応による反射率の低下を抑制し且つ耐熱性を改善しつつ、高い反射率および低い電気抵抗を有し、しかも熱や湿度に対しても高い安定性を有する反射膜、配線用または電極用薄膜及び半反射型半透過膜、ならびにかかる膜の製造に有用なスパッタリングターゲット材および蒸着材料を提供すること。
【解決手段】Ａｇに、特定少量のＣｕとＴｅ、Ｓｅ、Ｐの少なくとも１種とＭｎを添加し、さらに必要に応じてＩｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、ＲｕおよびＩｒの少なくとも１種および／またはＮｉ、Ｆｅ、ＢｉおよびＣｒの少なくとも１種を少量追加添加してなるＡｇ基合金から構成された、スパッタリングターゲット材または蒸着材料ならびに反射膜、配線用膜、電極用膜または半反射型半透過膜。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ装置に用いられる基板に蒸着材料を真空蒸着する坩堝において、蒸着材料を最大限使い切ることができる発明を提供する。
【解決手段】その長手方向が基板１０の一辺と略同じ長さを有する直方体の箱形であって、その内部に蒸着材料を貯留するための貯留部２４と、貯留部２４に貯留された蒸着材料を加熱する加熱手段と、貯留部２４の上面に配置され、加熱手段により加熱されて昇華した蒸着材料が出射する吹出口２８を備えた蓋体２６とを備え、貯留部２４が複数の区画壁３０により長手方向に沿って複数に区画され、区画壁３０は、蓋体２６と距離をおいて配され、かつ、長手方向の中央部に対し周辺部で高さが低くなるよう形成される。 （もっと読む）

【課題】自動車部品等の製品に対する真空蒸着、スパッタリング、塗装等の手法による被覆において、作業性に優れ、かつ、安価に製造することができるマスク取付具を提供する。
【解決手段】マスク取付具１ａ自体をマスク３ａに着脱自在に取り付けるためのマスク取付部５ａと、製品７ａを係脱自在に係止するための製品係止部９ａとを備え、該マスク取付部と製品係止部とはそれぞれ弾性を有することを特徴とするマスク取付具。前記マスク取付部は、マスクの縁部３ａ’を挟持するための挟持手段である。挟持手段は係止爪１３ａを備えている。製品係止部は係止爪を備えている。マスク取付具は合成樹脂により一体的に形成する。 （もっと読む）

【解決手段】本発明は、所定の有機薄膜を基板に形成するための有機物蒸着装置に関する。本発明による有機物蒸着装置は、蒸着チャンバと、前記蒸着チャンバ内に提供され、基板の処理面が下方を向くように前記基板を支持する支持部材と、前記基板の処理面に有機物を蒸発させる有機物蒸発器が設けられる蒸発器提供部と、前記有機物蒸発器の交換のために、前記蒸発器提供部に隣接して配置される蒸発器交換部と、を含む。従って、本発明による有機物蒸着装置は、有機物蒸発器の交換を自動的に行う。 （もっと読む）