【課題】有機発光素子の有機化合物層を蒸着する工程で、材料利用効率の低減を抑制しつつ、画素内の膜厚分布を均一化させる。
【解決手段】有機化合物層を有する有機発光素子を蒸着法により形成する工程で、蒸着源２０を基板１と相対的にＸ方向に移動させつつ、蒸着源２０からの蒸発する有機化合物をシャドウマスク１０を介して基板１に被着させる。基板１上の画素の間隔が広い側の画素配列方向と、蒸着源２０を移動させるＸ方向を一致させることで、シャドウマスク１０の開口部１１の端縁によるケラレを低減し、画素内の膜厚分布を均一化する。 （もっと読む）

【課題】電子工学、光学、又は光電子工学に応用するための、弾性的に歪みのない結晶材料製層を形成する方法の提供。
【解決手段】張力下で（又は圧縮して）弾性的に歪みのある第１の結晶層１と、圧縮して（又は張力下で）弾性的に歪みのある第２の結晶層２とを備え、前記第２の層が前記第１の層に隣接している構造体３０を用いて、それらの２つの層間での拡散ステップを備え、それにより２つの層のそれぞれの組成物間の差がほぼ同じになるまで次第に低減され、その後、それらの２つの層が、全体として均質な組成物を有する、結晶材料製のただ単一の最終層を形成する。それらの２つの層のそれぞれの組成物と、厚さと、歪みの程度とを最初に選択することにより、拡散後に、全体として弾性的な歪みを示さない最終層を構成する材料が得られることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
保安機能を備え、かつ、隣り合う分割部への影響を低減し、かつ任意の膜抵抗に対応する金属蒸着フィルムを手供する。
【解決手段】
高分子フィルムの少なくとも片面に金属が蒸着された金属蒸着フィルムであって、該金属蒸着面に、長手方向に連続した少なくとも１本の非蒸着マージン、及び、下記（１）〜（３）を満たす複数本の幅方向の非蒸着マージンを含む金属蒸着フィルム。
（１）各非蒸着マージンには、それぞれ少なくとも１箇所の不連続部分がある。
（２）各非蒸着マージンは交差しない。
（３）隣り合う非蒸着マージンの間に、幅方向で少なくとも１ヶ所の狭隘部がある。 （もっと読む）

【課題】基板の電解研磨時間を短縮することで生産性を向上させることができ、さらには、単位面積当たりのクラックの発生を低減させ、且つ水平度に優れている超伝導ケーブル用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による超伝導ケーブル用基板の製造方法は、ハステロイ（登録商標）（Ｈａｓｔｅｌｌｏｙ）Ｃ−２７６またはステンレス鋼を、表面粗さがＲＭＳ（Ｒｏｏｔ Ｍｅａｎ Ｓｑｕａｒｅ）値にて１０ｎｍ以下の圧延ロールで圧延し基板を形成するステップと、圧延された基板を電解研磨液に浸漬して電解研磨するステップと、電解研磨された基板上に超伝導層を蒸着するステップとを含むことを技術的特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 良好な膜質の薄膜を形成することができる成膜装置の提供。
【解決手段】
ターゲット１１を保持するターゲットホルダ１０と、ターゲットホルダ１０を回転可能な回転機構８０と、成膜用基板２１を保持する基板ホルダ２０と、電子線を発生する電子線発生装置３０と、電子線収束装置４０と、レーザ光照射装置５０とを備えた回転ターゲット式成膜装置である。電子線収束装置４０は、回転機構８０により回転するターゲット１１に対して、電子レンズを形成することにより電子線発生装置３０から発生された電子線を収束させ、もってターゲット１１の少なくとも一部を液体化する。レーザ光照射装置５０は、液体化されたターゲット１１の少なくとも一部にレーザ光を照射してアブレーションを行う。 （もっと読む）

【課題】電子ビームの照射に対して分解し易い蒸発材料に好適な電子ビーム蒸発源、蒸着装置、並びに蒸着方法及びその蒸着方法により形成された光学膜を提供する。
【解決手段】電子ビーム照射に対して分解し易い蒸発材料１２ａを収納した材料収納部１２と電子銃とを備え、真空中で材料収納部１２内の蒸発材料１２ａに前記電子銃から出射された電子ビームＥＢを照射して蒸発材料１２ａを溶融し蒸発させる電子ビーム蒸発源において、材料収納部１２はグランドから電気的に絶縁されており、材料収納部１２内の蒸発材料１２ａは負に帯電した状態で電子ビームＥＢが照射される。 （もっと読む）

【課題】 難接着性樹脂からなる基材に、プライマーなどを塗布しないで、真空蒸着により、金属膜を直接成膜することを可能とし、電磁波シールド成型体および光輝化成型体を、低コストかつ生産性よく提供する。
【解決手段】ポリアミド樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、これらにガラス繊維が含有されたもの、および、液晶ポリマーなどからなる基材に、ブラスト処理を行い、その後、該ブラスト処理が施された基材表面に、電磁波シールド膜や光輝化膜を、真空蒸着により成膜する。 （もっと読む）

【課題】 導電性薄膜層に含まれる金属層のマイグレーションによる膜剥離を抑制し、耐擦傷性に優れた導電性積層体を提供する。
【解決手段】 基材と、ハードコート層と、透明金属酸化物層および金属層が交互に設けられた導電性機能層と、防汚層からなる積層体において、金属層が銀を含有する合金層であって、前記ハードコート層が、表面平滑性がＲａ＝１．０ｎｍ以下であり、導電性機能層と防汚層からなる積層体自身の平滑性も高くすることにより、Ａｇ合金／透明金属酸化物界面における膜のせん断応力による剥離の発生を低減する。 （もっと読む）

【課題】大気圧下において樹脂基材を３００ｍｍ／分以上という速度で移動させながら、樹脂基材の表面を改質することが可能な改質方法を提供する。
【解決手段】ターゲット１３の表面にレーザー光Ｌを照射して真空紫外光及び飛散粒子ａを発生させ、樹脂基材１５の表面に前記真空紫外光を照射しつつ飛散粒子ａを付着させる樹脂基材の表面改質方法であって、ターゲット１３の表面上に形成される照射光形状が長軸方向の幅が短軸方向の幅の１．５倍〜１０倍である略楕円形状となるようにターゲット１３の表面にレーザー光Ｌを照射しつつ、ターゲット１３の表面に対して平行な面上において前記長軸方向に対して垂直な方向と樹脂基材１５の移動方向との開口角度が１０°以内となるように樹脂基材１５を移動させ、酸素量が８容量％以下のシールドガス雰囲気下において樹脂基材１５の表面に前記真空紫外光を照射しつつ飛散粒子ａを付着させる。 （もっと読む）

【課題】異なる蒸気圧を有する材料の複数の源から被覆を蒸着するための物理蒸着（ＰＶＤ）法と装置を提供する
【解決手段】装置（１２０）の被覆室（１２２）において、第１材料と第２材料の溶融プール（１１４、１１５）を形成すること、被覆室の中で物品（１３０）を支持すること、及びエネルギービーム（１２６）によって溶融プール（１１４、１１５）を蒸発させて物品の上に制御された合成物によって被覆（１３２）を蒸着することを必然的に伴い、この制御された合成物は、１つの第１金属と、第１金属よりも低い蒸気圧を有する比較的少量の反応性金属を含む。第１材料は少なくとも第１金属を含み、第２材料は反応性金属と少なくとも第２金属とを含む。第２金属と反応性金属は結合されて、第２材料は反応性金属の溶融温度よりも低い溶融温度を持ち、また反応性金属よりも広い溶融範囲を有するようになる。 （もっと読む）

【課題】
簡単な構成で安定した蒸着を継続することができ、蒸着終了後のメンテナンスが容易に実施できる坩堝構造、及び蒸着方法を提供する。
【解決手段】
本発明による蒸着坩堝は、材料を充填する部分並びに当該材料の蒸発による蒸気圧を制御するオリフィス板で形成された蒸発室と、前記オリフィス板と蒸発された前記材料を蒸着坩堝の外側へ吐出する吐出板との間の空間に形成される圧力制御室とを備える。また、前記吐出板上に前記圧力制御室の外側に突き出る突起の上端に前記第２開口部を形成し、この突起部の側面にヒータを対向させ、且つこのヒータの上部で当該第２開口部よりも低い位置に断熱機構を設けてもよい。更に、前記蒸着坩堝には、前記圧力制御室の温度を、前記蒸発室の温度より高く保つように、互いに独立して温度設定が可能な蒸発室用ヒータと圧力制御室用ヒータとを設けた。 （もっと読む）

デバイスを製造する際に表面上に層を形成する方法であって、気化した材料を受け取る分配部材であって、チェンバーを規定する1つ以上の壁面を持ち、1つの壁面の中に複数の開口部からなる多角形二次元パターンが形成されていて、その開口部が気化した材料を分子流として上記表面上に供給する構成の分配部材を用意するステップと；開口部からなる多角形二次元パターンに少なくとも4つの頂部を設け、第1の開口部セット（80）をその頂部に配置し、縁部用の第2の開口部セット（78）を第1の開口部セットの2つの開口部の間に配置して多角形二次元パターンの縁部を規定し、内側用の第3の開口部セット（74）を、第1の開口部セットと第2の開口部セットによって規定される多角形二次元パターンの周辺部の中に配置するステップと；望む流速が得られるように開口部のサイズを決めるステップを含む方法。
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【課題】小型な装置構成によって化学構造がデリケートな高分子材料やバイオ材料などを化学構造・組成を変化させず高品質に薄膜化する。
【解決手段】レーザーアブレーションによる薄膜形成法において、超短パルスレーザー光源としてのフェムト秒レーザー装置３０と、そのレーザー光を受けて赤外域で波長可変な超短パルスレーザー光を発生する光学的波長可変手段としてのオプティカルパラメトリック増幅器３１を用い、所定の赤外域の超短パルスレーザー光をターゲット材料１０に照射し、ターゲット材料１０に対向した基板１１上にターゲット材料１０と実質的に同一組成の薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】電子注入効率が高く低電圧駆動が可能な有機発光素子を製造する方法を提供する。
【解決手段】電子注入層を形成する工程は、ドーパントの原料であるドーパント材料５を収容容器３内でガス状態にする工程と、ガス状態のドーパント材料を収容容器３から基板までの間で加熱された媒体１を通過させる工程と、有機化合物を電子注入層として形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】例えば、陰極のような線状体を優れた寸法精度で形成することができる気相成膜法で用いられるマスク、かかるマスクを用いて線状体を形成する成膜方法、かかる成膜方法により形成された線状体を備える特性の高い発光装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】マスク４０は、基板の一方の面側を固定し、他方の面側より気相プロセスにより供給し、ほぼ平行に併設される複数の線状体を、基板の表面に形成するのに用いられ、前記線状体のパターンに対応する複数の開口部４２を有するマスク本体４１と、開口部４２を横断するように設けられ、自重によるマスク本体５１の変形を防止する機能を有する補強梁４４とを備え、この補強梁４４は、開口部４２の厚さ方向において、前記他方の面側に偏在するように設けられている。 （もっと読む）

【課題】 容器の変形によるパーティクルの発生を確実に防止することが可能な減圧容器および減圧処理装置を提供する。
【解決手段】 ロードロック室２０の内部空間を囲繞する容器本体２１の上端面２１ａに形成された溝２６内には、シール部材としてのＯリング９０が挿入され、その外側には、略Ｌ字形をした断面形状を有するスペーサー９１が、その一部を溝２６内に挿入し、Ｌ字形に屈曲した内角側の面を溝２６の内壁面から容器本体２１の上端面２１ａにかけて密着させた状態で配備される。スペーサー９１によって、容器本体２１と天板２２を離間させることにより、ロードロック室２０内が高真空状態にまで減圧された状態で天板２２に撓みが生じても、容器本体２１の内周側の角部２１ｂと天板２２との接触が回避される。 （もっと読む）

【課題】超合金基体と基体用の保護コーティングとの間に配置される拡散障壁層を提供すること。
【解決手段】例示的な実施形態において、拡散障壁コーティングは、レニウムおよびルテニウムを含む固溶体合金であって、ルテニウムが組成物の約５０原子％以下を構成し、レニウムおよびルテニウムの総量が７０原子％超である固溶体合金、Ｒｕ（ＴａＡｌ）およびＲｕ_２ＴａＡｌの少なくとも１つを含む金属間化合物であって、Ｒｕ（ＴａＡｌ）がＢ２構造を有し、Ｒｕ_２ＴａＡｌがホイスラー構造を有する金属間化合物、ならびに金属マトリックス内に分散した酸化物であって、マトリックスの約５０体積パーセント超が該酸化物から構成される酸化物からなる群から選択される組成物を含む。 （もっと読む）

ナノ粒子などの粒子を製造するための方法が提供される。該方法は、イオン性液体を蒸着室中へ導入する工程、および物理的蒸着により１種類もしくは複数の材料を該イオン性液体に誘導するか、または１種類もしくは複数の材料を該イオン性液体上に蒸着して、該イオン性液体中にナノ粒子を形成する工程を包含する。ナノ粒子を製造するための方法は、イオン性液体を蒸着室中へ導入する工程、該蒸着室を排気し、１および７ミクロンＨｇの範囲内の真空を形成する工程、ならびに１種または複数の材料を該イオン性液体に誘導するために該蒸着室中の１つまたは複数のカソードをスパッタリングし、該イオン性液体中にナノ粒子を形成する工程を包含する。本発明の組成物は、イオン性液体および物理的蒸着により該イオン性液体中に形成されたナノ粒子を含む。
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【課題】金属なし領域を高精度に画定するのに適しているにもかかわらず簡単で信頼できる手段によって連続した基板上にパターンに合わせた領域又はいずれの場合にも金属なし領域を形成できる金属化装置を提供する。
【解決手段】ウエブ材料Ｎに被覆を真空蒸着する装置は、ウエブ材料の送り通路と、上記ウエブ材料を案内する処理ローラ１９と、処理ローラと組合わされ、被覆を形成する材料の少なくとも一つの蒸発源と、予め確立したパターンに従ってウエブ材料にマスキング剤を施すアプリケータユニット５１とを有する。アプリケータユニットは、上記マスキング剤の分配シリンダ５５と共動する印刷シリンダ５３及び上記マスキング剤の源５７を備える。アプリケータユニット５１は、側部に、処理ローラ１９に対するアプリケータユニット５１の位置を調整する互いに分離した調整手段７３を備える。 （もっと読む）

【課題】エージング後のＣＯＤレベルを向上することができる、窒化物半導体発光素子と、窒化物半導体レーザ素子の製造方法と、を提供する。
【解決手段】光出射部にコート膜が形成されている窒化物半導体発光素子であって、光出射部は窒化物半導体からなり、光出射部に接するコート膜が酸窒化物からなる窒化物半導体発光素子である。また、共振器端面にコート膜が形成されている窒化物半導体レーザ素子を製造する方法であって、劈開により共振器端面を形成する工程と、共振器端面に酸窒化物からなるコート膜を形成する工程と、を含む、窒化物半導体レーザ素子の製造方法である。 （もっと読む）