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物理蒸着 (93,067) | 被覆処理方法 (12,489) | イオンプレーティング、イオンビーム蒸着 (1,603)

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【課題】 難接着性樹脂からなる基材に、プライマーなどを塗布しないで、真空蒸着により、金属膜を直接成膜することを可能とし、電磁波シールド成型体および光輝化成型体を、低コストかつ生産性よく提供する。
【解決手段】ポリアミド樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、これらにガラス繊維が含有されたもの、および、液晶ポリマーなどからなる基材に、ブラスト処理を行い、その後、該ブラスト処理が施された基材表面に、電磁波シールド膜や光輝化膜を、真空蒸着により成膜する。 (もっと読む)


【課題】超合金基体と基体用の保護コーティングとの間に配置される拡散障壁層を提供すること。
【解決手段】例示的な実施形態において、拡散障壁コーティングは、レニウムおよびルテニウムを含む固溶体合金であって、ルテニウムが組成物の約50原子%以下を構成し、レニウムおよびルテニウムの総量が70原子%超である固溶体合金、Ru(TaAl)およびRuTaAlの少なくとも1つを含む金属間化合物であって、Ru(TaAl)がB2構造を有し、RuTaAlがホイスラー構造を有する金属間化合物、ならびに金属マトリックス内に分散した酸化物であって、マトリックスの約50体積パーセント超が該酸化物から構成される酸化物からなる群から選択される組成物を含む。 (もっと読む)


ナノ粒子などの粒子を製造するための方法が提供される。該方法は、イオン性液体を蒸着室中へ導入する工程、および物理的蒸着により1種類もしくは複数の材料を該イオン性液体に誘導するか、または1種類もしくは複数の材料を該イオン性液体上に蒸着して、該イオン性液体中にナノ粒子を形成する工程を包含する。ナノ粒子を製造するための方法は、イオン性液体を蒸着室中へ導入する工程、該蒸着室を排気し、1および7ミクロンHgの範囲内の真空を形成する工程、ならびに1種または複数の材料を該イオン性液体に誘導するために該蒸着室中の1つまたは複数のカソードをスパッタリングし、該イオン性液体中にナノ粒子を形成する工程を包含する。本発明の組成物は、イオン性液体および物理的蒸着により該イオン性液体中に形成されたナノ粒子を含む。
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【課題】 製造が容易にして、安定して作用する薄膜蒸着用ヒータを提供する。
【解決手段】ウェーハが載置され、発熱部材が内蔵され、エッジ側に複数の噴射ホールが形成されたウェーハ支持プレートと、ウェーハ支持プレートの下側に配置され、不活性ガスの供給のための不活性ガス通路が形成されたシャフトと、ウェーハ支持プレートの下部に結合され、ウェーハ支持プレートとの間に内部空間を形成する流路形成カバーと、を備え、内部空間は、噴射ホールと不活性ガス通路とを連結することを特徴とする薄膜蒸着用ヒータである。 (もっと読む)


【課題】イオンビーム蒸着により堆積された炭素保護膜で覆われた薄膜ディスクの有害な欠陥を最小化する手段を提供する。
【解決手段】ここに記載される改良された炭素ビーム蒸着チャンバー40は、チャンバーの開口プレート20の外側表面上での炭素膜の堆積を大幅に減少させることにより、システム洗浄やハードウェアの交換が必要になる前の処理可能なディスク枚数を大幅に増加させることができ、又、コーティングされたディスク44におけるディスク欠陥を大幅に減少させて、炭素銃10の生産性を実質的に増加させるものである。 (もっと読む)


【課題】膜質の良い薄膜を効率良く成膜可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置1は磁界形成装置5を有しており、磁界形成装置5は真空槽2内部に互いに平行であって、かつ逆向きの第一、第二の磁力線群Ma、Mbを形成する。第一、第二の蒸着源30a、30bを一つずつ選択して順番に荷電粒子を放出させるときには、第一、第二の蒸着源30a、30bから放出される荷電粒子のうち、同じ電荷の荷電粒子が同じ方向に曲がる磁力線群を形成するようにすれば、第一、第二の蒸着源30a、30bから放出される荷電粒子を、同じ基板上に到達させることが可能である。 (もっと読む)


【課題】高温による変色や酸化を防止することができる内燃機関用部品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による内燃機関用部品の製造方法は、金属から形成された部品本体を用意する工程と、第1のターゲットおよび第1のターゲットとは異なる角度で配置された第2のターゲットを有するチャンバ内に部品本体を配置する工程と、第1のターゲットおよび第2のターゲットをスパッタリングすることによって部品本体の外側を覆うセラミックス膜を形成する工程とを包含する。 (もっと読む)


【課題】 水素をほとんど含まず実質的に炭素のみからなり、基材との密着性に優れ、高硬度で耐摩耗性に優れた非晶質硬質炭素皮膜を提供する。
【解決手段】 基材表面に形成され実質的に炭素のみからなる第1の非晶質硬質炭素層と、第1の非晶質硬質炭素層の表面に形成され実質的に炭素のみからなる第2の非晶質硬質炭素層とから構成され、断面から見たとき、第1の非晶質硬質炭素層の透過型電子顕微鏡像が第2の非晶質硬質炭素層の透過型電子顕微鏡像より明るい。 (もっと読む)


【課題】高級感があり、耐傷付き性に優れ、傷等による外観品質の劣化が起きにくく、しかも、ステンレス鋼被膜に近い、高級感のある白色被膜を有する装飾品を提供する。
【解決手段】本発明の白色被膜を有する装飾品は、最外層として貴金属または貴金属の合金からなる白色色調を有する被膜が乾式メッキ法により形成された装飾品において、金属またはセラミックスからなる装飾品用基材と、該基材表面に形成された下地層と、該下地層の表面に乾式メッキ法により形成された耐摩耗層、および該耐摩耗層の表面に乾式メッキ法により形成された最外層からなる発色層とから構成され、前記発色層は、厚み0.2〜1.5μmの耐摩耗層と厚み0.002〜0.1μmの最外層とからなる、ステンレス鋼色調を有する硬質の白色被膜であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】離型性が良好で、耐久性の高い光学素子成形用型の製造方法および光学素子成形用型を提供する。
【解決手段】光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型11の成形面に、中間層14を形成した後、この中間層上にa−C:H膜を含む硬質炭素膜13を形成する。
その際、前記中間層が、炭素を30atom%以上、ケイ素を20atom%以上、酸素を5atom%以上で20atom%以下、水素を5atom%以上で15atom%以下とする元素組成を有する構成とする。 (もっと読む)


【課題】付着した微粒子状のシリカ、酸化鉄等の粒子を容易に除去することができ効率低下を防止できる表面平滑化皮膜を有する回転機械を提供する。
【解決手段】気体が流通し同気体が直接接する部位に表面平滑化皮膜を有する回転機械において、同回転機械の表面平滑化皮膜はその表面粗さの最大高さRyが1.0μmを超えないセラミックス層または炭素層で構成し、セラミックス層または炭素層は物理蒸着または化学蒸着で成膜したものとした。 (もっと読む)


【課題】プラチナまたはプラチナ合金被膜特有の色調が得られ、へこみや傷等による外観品質の劣化が起きにくく、しかも、高級感のある白色被膜を有する装飾品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の白色被膜を有する装飾品は、金属またはセラミックスからなる装飾品用基材と、該基材表面に形成された下地層と、この表面に乾式メッキ法により形成された炭化チタン層と、この表面に乾式メッキ法で形成されたプラチナまたはプラチナ合金からなる装飾被膜層とで構成される。これにより、上記装飾品は、傷等による外観品質の劣化が起きにくく、しかも、プラチナまたはプラチナ合金被膜特有の色調が得られ、高級感のある白色被膜を有する。 (もっと読む)


【課題】有害熱環境の中で使用することを意図される部品の多孔質熱障壁被覆膜などの被覆膜として使用するのに適するセラミック材料の提供。
【解決手段】被覆膜材料は、本質的に、少なくとも1つの希土類金属酸化物により安定化され且つ限定された量のチタニアを含有するように更に合金化されたジルコニアから構成される。特に関心ある希土類金属酸化物は、ランタナ、セリア、ネオジミア、ユーロピア、ガドリニア、エルビア、ジスプロシア及びイッテルビアであり、それらは、個別に又は組み合わせて使用される。ジルコニア、希土類金属酸化物及びチタニアは、主に正方晶系相結晶構造を実現する量で被覆膜材料中に存在する。被覆膜中のチタニアの量は、正方晶系相を維持しつつ、すなわち、立方晶系(蛍石)相を回避しつつ、より高い安定剤のレベルを可能にするように適合される。 (もっと読む)


【課題】 物理蒸着法を用いて膜厚分布をより均一にできる成膜装置を提供する。
【解決手段】 成膜装置1は、搬送室10a及び成膜室10bを含む真空容器10と、成膜室10b内に設けられ成膜材料Maを保持する主陽極2と、被処理物11を搬送する搬送機構3と、成膜室10b内にプラズマPを発生させるプラズマ源5と、磁力線発生機構7とを備える。成膜材料Maは、プラズマPにより加熱され、蒸発してイオン化成膜材料粒子Mbとなる。磁力線発生機構7は、被処理物11の表面(成膜面)側に配置されており、イオン化成膜材料粒子Mbの飛行経路と交差する面内に磁力線を形成する。イオン化成膜材料粒子Mbは、これらの磁力線により電磁力を受け、その飛行経路が曲げられる。 (もっと読む)


【課題】金属基体にNiAl系ボンディングコート及び拡散アルミナイド皮膜を施工する方法の提供
【解決手段】本方法は、外部表面(38)を有する超合金基体を準備する段階と、超合金基体の外部表面(38)を任意選択的に清浄化する(140)段階とを含む。さらに、超合金基体の外部表面の一部分を物理蒸着法によって、堆積NiAl基合金が約6〜25重量パーセントの制御した量のアルミニウムを含みかつさらに該NiAl基合金の堆積アルミニウムレベルがアルミナイジング処理後のアルミニウム最終レベルの約50〜100%であるように制御したNiAl基合金の層で被覆して(160)、被覆外部部分を形成する段階と、その後、超合金基体の被覆外部部分と別の表面とを同時にアルミナイジング処理する(180)段階とを含む。 (もっと読む)


【課題】膜質の良い薄膜を効率良く成膜可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置1は磁界形成手段50を有しており、磁界形成手段50は開口36から放出される粒子の放出軸線Fと直交する方向に磁力線を形成するように構成されている。開口36から放出される粒子のうち、電子は磁力線によってその飛行方向が基板11側に曲げられて基板11側に飛行し、荷電粒子45は基板11側に飛行した電子に引き付けられて、その飛行方向が基板11に向かう方向に曲げられる。巨大粒子46は磁力線の影響を受けずに直進するので、基板11には荷電粒子45は到達するが、巨大粒子46が到達せず、基板11表面に膜質の良い薄膜が形成される。 (もっと読む)


【課題】薄膜の内部応力のために基板が歪んだり膜剥がれが発生する等のトラブルを効果的に回避できる光学多層膜フィルタの製造方法を提供すること。
【解決手段】光学多層膜フィルタの製造方法は、基板1上に1層以上の無機薄膜を形成する工程と、無機薄膜の最下層と前記基板との間に、前記無機薄膜から前記基板への応力伝達を阻止する有機化合物からなる粘弾性緩衝層2を形成する工程とを備え、粘弾性緩衝層2を形成する工程において、化学気相成長法(CVD法)を用いる。CVD法を用いているので、粘弾性緩衝層2の成膜速度が速く、実用的な厚さの膜を効率よく作成することができる。 (もっと読む)


【課題】
真空蒸着において基板表面に良質で安定した膜質を成膜できる真空成膜方法、及び真空成膜装置を提供する。
【解決手段】
蒸着材料を真空中で脱ガス処理し、大気開放することなく成膜室へ供給し、前記蒸着材料の薄膜を基板へ成膜することを特徴とし、上記脱ガス処理が抵抗加熱装置、ヒーター、赤外線ランプ、高周波誘導加熱装置、電子銃による電子線照射装置、プラズマ発生装置のいずれかであり、上記蒸着材料の脱ガス処理を、窒素ガス、アルゴンガスもしくは水素ガスのいずれか1つの雰囲気中で行い、上記脱ガス処理後の蒸着材料の含水率が1.0%以下であることも特徴とする。 (もっと読む)


【課題】成膜粒子の入射エネルギー及び相分離の度合いの制御性を向上させることが可能な、相分離膜の製造方法を提供する。
【解決手段】陰極アーク放電により陰極材料のアークプラズマ24を発生させる工程と、前記アークプラズマ中のイオンを基板23に照射する工程と、該イオンにより該基板23上に相分離する組成の材料から成る膜を形成する工程を含む相分離膜の製造方法。前記相分離する組成の材料が、AlX(SiYGe1-Y1-X(0.3≦X≦0.8、0≦Y≦1)の組成を有するアルミニウム及びシリコン、アルミニウム及びゲルマニウム、またはアルミニウム及びシリコン及びゲルマニウムからなる。 (もっと読む)


【課題】高硬度と適度な靭性を有しながら、クラック進展を抑制する効果、低摩擦係数、耐凝着性に有効な非晶質カーボン被覆切削工具、及び非晶質カーボン皮膜の製造方法を提供する。
【解決手段】非晶質カーボン皮膜を被覆した非晶質カーボン被覆切削工具において、該非晶質カーボン皮膜は、B、Cl、S、P、F、O、Nの少なくとも1種以上の元素を含有し、該元素の含有量は、原子%で、0.01%以上、25%以下であることを特徴とする非晶質カーボン被覆切削工具及びその製造方法である。 (もっと読む)


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