【課題】 基板処理中の基板の温度上昇を簡素な方法で抑制する。
【解決手段】 真空容器１２内で基板２２に対して成膜処理を行う方法である。この方法は、基板２２の上面に、熱容量を増加させるための熱容量増加シート４６を載置する載置工程と、熱容量増加シート４６が載置された基板２２を処理領域Ｓに搬入する搬入工程と、処理領域Ｓにおいて基板２２の下面に成膜処理を施す処理工程と、処理領域Ｓにおいて処理された基板２２を処理領域から搬出する搬出工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 金属部品と同等の強度を有し、且つ軽量な金属樹脂複合部品を提供する。
【解決手段】 樹脂と、該樹脂の架橋助剤となる架橋型多官能モノマーと、前記樹脂中に分散されるトリアジン類で表面処理された金属製フィラーとを配合して混練し、該混練物を金型で成形し、成形後に放射線を照射して前記樹脂を架橋し、該架橋樹脂成形品を１００℃以上で熱処理し、引張強度が１００ＭＰａ以上、比重が３以下とされている。
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【課題】 真空容器の真空状態を維持したまま膜厚分布の経時変化を補正できる膜厚補正機構、成膜装置、及び成膜方法を提供する。
【解決手段】 成膜装置１は、真空容器１０と、被処理物１１をＸ軸方向に搬送する搬送機構３と、搬送機構３に対しＺ軸方向に配置されて成膜材料Ｍａを保持する主陽極４と、膜厚補正板８とを有する。膜厚補正板８は、真空容器１０における搬送機構３と主陽極４との間の開口部１０ｇに設けられ、Ｘ軸方向における開口部の幅Ｗ（Ｙ）をＹ軸方向に沿って変化させることにより、成膜材料粒子Ｍｂに対する被処理物１１の暴露時間をＹ軸方向に沿って変化させる。また、膜厚補正板８は、主板８ａと、Ｙ軸方向における主板８ａの両端に配置された端板８ｂとを有し、端板８ｂは、主板８ａとは独立してＸ軸方向に移動可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】ランニングコスト及び製造コストを低減することができる真空装置及び真空装置の制御方法を提供する。
【解決手段】大気圧状態又は真空状態となるチャンバ１４と、チャンバ１４の内部を駆動により真空状態にするポンプ３２と、チャンバ１４とポンプ３２とを接続する接続管３０と、接続管３０に設けられ開閉により接続管３０の内部の空気流動を制御するバルブ３４と、バルブ３４とポンプ３２との間に設けられ開閉により接続管３０の内部の空気流動を制御する補助バルブ３８と、を有する構成とした。 （もっと読む）

【課題】コストを抑えながら、メディアのデータ記憶能力を向上させ、正確なデータ位置制御を維持し、かつメディア・データの解像度を向上させるパターンド・メディア・インプリント・マスタを作製する装置、システム、および方法を提供する。
【解決手段】基板１０２および蒸着マスク１１０は、蒸着プロセスの間、基板および蒸着マスクが一体の要素として作用するように、間にあるスペーシング要素１０８によって固定的に取り付けられる。蒸着マスク１１０は、リソグラフィ・プロセスによって生成された複数の開口１１２を包含する。材料は、固有の蒸着角度で配向された１を越える蒸着源３００から、蒸着マスク１１０を介して基板上に蒸着される。従って、得られる基板１０２の蒸着パターンは、蒸着マスク開口１１２の密度よりも高い密度を示す一方で、蒸着パターンの歪みが回避される。 （もっと読む）

【課題】
基材のカールおよび変形防止、透明導電膜の剥離防止および低抵抗化を可能にした透明導電膜積層体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】
基材の少なくとも片面に透明導電膜が形成されており、透明導電膜は少なくとも１層以上の積層構成であり、透明導電膜は１層ごとに紫外線照射によるアニール処理がなされており、透明導電膜は、膜内部のどの部分においてもアモルファスの混在しない結晶に起因するＸ線回折ピークが観察される透明導電膜積層体とする。 （もっと読む）

【課題】 複数のスパッタリングターゲットを備えたスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係るスパッタリング装置は、被成膜基板１３にスパッタリングにより薄膜を成膜するスパッタリング装置であって、真空容器１０と、前記真空容器１０内に配置された第１乃至第３のスパッタリングターゲット２４〜２６と、前記第１乃至第３のスパッタリングターゲット２４〜２６それぞれに高周波電流を出力する高周波電源３３〜３５と、前記真空容器内に配置され、被成膜基板を保持するサセプタ１４と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】 アーク放電部から進行してくるプラズマとドロップレットを確実に分離して、ドロップレットを確実に除去できる。ドロップレットが被処理物に到達することを防ぐことができるプラズマ生成装置におけるドロップレットにおけるドロップレット除去装置を提供する。
【構成】 プラズマＰとドロップレットＤが混合状態で進行する筒状進行路３が形成され、偏心位置に通過孔６ａを有するアパーチャー６が筒状進行路３内に設けられ、筒状進行路３の外周にプラズマＰをアパーチャー６の偏心通過孔６ａに通過させるための磁場発生手段が配設され、磁場発生手段に基づく磁場により、プラズマＰは筒状進行路３内で湾曲してアパーチャー６の偏心通過孔６ａを通過し、湾曲時にドロップレットＤをアパーチャー６の壁面に衝突させて除去する。 （もっと読む）

【課題】 Ａｌやその合金の蒸着被膜を、希土類系永久磁石などの被処理物の表面に、突起物の生成や損傷を効果的に抑制しつつ、優れた生産性でもって形成する方法を提供すること。
【解決手段】 真空処理室内に、蒸着材料の溶融蒸発部と、複数個の被処理物を収容するための収容部材を備えた蒸着装置を用い、複数個の被処理物を収容した収容部材を水平方向の回転軸線を中心に回転させながら、Ａｌまたはその合金の蒸着材料を被処理物の表面に蒸着させるに際し、予め、被処理物を２００℃〜３５０℃に加熱しておいてから蒸着を開始することを特徴とするものである。 （もっと読む）

本発明は、１枚以上の薄膜コーティングで被覆されたマイクロウェルアレイ組成物に関する。本発明は、アレイをエッチングし、１枚以上の薄膜コーティングを蒸着し、調製し、使用する方法を含む、薄膜で被覆されたマイクロウェルアレイを製造し使用するプロセスを含む。また、本発明は、基板を備えるアレイであって、基板は、複数の反応チャンバを備える表面と表面上の薄膜コーティングとを有する光ファイバフェイスプレートであり、薄膜は厚さ０．１〜５．０ミクロンで水に対して不浸透性である、アレイである。
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【目的】 プラズマ生成装置において生成されるプラズマとドロップレットとの混合状態からドロップレットを確実に除去することができるプラズマ生成装置におけるドロップレット除去装置を提供することである。
【構成】 真空アーク放電を行ってプラズマを発生させ、このプラズマとプラズマの発生時に陰極から副生するドロップレットとの混合状態であるドロップレット混合プラズマが進行する筒状進行路が設けられ、この筒状進行路の断面周方向に回転磁場を発生させる回転磁場印加手段が少なくとも１つ以上設けられ、この回転磁場印加手段により前記ドロップレット混合プラズマに回転磁場を印加し、前記ドロップレット混合プラズマを回転させながら前記筒状進行路を進行させて前記ドロップレットを遠心力により除去するプラズマ生成装置におけるドロップレット除去装置である。 （もっと読む）

【課題】 高精度かつ高精細なパターンで支持体上に薄膜を、高い生産性で廉価に形成できる、マスク形成方法と、マスク用材料と、これを用いたパターン膜形成システムとを提供する。
【解決手段】 ハーフカットされたマスク用材料から、剥離操作手段によってマスク形状に対応した剥離されるべき離けい材料部分だけを剥離して露呈した第２粘着層１６所定部分の表面を、マスク貼着部で支持体２２の表面に当接させて貼着し、マスク転写部で、マスク形状に対応したマスク用シート体１４を第２粘着層１６によって貼着させて転写させ、さらに、薄膜形成部でマスク用シート体１４を第２粘着層１６によって貼着した支持体２２の表面に真空成膜法による薄膜９８を形成してからマスク除去部によりマスク用シート体１４を取り除いて、所定パターンの薄膜９８を支持体２２上に形成する。 （もっと読む）

本発明は、プラズマ用のプラズマ室（３）、プラズマの点火及び維持のための電気手段（８，９）、プラズマ室（３）からプラズマビーム（Ｉ）を抽出するためのイクストラクション格子（４）、並びに、イクストラクション格子（４）によって真空室（７）から分離された出口開口部を有する高周波プラズマビーム源に関する。プラズマビーム（Ｉ）は、ほぼ拡散ビーム特性で、高周波プラズマビーム源（１）から放射される。更に、本発明は、高周波プラズマビーム源のプラズマビーム（Ｉ）を用いて表面を照射するための方法に関する。その際、プラズマビーム（Ｉ）は、拡散されている。
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【課題】ステンレス鋼からなる装身具で、耐食性が優れ、ニッケルの溶出が極めて少なく、耐傷付き性に優れた白色被膜を有する装飾品を提供すること。
【解決手段】 本発明に係る白色被膜を有する装飾品は、ステンレス鋼からなる装飾品用基材と、該基材表面に形成された下地層と、該層表面に乾式メッキ法で形成された耐摩耗層および該耐摩耗層表面に乾式メッキ法で形成された最外層とから構成され、前記最外層がプラチナ−パラジウム合金からなり、発色層がステンレス鋼色調を有する硬質白色被膜であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】樹脂層の外周に金属めっき層を形成する場合でも、その樹脂層にタルクを含有する必要がなく、そのため、金属めっき層の形成に先立つエッチングおよびパラジウム定着という時間をかなり要する工程が不要となり、しかも、金属めっき層と外側樹脂層との接着力を向上させることができるホースおよびその製法を提供する。
【解決手段】内側樹脂層１と金属めっき層２との間には、内側樹脂層１の外周面にクロム系酸化膜Ａが形成されているとともに、そのクロム系酸化膜Ａの外周面に金属膜Ｂが形成され、その金属膜Ｂの外周面に金属めっき層２が形成されている。また、金属めっき層２と外側樹脂層３との間には、クロム系酸化膜Ａが形成されている。 （もっと読む）

長さ、高さ、内側縁部、外側縁部、および厚さを有する少なくとも１つの対象のコイルを含む、気相堆積システムで使用するためのコイルアセンブリが、本明細書に説明される。対象のコイルの厚さは、内側縁部と外側縁部との間の距離として測定され、対象のコイルの厚さの少なくとも一部が、基準コイルに比較して少なくとも２０％減少されている。本明細書では、長さ、高さ、内側縁部、外側縁部、および厚さを有する少なくとも１つの対象のコイルを備える、気相堆積システムで使用するためのコイルアセンブリも説明される。対象のコイルの厚さは、内側縁部と外側縁部との間の距離として測定され、対象のコイルの少なくとも一部の高さの少なくとも一部が、基準コイルの高さに比較して少なくとも２０％減少されている。
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【課題】 低炭非鉛快削鋼の切削において切削面の品質を向上し、低炭非鉛快削鋼の切削面品質を、従来の低炭鉛快削鋼で実現できていたレベルを超えて良好な品質にすることのできる切削工具を提供する。
【解決手段】 主切れ刃と副切れ刃のいずれか一方又は両方の刃先丸みが半径５０μｍ以下であり、被削材と接触する面の一部又は全部の表層が硬質被膜で被覆されてなり、該硬質被膜は、原子％でＮ：４０〜６０％、Ｔｉ：４０〜６０％を含むことを特徴とする切削工具である。硬質被膜はさらにＡｌ又はＺｒの１種又は２種を原子％で４０％以下の範囲で含む。低炭非鉛快削鋼の切削に用いたとき、鋼が刃先に凝着しにくいために構成刃先が生成しづらく、刃先丸みを半径で５０μｍ以下とすることによって従来にない良好な表面粗さを実現できると同時に、刃先の欠けが発生しづらく、十分に良好な工具寿命を実現できる。 （もっと読む）

【課題】 基材との密着性に優れ、高硬度で耐摩耗性に優れた水素含有量が５ａｔ％以下の非晶質硬質炭素皮膜を有する摺動部材を提供する。
【解決手段】 基材と、基材表面に形成された中間層と、中間層表面に形成され炭素を主成分とし水素含有量が５ａｔ％以下の非晶質硬質炭素皮膜とを有し、中間層の酸素濃度が表面側から中間層内部に向かって増加し、かつ炭素濃度が表面側から中間層内部に向かって減少している。 （もっと読む）

【課題】 メッキ密着力、塗膜密着力に優れた表面加工用液晶性ポリエステル樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 特定比率の（Ｉ）２−ヒドロキシ−６−ナフトエ酸単位、（II）ジカルボン酸単位、(III)ジオール単位、（IV）４−ヒドロキシ安息香酸単位からなる液晶性ポリエステル樹脂100重量部に対し、平均粒径が10μm 以下で最大粒径が50μm 以下の充填剤を50〜200重量部配合する。
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基板クリーニング装置を備えたコータを開示する。また、基板クリーニング装置を備えたコータにおける基板の処理方法も開示する。基板クリーニング装置は、イオン銃（つまり、イオン源）を備えている。イオン銃は、コータ内に延びている基板走行路の下方（例えば、基板支持部の下方）に配置され、基板の底主面の処理に適している。一定の実施形態は、基板走行路に沿って、基板クリーニング装置よりも先方に、上向コーティング装置を備えている。この種のいくつかの実施形態において、上向コーティング装置は、基板の底主面に対し、光触媒コーティングを上方に向かって堆積するように構成されている。本発明のある実施形態は、下向コーティング装置を備えており、基板クリーニング装置は、基板走行路に沿って、前記下向コーティング装置よりも先方にある。この種のいくつかの実施形態はまた、基板走行路に沿って、基板クリーニング装置よりも先方に、上向コーティング装置も備えている。
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