【課題】シート形状のプラズマを用い、処理対象が３次元構造である場合でも処理を均一に行うことのできるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】中間電極から陽極に向かって引き出されたプラズマに対して、対向する方向からプラズマ軸に向かう一対の磁界を印加して該方向に交差する方向にプラズマ径を広げ、プラズマの断面形状を扁平にする。一対の磁界の印加方向を軸を中心に回転させ、プラズマの扁平な方向を軸を中心に傾斜させる。これにより、立体構造の基板の端部（側面部）にプラズマを傾斜させて接近させることができるため、基板の中央部と端部の処理速度の分布を低減し、処理速度を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】射出成形による温度の影響、型締力の影響等を受けることなく、比較的大きな中空成形品であっても熱収縮の影響を受けずに製造することができる、内表面が表面処理された中空成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】固定金型（３）とスライド金型（４）とを使用して１次射出成形により、本体部（Ｈ２）と蓋体（Ｆ１）とを実質的に同時に成形する。本体部（Ｈ２）をハンドリング装置（ＨＭ）によりスライド金型（４）から取り出し、別に設けられている成膜装置（ＭＭ）に装着して本体部（Ｈ２）の内表面に成膜する。成膜された本体部（ＨＵ１）をスライド金型（４）に装着して、固定金型（３）に残っている蓋体（Ｆ１）と突き合わせて、突合部に溶融樹脂を２次射出して一体化する。前記１次射出成形と２次射出成形とを同じ金型で実質的に同時に実施し、これに平行して成膜工程を実施する。 （もっと読む）

【課題】放電遅延時間を短縮させ、温度依存性を改善し、増進されたイオン強度を有するＰＤＰの保護膜を製造するための材料、その製造方法、これより形成された保護膜及び該保護膜を備えるＰＤＰを提供する。
【解決手段】本発明によれば、ＭｇＯ１質量部を基準に２．０×１０^−５〜１．０×１０^−２質量部の希土類元素がドーピングされた酸化マグネシウム単結晶を含む保護膜の材料、約２８００℃の温度で結晶化を通じて前記酸化マグネシウム単結晶を製造する方法、これより形成された保護膜及び前記保護膜を含むＰＤＰを提供する。 （もっと読む）

【課題】低コストで簡易な構造の青色膜構造体、青色膜の形成方法、スパッタ装置を提供する。
【解決手段】水素イオンを含んだ酸化タングステン膜の単層膜からなる青色膜と、この青色膜が形成された支持体とを備えたことを特徴とする青色膜構造体。 （もっと読む）

【課題】高度の耐熱性、耐久性を備えた透明導電膜付きフィルムの提供。
【解決手段】基材の厚みが５０〜５００μｍである高分子基材10および透明導電膜11からなり、この透明導電膜が、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物およびアルミナ添加酸化亜鉛の少なくとも一種からなり、１０〜７００回の薄膜形成工程を経ることから形成されたものであって、２５℃３５ＲＨ環境下での上記透明導電膜の膜応力が５０ＭＰａ以下であり、１５０℃１時間の耐熱試験後における上記透明導電膜の膜応力が５０ＭＰａ以下であることを特徴とする、透明導電膜付きフィルム。 （もっと読む）

【課題】ＰＶＤ法により硬質薄膜が形成されるプレス用金型において、各種鋼板、特に、高張力鋼板等をプレス加工するのに好ましく用いられうる、被膜の硬度、密着性、滑り性及びビード引抜き特性に優れた、被膜の耐久性が高いプレス用金型を提供すること。
【解決手段】被加工材料をプレス加工するためのプレス用金型であって、少なくともプレス加工の際に被加工材料と接触する部分の金型母材表面にＰＶＤ法により被膜が形成されており、前記被膜が前記金型母材表面に形成されたＴｉＮ層２ａ、前記ＴｉＮ層表面に形成されるＴｉ（ＣｘＮｙ）層２ｂ（但し、ｘ+ｙ＝１，ｘ＜１で、前記ＴｉＮ層表面から遠ざかるにつれてｘが１に近づくように徐々に増大する）、及び前記Ｔｉ（ＣｘＮｙ）層表面に形成されたＴｉＣ層２ｃからなることを特徴とするプレス用金型。 （もっと読む）

【課題】高品位な表示装置を実現できる蒸着可能な材料を、蒸着用マスクを用いることなく塗り分け可能にする。
【解決手段】真空容器中にて蒸着源６２から蒸発する蒸着分子を被蒸着物３２に到達させて当該被蒸着物３２に前記蒸着分子による薄膜を形成するのにあたり、前記蒸着分子が前記被蒸着物３２に到達する前に当該蒸着分子を電荷ｅ^-に帯電させる帯電工程と、前記薄膜を形成する箇所に対応して配された電極Ｒへの前記蒸着分子の帯電極性とは異なる＋極性の電圧印加と、前記薄膜を形成しない箇所に対応して配された電極Ｇ，Ｂへの前記蒸着分子の帯電極性と同じ−極性の電圧印加との、少なくとも一方を行う印加工程と、を経る。 （もっと読む）

【課題】プラズマの噴出口に設けられた絶縁管がプラズマの熱により損傷されるのを防止することのできるプラズマガンを提供する。
【解決手段】プラズマを生成する陰極部１ａ、１ｆ、１ｇ及び陰極部で生成されたプラズマ６を対象方向に吐出しつつ、対象からの反射電子を電源に帰還させる帰還電極部を有するプラズマガンにおいて、帰還電極部は、プラズマの出口が形成されたフレーム１ｅと、プラズマの出口の表面を電気的に絶縁する絶縁管１ｈと、絶縁管の対象方向の末端に向かってガスが吐出されるように形成されたガス流路部とを備えるように構成した。ガス流路部は、プラズマの出口と接続する孔を有してフレームの上記対象方向とは反対側の内側面に付着されてフレームの内側面に流路空間を形成する蓋部９３と、ガス注入通路９１と、複数のガス吐出通路９２とを含む。 （もっと読む）

【課題】 成膜装置及び成膜方法に関し、長期稼動によって生じ易い膜剥離による二次パーティクル発生を抑制し、高品質な薄膜形成を可能にする。
【解決手段】 アーク放電により、ターゲット１からターゲット材料を蒸発させ、基板２上に堆積させる成膜装置に、ターゲット１からのパーティクル７を捕獲する防着板３のパーティクル付着面５を大気解放することなく取り替える付着面取替機構を設ける。 （もっと読む）

【課題】銅系金属層の密着性に優れ、微細エッチングが可能で、信頼性の高いフレキシブル回路基板を提供する。
【解決手段】樹脂フィルム１の表面に、シリコンに対して窒素が当量で０．５〜１．３３含まれるスパッタ法による窒化シリコン層２を形成し、さらに銅系金属層３を形成したことにより、銅系金属層３の密着性が良好となる。さらに、上記窒化シリコン層２は絶縁物であることからエッチングの必要が無く、銅系金属層だけをエッチングすればよいため、サイドエッチングがあまり起こらずに微細エッチングが可能となる。しかも、高温下で仮に樹脂フィルム１側からの水分や酸素が浸透したとしても窒化シリコン層２によってブロックされ、銅系金属層３の酸化や密着力の低下が生じず、信頼性にも優れたフレキシブル回路基板６となる。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、緻密で密着性のよいガスバリア膜を成膜できるイオンプレーティング用蒸発源材料の原料粉末等を提供する。また、イオンプレーティング法に適した蒸発源材料及びその製造方法、並びにガスバリア性シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】平均粒径が５μｍ以下の二酸化ケイ素粉末と、平均粒径が５μｍ以下の炭化ケイ素粉末及び／又は一酸化ケイ素粉末からなるケイ素化合物粉末とを有する原料粉末により、上記課題を解決する。この原料粉末は、二酸化ケイ素粉末の比表面積が６００ｍ^２／ｇ以上であることが好ましく、ケイ素化合物粉末が二酸化ケイ素粉末１００重量部に対して１０重量部以上５０重量部以下で添加されていることが好ましい。本発明のイオンプレーティング用蒸発源材料は、前記原料粉末を焼結又は造粒させて平均粒径が２ｍｍ以上の塊状粒子又は塊状物に加工したものである。 （もっと読む）

【課題】Ａｌ、Ｍｇ、またはＺｎ、あるいはこれらの合金の溶湯を鋳造するに際し、優れた耐溶損特性および耐焼付特性を併有するダイカスト金型、および、上記各特性を確実に併有させるための表面処理方法を提供する。
【解決手段】溶融金属の鋳造に用いられるダイカスト金型１であって、係るダイカスト金型１における表面のうち、少なくともキャビティを含む表面２に被覆され、ＩＶＡ、ＶＡ、ＶＩＡ族の金属の一種または二種以上を含む炭化物、窒化物、または炭窒化物、あるいは、ＩＶＡ、ＶＡ、ＶＩＡ族の金属の一種または二種以上にＳｉまたはＡｌを含む窒化物からなる第１層４と、係る第１層を酸化処理して表層に形成されたＩＶＡ、ＶＡ、ＶＩＡ族の金属、Ｓｉ、および、Ａｌの酸化層５の少なくとも一種以上を含む第２層６と、を備えている、ダイカスト金型１。 （もっと読む）

【課題】波長板を構成する圧電基板に開口フィルタを成膜しても反りが生じないようにすることを目的とする。
【解決手段】波長板を形成する第１の水晶基板３の一方の表面上には、位相調整膜６と波長選択膜７とからなる開口フィルタ５が成膜されている。また、第１の水晶基板３の他方の面には、第１の水晶基板３の一方の面に成膜された開口フィルタ５により生ずる圧縮応力を打ち消すために所定の材質の矯正用光学薄膜８を成膜するようにした。 （もっと読む）

【課題】鋳造すべき溶融金属によって表面にクラックやコーティング層の剥離が生じにくく、耐ヒートチェック性に優れたダイカスト金型、およびその表面処理方法を提供する。
【解決手段】溶融金属の鋳造に用いられるダイカスト金型であって、係るダイカスト金型における表面３のうち、少なくともキャビティを含む表面３に被覆され、ＩＶＡ族、ＶＡ族、ＶＩＡ族の少なくとも一種の金属（例えば、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ）またはこれらの合金からなり、マイクロビッカース硬さが１０００Ｈｖ以下で且つ厚みが１〜３０μｍの第１層４と、係る第１層４の表面上に被覆され、ＩＶＡ族、ＶＡ族、ＶＩＡ族の少なくとも一種の金属との炭化物（例えば、ＴｉＣ）、窒化物（例えば、ＴｉＮ）、酸化物（例えば、Ｃｒ_２Ｏ_３）、あるいは炭窒化物（例えば、ＴｉＣＮ）からなる第２層６と、を含む、ダイカスト金型１。 （もっと読む）

【課題】欠陥孔内を被覆して厚さが均一で表面性状に優れる金属層を形成することが可能な金属化フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁体１の表面に金属層４が形成された金属化フィルムの製造方法であって、絶縁体１の表面に乾式めっき法により下地金属膜４を形成する工程と、絶縁体の１下地金属膜４を形成した面に有機モノマー含有液を接触させ、下地金属膜４の欠陥孔内の絶縁体１表面に導電性有機ポリマー皮膜を選択的に形成することにより、欠陥孔内を被覆する工程とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性が高く、かつ高い耐欠損性を有する表面被覆工具を提供する。
【解決手段】 基体２の表面に、Ｔｉ_{１−ａ−ｂ}Ａｌ_ａＭ_ｂ（Ｃ_ｘＮ_１−ｘ）（ただし、ＭはＴｉを除く周期表第４、５、６族元素、希土類元素およびＳｉから選ばれる１種以上であり、０．４≦ａ≦０．６５、０≦ｂ≦０．３、０≦ｘ≦１である。）からなる被覆層３を被覆した表面被覆工具１であって、被覆層３が基体２の表面に対して垂直に伸びる柱状結晶５を主体とした組織からなるとともに、柱状結晶５は、被覆層３全体のＴｉ含有比率をＴｉ_ｔとしたとき、比Ｔｉ_ｒ／Ｔｉ_ｔが１．２〜５となるＴｉ含有比率がＴｉ_ｒの富Ｔｉ柱状結晶５ａが分散している構成からなることによって、耐摩耗性が高く、かつ高い耐欠損性を有する表面被覆工具となる。 （もっと読む）

【課題】タービン部品の改良補修プロセス及び補修した部品を提供する。
【解決手段】修復又は再生した物品であり、特に、第一の材料を含む損傷部品を準備する段階８０と、残存基板の壁厚を評価する段階８４と、残存基板の少なくとも一部の上に第二の材料の層を堆積させる段階８６Ａ、８６Ｂとを含む方法で修復又は再生したガスタービンエンジン用の部品。第二の材料は、第一の材料と実質的に同じ組成である。被覆段階９２で、部品上に環境皮膜を堆積させる。本方法は、８１６℃〜１２６０℃の温度で２〜２４時間の熱処理段階８８を含んでよい。修復又は再生された物品は、供用に戻すことができる９８。 （もっと読む）

【課題】通常の湿度環境下で長期間保管しても潤滑特性が低下しない転動要素を得る。
【解決手段】本発明の転動要素は、鉄基合金の表面に真空技術を適用した膜形成法で作製された銀または金及びそれらの合金からなる固体潤滑膜が被覆された転動要素であり、前記転動要素に前記固体潤滑膜を被覆後、大気中に取り出す前に真空室内を乾燥した気体で置換することで作製されたものである。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、電子機器部品に用いられるプリント配線用スクリーン印刷版や大面積濾過フィルター等の微細織物からなるステンレスメッシュの表面を、平滑化すると共に織物の剛性および抗張力を向上した高品位金属繊維織を提供するもので、減圧下において少なくとも一原子以上のカーボンを含有する炭化水素系ガスを導入してプラズマを発生させ、負の高周波パルス電圧を印加して、カーボンイオン注入と傾斜構造を持った高品位なＤＬＣ膜を被覆した物品を提供するものである。
【解決手段】
スクリーンメッシュが多数枚セットした状態で、少なくとも一原子以上のカーボンを含有する炭化水素系ガスを導入して高周波電力の供給によりプラズマを発生させ、この中の非処理物に高周波パルス電圧を印加して、基材中にカーボンイオン注入した後、ＤＬＣ膜を形成した金属繊維織物部材及びその表面処理方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】耐熱合金の高速重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットからなる工具基体の表面に、下部層としてアークイオンプレーティングで蒸着形成されたＣｒとＡｌとＳｉの複合窒化物層、上部層としてアークイオンプレーティングとスパッタリングの同時蒸着により形成されたＣｒとＡｌとＳｉとＭｏとＳの複合窒化物層を設けた表面被覆切削工具であって、上部層は、層厚方向にそって、Ａｌ−Ｃｒ−Ｓｉ最高含有点とＭｏ−Ｓ最高含有点とが０．０３〜０．１μｍの間隔をおいて交互に繰り返し存在する平均層厚１〜８μｍの組成変化（Ａｌ，Ｃｒ，Ｓｉ，Ｍｏ，Ｓ）Ｎ層からなる。 （もっと読む）