【課題】 硬度が大きくて容易に剥離しない多層被膜膜を提供する。
【解決手段】 多層被覆膜１０は、アルミニウム合金１１より硬度の大きい材料で形成されている。多層被覆膜１０は、アルミニウム合金１１の上に、ブライト・ニッケル層１３、リン酸ニッケル層１５、および窒化チタン層１７の順番で積層されている。硬度はアルミニウム合金、ブライト・ニッケル層、リン酸ニッケル層の順番に大きくなっており、窒化チタン層の硬度が最も大きい。窒化チタン層とアルミニウム合金の硬度の差が大きくても中間層が硬度の順番に並んでいるため、窒化チタン層はスクラッチが発生しても剥離しにくい。 （もっと読む）

【課題】基材に完全に被覆し、製品の型形成後の分離が容易なコーティング形成方法の提供。
【解決手段】金属コーティングを形成する方法であって：（ａ）真空状態にあるかあるいは不活性雰囲気を有するチャンバー内において金属イオンを生成するための金属ターゲットにおいてアークを発生させる段階；（ｂ）その上に金属層を形成するための基材上へ金属イオンを被着させる段階；及び（ｃ）前記金属層上に一次金属−気体化合物層および前記一次金属−気体化合物層上に二次金属−気体化合物層を形成するためのチャンバー内の気体の量の調節であって、前記一次及び二次金属−気体化合物層が異なる気体原子含有量を有する調節の段階を含む方法。 （もっと読む）

【課題】 皮膜の耐久性と、有彩色性とを兼備した表面層を持つ金属ガラス部品及びその表面層の形成方法を提供する。
【解決手段】 金属ガラス部品(10)の表面に、硝酸とふっ酸の合せ水溶液(18)を反応させて酸化皮膜(12)除去を行うと共に、アンカー結合形状(14)を金属ガラス部品(10)の表面に準備する界面活性処理を行い、次いで、電気メッキまたは無電解メッキを行うことにより金属ガラス部品(10)の表面にメッキ皮膜(16)を形成する。
これにより、耐久性と有彩色とを兼備した金属ガラス表面層を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】コーティング前寸法と後寸法の差が小さい薄膜が要求される小径工具において、クリーニングの効果を損なうことなく、小径工具への成膜速度を抑制し、大径工具との同時処理を可能とするコーティング装置を提供。
【解決手段】コーティング装置内のプラズマイオン４（又はアークイオン）の照射を受ける位置に、自転ジグＣには、コーティングを施す工具刃部の外径が0.2mm 以上4.0mm 未満の小径工具10が挿入固定され、小径工具10先端から工具回転軸方向への間隔14が、1mm 以上20mm未満の位置に、プラズマイオン４（又はアークイオン）の照射を遮断する、小径工具10以外の遮蔽物11を設置した。 （もっと読む）

【課題】 高硬度から低硬度の材料まで広範囲の基材に対し、高硬度のＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）膜を最表面側に含むＤＬＣ多層膜を約３μｍ以上厚く形成しても、基材およびＤＬＣ膜の双方に対して優れた密着性を備えており、耐摩耗性にも優れたＤＬＣ成形体を提供する。
【解決手段】 基材１と、ＤＬＣ系膜３と、基材１とＤＬＣ系膜３との間の中間層２とからなるＤＬＣ硬質多層膜成形体である。ＤＬＣ系膜３は、基材１側から順に、第１のＤＬＣ系膜３ａと第２のＤＬＣ系膜３ｂとからなり、第１のＤＬＣ系膜３ａの表面硬度は、ナノインデンテーション試験で１０ＧＰａ以上４０ＧＰａ以下の範囲内にあり、第２のＤＬＣ系膜３ｂの表面硬度は、ナノインデンテーション試験で４０ＧＰａ超９０ＧＰａ以下の範囲内にある。 （もっと読む）

【課題】 冷却液体の流路への冷却液体の供給の有無に応じて、シール部材の液体シール状態を変更可能な真空処理装置用の回転シール機構およびこれを備えた真空処理装置を提供する。
【解決手段】回転シール機構１０１は、筒状の中空回転軸２５と、筒状のケーシング部材２３と、中空回転軸２５を回転可能な駆動装置３１と、ケーシング部材２３の外部から中空回転軸２５の中空部に亘るように形成された冷却液体の流路と、中空回転軸２５とケーシング部材２３との間に設けられた、冷却液体貯留部Ｓ１と、中空回転軸２５とケーシング部材２３との間に存在する隙間に、冷却液体貯留部Ｓ１を挟むように配設され、冷却液体貯留部Ｓ１をシールする一対の環状のシール部材５０、５１と、流路への冷却液体の供給の有無に応じて、中空回転軸２５の回転の際の、シール部材５０、５１の液体シール状態を変更可能な調整手段と、備える。 （もっと読む）

【課題】 スキマーとイオン化器との間の異常放電を容易に防止することができるガスクラスターイオンビーム装置を提供する。
【解決手段】 ガスクラスターイオンビーム装置は、ノズル１からガスを導入させてガスクラスターを生成させるクラスター生成室２と、隔壁１８によってクラスター生成室２から分離され、ガスクラスターが隔壁１８に設けられたスキマー４を通して供給されるプロセス室１５とを有している。プロセス室１５には、プロセス室１５内に導入されたガスクラスターをイオン化するイオン化器５と、イオン化器５でイオン化されたガスクラスターを加速させてガスクラスターを被処理物である基板８に照射させる電極群７とが備えられている。ノズル１とスキマー４を接地電位にし、スキマー４とイオン化器５との電位差をクラスターイオンの基板８への照射エネルギーより小さくしてある。 （もっと読む）

【課題】 被処理物が正しい処理位置にあるかどうかを高い信頼性でもって検知することのできる真空処理装置及び真空処理方法を提供する。
【解決手段】 被処理物によって閉塞可能な開口部を有する処理室と、前記被処理物を、前記開口部を閉塞する位置と、前記開口部から離間された位置との間で移動させるアクチュエータと、前記処理室内に放電を生じさせる電力を供給する電源と、前記放電の電気特性に基づいて前記被処理物が前記開口部を閉塞する位置にあるかどうかを判定する制御装置と、を備えたことを特徴とする真空処理装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】処理物である基板の表面に、密着性の良好な、高品質で均一な硬質膜を量産的に形成するように、ターゲットのエロージョン領域を広げることでターゲットの寿命を向上させるアーク式イオンプレーティング装置のアーク式蒸発源を提供。
【解決手段】ターゲット10裏面に取付けた金属プレート16の裏面中心17に磁界を形成するための第１マグネット20を１個配置し、金属プレート16の裏面の外周部18に第１マグネット20とは磁界の反極性かつ 0.5乃至１倍の磁力を有する６個以上の第２マグネット21を均等間隔で配置し、さらに第２マグネット21と同軸かつほぼ同じ外径の環状電磁コイル30を隣接させて配置し、かつ電磁コイル30へのコイル電流を可変にしてターゲット10表面に生じるアーク放電スポットを制御してターゲットの金属溶融領域を拡大させる。 （もっと読む）

【課題】コンパクト化を図ることが可能なプラズマ生成モジュールを提供する。
【解決手段】 プラズマ生成モジュール４０は、陽極として機能するハース４２と、ハース４２の周囲に配置された磁石４４と、磁石４４によってチャンバ２０内に形成されるリターンフラックスＦ上に配置されたプラズマガン４６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 イオンプレーティング法において、スプラッシュの発生を抑制し、又は発生することなしに、均質で高性能の酸化亜鉛系導電膜を与えるターゲットとその有用な製法を提供すること。
【解決手段】 酸化亜鉛主体の焼結体からなり、Ｘ線回折パターンにおいて（１００）、（００２）、（１０１）面による回折ピークを有し、該回折ピークの何れかの半値幅が０．１１０度以下である酸化亜鉛系導電膜形成用のイオンプレーティング用ターゲットを開示する。 （もっと読む）

【課題】 量産性に優れる電極パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 ホットメルト層８が金属材料からなる被覆層４により覆われ、表裏面を貫通する主電極形成用開口部１２ａを有する主電極形成マスク１０ａを用いて、基板２０上に電極パターン２２ａを形成する方法であって、主電極形成マスク１０ａを、ホットメルト層８を介して基板２０の表面に熱圧着する工程と、主電極形成用開口部１２ａを介して導電性蒸着材料の物理的蒸着を行うことにより、基板２０上に主電極パターン２２ａを形成する工程と、前記主電極形成マスクを剥離する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】 イオンプレーティング法において、スプラッシュの発生を抑制し、又は発生することなしに、均質で高性能の酸化亜鉛系導電膜を与えるターゲットとその有用な製法を提供すること。
【解決手段】 酸化亜鉛主体の焼結体からなり、外形から求められる体積に対する開空孔の割合が１５〜４０％で、閉空孔の割合が３．０％以下であり、イオンプレーティング時にスプラッシュを生じることのない酸化亜鉛系導電膜形成用のターゲットを開示する。 （もっと読む）

【目的】一部に真空アークプラズマを用いて、ドロップレットの影響を受けることなく高純度に、かつ円滑に単一膜、混合膜及び積層膜を成膜するプラズマ表面処理方法、プラズマ処理装置及びこれらを用いて処理された目的物を提供する。
【構成】２種類の第１プラズマ１６及び第２プラズマ１７を使用する。各プラズマは、第１プラズマ発生部２、第２プラズマ発生部３において真空雰囲気下に設定されたアーク放電部で真空アーク放電を行って発生させる真空アークプラズマであり、第１と第２プラズマ導入路２２、２３を介して共通輸送ダクト１０に導入される。このとき、第１及び第２プラズマ１６、１７を共通輸送ダクト１０に導入するタイミングを制御して、プラズマ処理部１内のワークＷ表面に対して積層膜形成等の表面処理加工が行われる。各プラズマ導入路のプラズマ導入角度は共通輸送ダクト１０の輸送方向に対して鋭角に設定されている。 （もっと読む）

【課題】硬質炭素被膜を形成した部材に対する潤滑剤の存在下での摺動相手部材として、従来の鋼製部材よりもさらに優れた摺動特性、低摩擦特性が得られる材料を見出し、従来よりもさらに低い摩擦係数を示し、より優れた省燃費効果を発揮することができる摺動部材を提供する。
【解決手段】例えばエンジンオイルのような潤滑剤の存在下において相対的に摺動する摺動面を備えた摺動部材の一方の摺動面の一部又は全部に硬質炭素被膜を形成する一方、相手側摺動面の一部又は全部を金属モリブデンによって構成する。 （もっと読む）

本発明は、層状構造によって少なくとも部分的に被覆された金属基板に関する。層状構造は、金属基板に堆積された中間層と、中間層に堆積された非晶質炭素層と、を備える。非晶質炭素層は、２００ＧＰａよりも低いヤング率を有する。中間層は、２００ＧＰａよりも高いヤング率を有する四面体炭素層から構成される。本発明は、さらに、四面体炭素皮膜に被覆された金属基板による被接触体の磨耗を低減させる方法に関する。
（もっと読む）

【課題】 生産性に優れ、ガスバリア性の高い透明ガスバリア膜の製造が可能な透明ガスバリア膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 真空槽１２中でハース３に入れられた有機材料または無機材料に電子ビーム発生器２により電子ビームを照射して物理的に前記有機材料または前記無機材料を気化する。ここで、前記有機材料または前記無機材料の蒸発源である前記電子ビーム発生器２とは別の圧力勾配型プラズマガン１によって発生されるプラズマを利用して、前記気化した有機材料または無機材料を活性化させて、透明基材フィルム１３上に有機薄膜層または無機薄膜層を形成する。 （もっと読む）

【課題】スティックスリップが生じにくく、摩擦係数を一層低減できる高速摺動部材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】表面粗さがＲａ０．００５〜０．１μｍである金属部材に粒状突起形状を有するＤＬＣ膜が被覆され、この粒状突起の高さが０．０２〜０．０５μｍであり、ＤＬＣ膜の表面粗さがＲｓｋ０〜４μｍである高速摺動部材である。ＤＬＣ膜に水素を１０原子％以下の割合で含有する。ＤＬＣ膜の硬度が７０〜９０ＧＰａである。
ＤＬＣをイオンプレーティング法により被覆し、エアロラップ処理を行い高速摺動部材を製造する。 （もっと読む）

【課題】内燃機関の燃焼ガスに曝されるチタン部品の疲労強度および衝撃強度を向上する。
【解決手段】本発明による内燃機関用チタン部品は、表面に形成されたセラミックス層７を有している。セラミックス層７は、１０ｎｍを超え７５０ｎｍ以下の厚さを有し、かつ、シリコンまたはアルミニウムを含む。 （もっと読む）

【課題】 シール部材のシール性能を適正に判定することを可能にした真空処理装置用の回転シール機構および真空処理装置を提供する。
【解決手段】 回転シール機構１０１は、筒状の中空回転軸２５と、筒状のケーシング部材２３と、中空回転軸２５を回転可能な駆動装置３１と、ケーシング部材２３の外部から中空回転軸２５の中空部に亘るように形成された冷却液体の流路Ｈ１、Ｈ２と、前記流路Ｈ１、Ｈ２の途中に位置して、中空回転軸２５またはケーシング部材２３の少なくとも何れか一方に設けられた環状かつ溝状の冷却液体貯留部Ｓ１と、冷却液体貯留部Ｓ１をシールする一対の環状のシール部材５１、５２と、中空回転軸２５の回転時の、シール部材５１、５２の液体シール性能に関連する情報を検知する検知手段８２と、この情報に基づいて、シール部材５１、５２の液体シール性能を判定する制御装置８０と、を備える。 （もっと読む）