【課題】 高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_1-XＡｌ_X）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４０〜０．７５を満足する（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．１〜０．５μｍの平均層厚を有するＣｒＮ層からなる密着接合層、（ｃ）０．８〜５μｍの平均層厚を有するＣｒＢ_２層からなる上部層、以上（ａ）〜（ｃ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 高反応性被削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_１−ＸＡｌ_X）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４５〜０．７５を示す）を満足する（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｗ_1-ＹＴａ_Ｙ）Ｂ（ただし、原子比で、Ｙは０．１０〜０．４０を示す）を満足するＷとＴａの複合硼化物層からなる上部層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】有機高分子を有する基板にＩＴＯ透明導電膜を成膜する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】真空チャンバーに設置された圧力勾配型プラズマガンを使用するイオンプレーティング装置によるＩＴＯ透明導電膜の成膜方法において、成膜前の基板の温度を８０〜１４５℃とし、ＩＴＯ蒸発原料から基板に、単位時間単位面積あたり入射する輻射熱を、１．５〜１０Ｊ／ｃｍ^２・ｍｉｎの範囲にして、ＩＴＯ透明導電膜を成膜する。真空チャンバー内の圧力を０．０５〜０．３Ｐａとする。ＩＴＯ透明導電膜が酸化インジウムにスズを酸化物換算で５〜１０ｗｔ％添加したものであり、比抵抗が１．２×１０^―４〜３．０×１０^―４Ω・ｃｍの範囲にある。 （もっと読む）

【課題】 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_1-(X+Z) Ａｌ_XＢ_Z）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．２５〜０．６５、Ｚは０．０１〜０．１０を示す）を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．８〜５μｍの平均層厚を有するＣｒＢ_２層からなる上部層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 基材の劣化を伴うことなく、高温環境下での優れた耐摩耗性と耐溶着性を備えた被膜を提供する。
【解決手段】 酸化物層を少なくとも１層含む被膜であって、該酸化物層は、γ−Ａｌ₂Ｏ₃型の結晶構造を有する（Ａｌ_1-XＭ_X）₂Ｏ₃（式中、ＭはＹまたはランタノイドから選ばれる少なくとも１種の元素を示し、Ｘは０．００１≦Ｘ≦０．３５である）を含有し、該γ−Ａｌ₂Ｏ₃型の結晶構造を有する（Ａｌ_1-XＭ_X）₂Ｏ₃は、上記酸化物層の断面積において５０％以上９９％以下の面積を占めるような比率で含有されていることを特徴とする被膜に関する。 （もっと読む）

【課題】 難削材の高速切削ですぐれた耐摩耗性を発揮する立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削チップを提供する。
【解決手段】 立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削チップを、窒化チタン：３１〜３６％、炭窒化チタン：１０〜１５％、ＴｉとＡｌの金属間化合物：１〜５％、ＴｉとＡｌの複合窒化物：２〜６％、炭化タングステン：１．５〜６．５％、立方晶窒化ほう素：残り（ただし、４１〜４７％含有）、からなる配合組成（以上、％は質量％を示す）を有する圧粉体の超高圧焼結材料で構成され、かつ、走査型電子顕微鏡による組織観察で、分散相を形成する立方晶窒化ほう素相と連続相を形成する炭窒化チタン相との界面に超高圧焼結反応生成物が介在した組織を有する切削チップ本体の表面に、組成式：（Ｔｉ_１−ＸＳｉ_Ｘ）Ｎ、（ただし、Ｘは、原子比で０．０１〜０．０５）、を満足するＴｉとＳｉの複合窒化物層からなる表面被覆層を１〜８μｍの平均層厚で蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ含有皮膜を高硬度化させ、硬質皮膜全体の高硬度化並びに耐熱性を向上させ、耐剥離性に優れ、耐摩耗性の要求される部材等に最適な硬質皮膜を提供し、この硬質皮膜を被覆した硬質皮膜被覆部材及びその被覆方法を提供する。
【解決手段】基体に硬質皮膜を積層した硬質皮膜被覆部材において、硬質皮膜は最下層と最上層と中間積層部とを有し、最下層はＡｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｎｂから選択される１種以上の金属元素からなる窒化物主体の硬質皮膜、最上層はＳｉが１０から３０％を含有し、非金属成分としてＮ、Ｃ、Ｏ、Ｂの１種以上を含有する非晶質相を含有し、硬度が４０から８０ＧＰａの高硬度な硬質皮膜、中間積層部は金属元素としてＡｌ及びＳｉを含有し、残部Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｗから選択される１種以上の金属元素からなる窒化物、酸窒化物、硼窒化物又は炭窒化物の何れかが主体の積層部、該積層部はＡ層とＢ層とが交互に積層される。 （もっと読む）

【課題】 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_1-(X+Z) Ａｌ_XＳｉ_Z）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．２５〜０．６５、Ｚは０．０１〜０．１０を示す）を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．８〜５μｍの平均層厚を有するＣｒＢ_２層からなる上部層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_１−ＸＡｌ_X）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４５〜０．７５を示す）を満足するＴｉとＡｌの複合窒化物層からなる下部層、（ｂ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｗ_1-ＹＺｒ_Ｙ）Ｂ（ただし、原子比で、Ｙは０．１０〜０．４０を示す）を満足するＷとＺｒの複合硼化物層からなる上部層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】従来のTiN 皮膜、TiC 皮膜、TiCN皮膜、(Al,Ti)(N,C)系皮膜の中で最も耐摩耗性に優れている(Al,Ti)(N,C)系皮膜よりも耐摩耗性に優れ、高速切削の場合に対応可能な耐摩耗性を有する硬質皮膜を提供する。
【解決手段】（１）結晶質の硬質皮膜であって、AlとＸ（Ｘ：Cr、Ｖの一種）の複合窒化物、複合炭化物、複合ホウ化物、複合炭窒化物、複合ホウ窒化物、複合炭ホウ化物または複合炭窒ホウ化物よりなり、そのAlとＸの組成が、（ Al_1-yＸ_y ）〔但し、Ｘ：Cr、Ｖの一種、０＜ｙ≦０．３〕で示される組成からなることを特徴とする硬質皮膜、（２）前記硬質皮膜において膜厚が0.1 〜20μm であるもの等。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ透明導電膜の成膜後、基板がそることのない、ガラス基板上に成膜されるＩＴＯ透明導電膜と同程度の低抵抗のＩＴＯ透明導電膜付きフィルムを得ることを課題とする。
【解決手段】ポリエチレンナフタレートを主とするフィルム基板を用い、プラズマガンを用いるイオンプレーティング法で、成膜時のフィルム基板の温度を９０℃〜１４５℃の温度範囲に保ってＩＴＯ透明導電膜を成膜される、比抵抗が１．１×１０^―４〜３．０×１０^―４Ω・ｃｍの範囲にあるＩＴＯ透明導電膜付きフィルムである。また、膜面の算術平均粗さＲａ（ｉ）が、フィルム基板表面の算術平均粗さＲａ（ｆ）に対し、Ｒａ（ｉ）−Ｒａ（ｆ）≦２ｎｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 Ｓｉ含有皮膜を高硬度化させ、硬質皮膜全体の高硬度化、耐剥離性に優れ、耐摩耗性の要求される部材等に最適な硬質皮膜を提供し、この硬質皮膜を被覆した硬質皮膜被覆部材及びその被覆方法を提供する。
【解決手段】 基体に硬質皮膜を積層した硬質皮膜被覆部材において、硬質皮膜は最下層と最上層と中間積層部とを有し、最下層はＡｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｎｂから選択される１種以上の金属元素からなる窒化物主体の硬質皮膜、最上層はＳｉが１０から３０％を含有し、非金属成分としてＮ、Ｃ、Ｏ、Ｂの１種以上を含有する非晶質相を含有し、硬度が４０から８０ＧＰａの高硬度な硬質皮膜、中間積層部は金属元素としてＡｌ及びＳｉを含有し、残部Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｗから選択される１種以上の金属元素からなる窒化物、ホウ窒化物又は炭窒化物の何れかが主体の積層部、該積層部はＡ層とＢ層とが交互に積層される。 （もっと読む）

【課題】 電気的絶縁性物質を成膜する場合にも対応でき、対象とする基材上に充分安定的に成膜することができ、且つ、連続的に成膜ができ、安定的に、成膜された基材を得ることができる、圧力勾配型イオンプレーティング方法を用いた真空成膜装置、真空成膜方法を提供する。
【解決手段】 圧力勾配型プラズマガンから出射されたプラズマビームをハースに載置された蒸着材料に導くためのハース用マグネットが、マグネトロン構造である。 （もっと読む）

イオン性プラズマ堆積を用いて基盤の表面中へ、又は表面上へ、抗-微生物性材料を堆積させるための方法。当該方法は、部分的真空中に堆積される抗微生物の潜在能力を有している標的材料から成る陰極を提供し、成分粒子のプラズマへと標的材料をイオン化するために陰極を駆動させたプラズマ放電を該陰極で発生させるステップを含んで成る。該プラズマ粒子は、イオン化ガスと反応し、そして陰極に隣接する少なくとも第一の陽極、及び第一の陽極に隣接して位置する第二の陽極により作製された電磁界により、選定され、制御され、又は基盤へと導かれる。更なる陽極構造体及び帯電スクリーン(charged screens)はプラズマ成分の更なる制御を提供する。抗-微生物性材料を含むプラズマ成分は、基盤中へ、及び基盤上へ抗-微生物性表面を形成する分散した秩序のとれた構造体として基盤上へ堆積する。 （もっと読む）

【課題】 電気的絶縁性物質を成膜する場合にも対応でき、対象とする基材上に充分安定的に成膜することができ、且つ、安定的に、成膜された基材を得ることができる、圧力勾配型イオンプレーティング方法を用いた真空成膜装置、真空成膜方法を提供する。
【解決手段】 圧力勾配型プラズマガンを有する圧力勾配型ホローカソード型のイオンプレーティング成膜部を備え、該成膜部により、イオンプレーティング法により基材の一面に薄膜を形成する真空成膜装置であって、マグネットを有する電極同士を一対として、１対以上配設し、対とする電極間に電圧を印加して、成膜する基材表面に接するようにして放電プラズマを生成し、成膜材料を活性化する成膜活性部を備えている。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性および耐焼き付き性に優れる硬質皮膜とその形成方法を提供する。
【解決手段】 (1) （Ｘ_C , Ｍ_1-C ）（Ｂ_a Ｃ_b Ｎ_1-a-b ）からなる硬質皮膜であって、ＭはＷ、Ｖの１種以上、Ｘは4A、5A族、6A族の元素およびAl、Si、Fe、Co、Niの１種以上であり、式(1) 〜(4) 〔式(1):0.05≦ａ≦0.7 、式(2):０≦ｂ≦0.5 、式(3):０＜１−ａ−ｂ、式(4):０≦ｃ≦0.3 〕を満たすことを特徴とする硬質皮膜。但し、ａはＢの原子比、ｂはＣの原子比、ｃはＸの原子比である。(2) （Ｘ_C , Ｍ_1-C ）（Ｂ_a Ｃ_b Ｎ_1-a-b ）からなる皮膜とＢ_1-d-e Ｃ_d Ｎ_e からなる皮膜とを２層以上積層してなる硬質皮膜であって、ＭはＷ、Ｖ、Moの１種以上、Ｘは前記(1) の場合と同様であり、式(5) 〜(8) 及び式(9) 〜(10)〔式(5):０≦ａ≦0.7 、式(6) 〜(8):式(2) 〜(4) と同様、式(9) ：０≦ｄ≦0.25、式(10): （１−ｄ−ｅ）／ｅ≦1.5 〕を満たすことを特徴とする硬質皮膜等。 （もっと読む）

【課題】 従来の皮膜よりも耐酸化性および耐摩耗性に優れた硬質皮膜を提供する。
【解決手段】 （Ａｌ_ａ，Ｍ_ｂ，Ｃｒ_{１−ａ−ｂ}）（Ｃ_１−ｅＮ_ｅ）からなる硬質皮膜（但し、ＭはＷ及び／又はＭｏ）であって、
０．２５≦ａ≦０．６５、
０．０５≦ｂ≦０．３５、
０．５≦ｅ≦１
（ａ，ｂ，ｅはそれぞれＡｌ，Ｍ，Ｎの原子比を示す。）
であることを特徴とする硬質皮膜。 （もっと読む）

【課題】高温状態での耐溶着性並びに硬質皮膜中への被削材元素の拡散を抑制し、切削加工の乾式化、高速化、高送り化に対応する硬質皮膜で被覆された工具を提供することを目的とする。
【解決手段】周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ及びＳｉから選択される１種以上の元素と、Ｃ、Ｎから選択される１種以上の元素と、ＳとＯとを含有する硬質皮膜であり、電子分光分析法によって該硬質皮膜の表面にはＳとＯとの結合状態を示すピークが検出され、該ＳとＯとの結合状態を示すピーク位置が１６７〜１７０ｅＶの範囲内にあることを特徴する硬質皮膜及びその製造方法に、少なくとも２種以上のプラズマ密度の異なる物理蒸着による蒸発源を用いて被覆することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の密着性を改善し、耐酸化性、耐摩耗性を向上させ、更に高温状態での耐溶着性並びに硬質皮膜中への被削材元素の拡散を抑制し、切削加工の乾式化、高速化、高送り化に対応する硬質皮膜の製造方法を提供する。
【解決手段】本願第１発明は、硬質皮膜は高密度プラズマにより被覆した相と、低密度プラズマにより被覆した相とが多相構造をなし、該硬質皮膜内部において組成濃度差を発生させることを特徴とする硬質皮膜の製造方法である。次に、本願第２発明は、プラズマ密度の異なる手法を被覆時に併用し、高硬度皮膜と低硬度皮膜とを連続して交互に被覆することを特徴とする硬質皮膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 透明電極として優れた性質を有するＺｎＯ膜をイオンプレーティングで成膜する技術を提供する。
【解決手段】 イオンプレーティングのソース材料として用いるのに適したＺｎＯ焼結体は、平均酸化度の異なる第１のＺｎＯ領域と第２のＺｎＯ領域とを含み、前記第１のＺｎＯ領域と前記第２のＺｎＯ領域とは平均粒径が異なる。前記第１のＺｎＯ領域は前記第２のＺｎＯ領域より酸化度の高い領域であり、前記第２のＺｎＯ領域は前記第１のＺｎＯ領域と異なる色の、青みを帯びた領域であることが好ましい。 （もっと読む）