【課題】耐熱性の向上したプラスチック製眼鏡レンズを提供すること。
【解決手段】レンズ基材と、レンズ基材の物体側の面及び眼球側の面に反射防止膜を備え、物体側の面に備えられた反射防止膜が圧縮応力を有し、かつ眼球側の面に備えられた反射防止膜が、物体側の面に備えられた反射防止膜に比べ小さい圧縮応力を有することを特徴とする。圧縮応力が高いと耐熱性は高くなるが、生産性を低下させる。そのため物体側の面は高い圧縮応力を持つ反射防止膜を形成し、眼球側の面は物体側の面に比べ小さい圧縮応力を有する反射防止膜を形成することによって、耐熱性と生産性を両立することができる。 （もっと読む）

【課題】 複数のスパッタリングターゲットを備えたスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係るスパッタリング装置は、被成膜基板１３にスパッタリングにより薄膜を成膜するスパッタリング装置であって、真空容器１０と、前記真空容器１０内に配置された第１乃至第３のスパッタリングターゲット２４〜２６と、前記第１乃至第３のスパッタリングターゲット２４〜２６それぞれに高周波電流を出力する高周波電源３３〜３５と、前記真空容器内に配置され、被成膜基板を保持するサセプタ１４と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性及び耐スカッフ性に優れたＣｒ−Ｂ−Ｔｉ−Ｎ合金皮膜が形成された摺動部材を提供する。
【解決手段】 摺動部材であるピストンリング１は、母材２と、窒化層３と、Ｃｒ−Ｂ−Ｔｉ−Ｎ合金皮膜４とから構成されている。母材１は、Ｆｅ系又はＡｌ系の合金である。窒化層３は、公知の窒化処理によって母材１の表面層に窒素を拡散させることにより形成されている。Ｃｒ−Ｂ−Ｔｉ−Ｎ合金皮膜４は、ＰＶＤ（物理的蒸着）法によって窒化層３の外周摺動面（摺動面相当部）に被覆されている。Ｃｒ−Ｂ−Ｔｉ−Ｎ合金皮膜４は、Ｂを０．０５〜１０．０質量％、Ｔｉを５．０〜４０．０質量％、Ｎを１０．０〜３０．０質量％含有し、残部がＣｒである。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬディスプレイデバイスに用いられた場合に、有機ＥＬ素子としての寿命を十分に長くでき、且つ、基板のフレキシビリティ性、基板の耐久性や強度を同時に十分満足できる有機ＥＬディスプレイデバイス用の基板を提供する。特に、ＩＴＯ膜の膜質を改善して、有機ＥＬ素子としての寿命を１０万時間を越えるようにできる有機ＥＬディスプレイデバイス用の基板を提供する。
【解決手段】 透明フレキシブル基材にＩＴＯ層からなる電極層を配設し、且つ、その水蒸気透過率が、１×１０^-2 g/ ｍ²/day 以下であるフレキシブル透明電極基板であって、ＩＴＯ層は、Ｘ線回折法における、そのＩＴＯ層の（２２２）面に相当する２θピークの積分強度Ａと（２１１）面に相当する２θピークの積分強度Ｂとの積分強度比Ａ／Ｂが３．０以上である。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性、耐欠損性に優れた表面被覆切削工具およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】 すくい面と逃げ面との交差稜線を切刃として具備する基材の表面に、所定の硬質膜を少なくとも１層被覆した表面被覆切削工具であって、切刃部における前記硬質膜表面の面粗度は、原子間力顕微鏡で測定した最大高さ（Ｒｚ）が１．０μｍ以下であり、前記硬質膜表面の酸素量は４０原子％以下である表面被覆切削工具であり、前記硬質膜を物理蒸着法により少なくとも１層被覆した後、前記硬質膜の表面に対して、所定のセラミック砥粒溶液と圧縮空気との混合物を、前記硬質膜の切刃の向きに対して０〜４５°の角度θで衝突させるように前記混合物の吐出角度を制御する製造方法である。 （もっと読む）

本発明は、直流電源（１３）に接続された第１電極（５’）を含むアーク蒸着ソース（５）と、アーク蒸着ソース（５）から分離されて配置された第２電極（３、１８、２０）とを有する加工物（３）の表面処理のための真空処理装置に関する。両方の電極（５’、３、１８、２０）が個々のパルス電源（１６）に接続されて運転される。
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【課題】 CVD法やPVD法によるセラミックス膜被成後に施される張力付与型コーティングの焼き付けや歪取焼鈍等の熱処理に対する窒化物や炭化物被膜と鋼板との密着性および絶縁コーティングとの密着性を高め、きわめて低い鉄損値を有する方向性電磁鋼板を提案する。
【解決手段】 無機鉱物質被膜のない鋼板表面にドライコーティング法により形成された結晶質の窒化物および／または炭化物被膜を有する方向性電磁鋼板において、該被膜の金属Ｍと窒素Ｎおよび／または炭素Ｃとのモル比がＭ／（Ｎ＋Ｃ）＜１．２を満たし、かつ被膜厚さ方向の被膜を構成する元素の濃度変動割合がそれぞれ30％未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、絶縁レイヤを堆積する方法及び低温コーティングの方法に関するものである。このために、アーク供給源のターゲット表面上において点火又は作動する電気スパーク放電に対して、直流とパルス又は交流電流によって同時にエネルギー供給している。又、本発明は、ターゲットが、少なくとも１つのパルス高電流源（１８、１８’）及び別の電源（１３’、１８’’）、或いは、組み合わせ回路技術によって設計された電源（２１、２１’、２２）である電源に接続されているアーク供給源に関するものである。
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【課題】ステンレス鋼からなる装飾品で、耐食性が高く、ニッケルの溶出が極めて少なく、耐傷付き性に優れた白色被膜を有する装飾品を提供すること。
【解決手段】ステンレス鋼からなる装飾品用基材と、該基材表面に湿式メッキ法で形成されたバリアー層と、該バリアー層の表面に乾式メッキ法により形成された下地層と、該下地層の表面に乾式メッキ法により形成された耐摩耗層、および該耐摩耗層の表面に乾式メッキ法により形成された最外層からなる発色層とから構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供すること、前記装飾品を提供することができる製造方法を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供すること。
【解決手段】 本発明の装飾品１Ａの製造方法は、基材２上に、主としてＴｉＮで構成された第１の被膜３を形成する第１の被膜形成工程と、第１の被膜３上に、乾式めっき法により、８．０〜１２ｗｔ％のＰｔと、６．０〜８．０ｗｔ％のＰｄと、２．０〜４．０ｗｔ％のＣｕと、１．５〜２．５ｗｔ％のＡｇと、１．０〜３．０ｗｔ％のＭ（ただし、Ｍは、ＺｎおよびＩｎよりなる群から選択される少なくとも１種）とを含むＡｕ−Ｐｔ−Ｐｄ−Ｃｕ−Ａｇ−Ｍ系合金で構成された第２の被膜４を形成する第２の被膜形成工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬディスプレイデバイスに用いられた場合に、有機ＥＬ素子としての寿命を十分に長くでき、且つ、基板のフレキシビリティ性、基板の耐久性や強度を同時に十分満足できる有機ＥＬディスプレイデバイス用の基板を提供する。特に、ＩＴＯ膜の膜質を改善して、有機ＥＬ素子としての寿命を１０万時間を越えるようにできる有機ＥＬディスプレイデバイス用の基板を提供する。
【解決手段】 透明フレキシブル基材にＩＴＯ層からなる電極層を配設し、且つ、その水蒸気透過率が、１×１０^-2 g/ ｍ²/day 以下であるフレキシブル透明電極基板であって、ＩＴＯ層は、Ｘ線回折法における、そのＩＴＯ層の（２２２）面に相当する２θピーク位置が３０．４０°以上、３１．４０°以下である。 （もっと読む）

【課題】 従来の硬質皮膜であるＴｉＡｌＮ皮膜やＴｉＣｒＡｌＮ皮膜よりも耐酸化性に優れ、且つ、硬度の高い硬質皮膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】〔（Ｃｒ，Ｖ）_a （Ｎｂ，Ｔａ）_b （Ａｌ，Ｓｉ，Ｂ）_C 〕（Ｃ_1-x Ｎ_x ）からなる硬質皮膜であって、ａ＋ｂ＋ｃ＝１、ａ_Cr＋ａ_V ＝ａ、ｂ_Nb＋ｂ_Ta＝ｂ、ｃ_Al＋ｃ_Si＋ｃ_B ＝ｃ、０．０５≦ｂ、０．５≦ｃ≦０．７３、０≦ｃ_Si＋ｃ_B ≦０．１５、０．４≦ｘ≦１．０を満たすことを特徴とする硬質皮膜（但し、上記式において、ａ_CrはＣｒの原子比、ａ_V はＶの原子比、ｂ_NbはＮｂの原子比、ｂ_TaはＴａの原子比、ｃ_AlはＡｌの原子比、ｃ_SiはＳｉの原子比、ｃ_B はＢの原子比、ｘはＮの原子比を示すものである）等。 （もっと読む）

【課題】基材上に設けられたＣｒ化合物で構成された被膜を、好適に除去することができる表面処理方法を提供すること、特に、被膜を除去した後の基材を好適に再利用することができ、省資源の観点から好ましく、環境に優しい表面処理方法を提供すること、また、前記表面処理が施された装飾品を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供することにある。
【解決手段】本発明の表面処理方法は、少なくとも表面付近がＴｉを主とする材料で構成された基材２上に、主としてＣｒ化合物で構成された被膜３を有するワーク１に対する表面処理方法であって、ワーク１に対して、５〜２０ｗｔ％のリン酸を含む第１の処理液を用いた陽極電解処理を施す第１の工程と、第１の工程が施されたワーク１（基材２）に対して、３５〜４０ｖｏｌ％の硫酸および３５〜４０ｖｏｌ％の硝酸を含む第２の処理液を付与する第２の工程と、被膜３’を形成する第３の工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 チタンを屋根、壁材のような過酷な酸性雨環境中で使用した場合も優れた耐変色性を示し、長期間に亘って意匠性が劣化することのない、大気環境中において変色を生じにくい純チタンまたはチタン合金を提供する。
【解決手段】 純チタンあるいはチタン合金の表面上に厚みが０．１〜１．５μｍの窒化チタン層が形成されており、該窒化チタン層中に平均で１〜３５原子％の酸素が含有され、かつ、チタン表面から１００ｎｍの深さの範囲における平均の炭素濃度が３ａｔ％以上１５ａｔ％以下であることを特徴とする大気環境中において変色を生じにくいチタンまたはチタン合金。 （もっと読む）

【課題】温度上昇や被加工物の高硬度化による摩耗増大を抑制することのできる最適な耐摩耗皮膜及び耐摩耗皮膜を被覆した被覆切削工具及び耐摩耗皮膜の製造方法を提供することである。
【解決手段】耐摩耗皮膜の金属成分が（ＳｉＸＭ１−Ｘ）、非金属成分が（ＮＹＧ１−Ｙ）で示され、但しＸの値は金属成分のみの原子％を１００とした場合、１５原子％以上、９５原子％以下であり、Ｙの値は非金属成分のみの原子％を１００とした場合、１０原子％以上、９９．９原子％以下であり、ＭはＴｉ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｙ、Ｃｕ、Ｎｉから選択される１種以上であり、ＧはＣ、Ｏ、Ｂ、Ｃｌ、Ｓ、Ｐ、Ｈ、Ｆから選択される１種以上であり、該耐摩耗皮膜はＳｉ含有量が１０原子％未満の結晶粒子とＳｉ含有量が１０原子％以上の非晶質相とが存在することを特徴とする耐摩耗皮膜である。 （もっと読む）

【課題】 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｃｒ，Ａｌ，Ｂ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの平均層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａ及びＢは、特定な組成式を満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層、からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し、組成式：［Ｃｒ_{1-（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＢ_Ｙ］Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．５０〜０．７０、Ｙは０．００５〜０．０５を示す）を満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｔｉ，Ａｌ，Ｃｒ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の層厚を有する薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａ、上記薄層Ｂ、上記下部層は、特定な組成式を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｃｒ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】切削工具や鍛造金型や打ち抜きパンチなどの治工具などに形成する、硬度と耐酸化性に優れた硬質皮膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】［（Ｎｂ_1-d ，Ｔａ_d）_aＡｌ_1-a］（Ｃ_1-XＮ_X）または［（Ｎｂ_1-d ，Ｔａ_d）_a（Ａｌ_1-aＳｉ_ｂＢ_ｃ）］（Ｃ_1-XＮ_X）からなる硬質皮膜であって、０．４≦ａ≦０．６、０＜ｂ＋ｃ≦０．１５、０≦ｄ≦１、０．４≦Ｘ≦１、（式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびＸは互いに独立して、原子比を示す：なおｂおよびｃは、一方が０であってもよいが、両方が０になることはなく）であることを特徴とする硬質皮膜。カソード放電型アークイオンプレーティング法で皮膜を形成する工程とスパッタリング法で皮膜を形成する工程を繰り返して形成する。 （もっと読む）

【課題】 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｔｉ，Ａｌ，Ｂ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの平均層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａ及びＢは、特定な組成式を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層、からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し、組成式：［Ｔｉ_{1-（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＢ_Ｙ］Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．５０〜０．６０、Ｙは０．０１〜０．１０を示す）を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 高反応性被削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】超硬基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｔｉ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の層厚を有する薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａは特定の組成式：［Ｔｉ_{1-（Ａ＋Ｂ）}Ａｌ_ＡＴａ_Ｂ］Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎ層、上記薄層Ｂは特定の組成式：［Ｔｉ_{1-（Ｃ＋Ｄ）}Ａｌ_ＣＴａ_Ｄ］Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎ層、からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し、特定の組成式：［Ｔｉ_{1-（Ｅ＋Ｆ）}Ａｌ_ＥＴａ_Ｆ］Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）