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Fターム[4K029CA13]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被覆処理方法 (12,489) | 基体にバイアス電位を設定をするもの (996)

Fターム[4K029CA13]に分類される特許

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【課題】プラチナまたはプラチナ合金被膜特有の色調が得られ、へこみや傷等による外観品質の劣化が起きにくく、しかも、高級感のある白色被膜を有する装飾品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の白色被膜を有する装飾品は、金属またはセラミックスからなる装飾品用基材と、該基材表面に形成された下地層と、この表面に乾式メッキ法により形成された炭化チタン層と、この表面に乾式メッキ法で形成されたプラチナまたはプラチナ合金からなる装飾被膜層とで構成される。これにより、上記装飾品は、傷等による外観品質の劣化が起きにくく、しかも、プラチナまたはプラチナ合金被膜特有の色調が得られ、高級感のある白色被膜を有する。 (もっと読む)


【課題】離型性が良好で、耐久性の高い光学素子成形用型の製造方法および光学素子成形用型を提供する。
【解決手段】光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型11の成形面に、中間層14を形成した後、この中間層上にa−C:H膜を含む硬質炭素膜13を形成する。
その際、前記中間層が、炭素を30atom%以上、ケイ素を20atom%以上、酸素を5atom%以上で20atom%以下、水素を5atom%以上で15atom%以下とする元素組成を有する構成とする。 (もっと読む)


【課題】金属基体にNiAl系ボンディングコート及び拡散アルミナイド皮膜を施工する方法の提供
【解決手段】本方法は、外部表面(38)を有する超合金基体を準備する段階と、超合金基体の外部表面(38)を任意選択的に清浄化する(140)段階とを含む。さらに、超合金基体の外部表面の一部分を物理蒸着法によって、堆積NiAl基合金が約6〜25重量パーセントの制御した量のアルミニウムを含みかつさらに該NiAl基合金の堆積アルミニウムレベルがアルミナイジング処理後のアルミニウム最終レベルの約50〜100%であるように制御したNiAl基合金の層で被覆して(160)、被覆外部部分を形成する段階と、その後、超合金基体の被覆外部部分と別の表面とを同時にアルミナイジング処理する(180)段階とを含む。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】窒化ほう素を30〜95質量%含有する超高圧焼結材料製インサートの表面に、硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具において、(a)硬質被覆層は、1.5〜6μmの平均層厚の下部層と0.3〜3μmの平均層厚の上部層とからなり、(b)下部層は、蒸着形成された、組成式:[Ti1−XSi]N(Xは原子比で0.02〜0.1)を満足するTiとSiの複合窒化物層からなり、(c)上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ0.01〜0.3μmの薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、薄層Aは、組成式:[Ti1−XSi]N(Xは原子比で0.02〜0.1)を満足するTiとSiの複合窒化物層、薄層Bは、クロム窒化物(CrN)層からなる。 (もっと読む)


【課題】高反応性被削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆切削工具が、超硬基体あるいはサーメット基体の表面に、(a)いずれも(Ti,Al,Ta,Cr)Nからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は0.5〜1.0μm、前記下部層は2〜6μmの平均層厚をそれぞれ有し、(b)上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ5〜20nm(ナノメ−タ−)の薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、上記薄層A及びBは、特定な組成式を満足する(Ti,Al,Ta,Cr)N層、からなり、(c)上記下部層は、組成式:[Ti1−(X+Y+Z)AlTaCr]N(ただし、原子比で、Xは0.50〜0.60、Yは0.01〜0.09、Zは0.01〜0.10を示す)を満足する(Ti,Al,Ta,Cr)N層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 (もっと読む)


【課題】 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆切削工具が、超硬基体あるいはサーメット基体の表面に、(a)いずれも(Ti,Al,B,Cr)Nからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は0.5〜1.0μm、前記下部層は2〜6μmの平均層厚をそれぞれ有し、(b)上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ5〜20nm(ナノメ−タ−)の薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、上記薄層A及びBは、特定な組成式を満足する(Ti,Al,B,Cr)N層、からなり、(c)上記下部層は、組成式:[Ti1−(X+Y+Z)AlCr]N(ただし、原子比で、Xは0.50〜0.60、Yは0.01〜0.09、Zは0.01〜0.15を示す)を満足する(Ti,Al,B,Cr)N層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 (もっと読む)


【課題】高温環境下であり且つ大きな接触応力が作用するような条件下、又は、高温環境下であり且つ無潤滑下というような厳しい条件下でも好適に使用可能な転動装置を提供する。
【解決手段】アンギュラ玉軸受の玉3はSUJ2で構成されており、玉3の転動面3aには潤滑性を有するDLC層Dが設けられている。DLC層Dは、Cr,W,Ti,Si,Ni,Zr,及びFeのうちの2種以上の金属からなる金属層Mと、前記金属及び炭素からなる複合層Fと、炭素からなるカーボン層Cと、の3層で構成されていて、該3層は表面側からカーボン層C,複合層F,金属層Mの順に配されている。また、複合層F中の炭素の割合は、金属層M側からカーボン層C側に向かって徐々に増加している。さらに、DLC層Dの等価弾性定数は100GPa以上240GPa以下である。さらに、玉3の平均残留オーステナイト量は6体積%以下である。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】窒化ほう素を30〜95質量%含有する超高圧焼結材料製インサートの表面に、硬質被覆層を蒸着形成した切削工具において、(a)硬質被覆層は、1.5〜6μmの平均層厚の下部層と0.3〜3μmの平均層厚の上部層とからなり、(b)下部層は、組成式:[Ti1−XSi]N(Xは原子比で0.01〜0.1)を満足するTiとSiの複合窒化物層からなり、(c)上部層は、一層平均層厚がそれぞれ0.01〜0.3μmの薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、薄層Aは、組成式:[Ti1−XSi]N(Xは原子比で0.01〜0.1)を満足するTiとSiの複合窒化物層、薄層Bは、組成式:[Cr1−YSi]N(Yは原子比で0.01〜0.1)を満足するCrとSiの複合窒化物層からなる。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】窒化ほう素を30〜95質量%含有する超高圧焼結材料製インサートの表面に、硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具において、(a)硬質被覆層は、1.5〜6μmの平均層厚を有する下部層と0.3〜3μmの平均層厚を有する上部層とからなり、(b)下部層は、蒸着形成された組成式:[Ti1−XSi]N(ただし、Xは、原子比で、0.02〜0.1を示す)を満足するTiとSiの複合窒化物層からなり、(c)上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ0.01〜0.3μmの薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、薄層Aは、組成式:[Ti1−XSi]N(ただし、Xは、原子比で、0.02〜0.1を示す)を満足するTiとSiの複合窒化物層、薄層Bは、チタン窒化物(TiN)層からなる。 (もっと読む)


【課題】難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピングを発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬基体あるいはサーメット基体の表面に、いずれも(Ti,Al,V,Cr)Nからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は0.5〜1.0μm、前記下部層は2〜6μmの平均層厚をそれぞれ有し、上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ5〜20nm(ナノメ−タ−)の薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、上記薄層Aは、特定の組成式:[Ti1−(A+B+C)AlCr]Nを満足する(Ti,Al,V,Cr)N層、上記薄層Bは、特定の組成式:[Ti1−(P+Q+R)AlCr]Nを満足する(Ti,Al,V,Cr)N層、からなり、上記下部層は、特定の組成式:[Ti1−(X+Y+Z)AlCr]Nを満足する(Ti,Al,V,Cr)N層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬基体あるいはサーメット基体の表面に、(Ti,Al,Si,Cr)Nからなる上部層と下部層で構成し、上部層は0.5〜1.0μm、下部層は2〜6μmの平均層厚をそれぞれ有し、上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ5〜20nm(ナノメ−タ−)の薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、上記薄層Aは、特定の組成式:[Ti1−(A+B+C)AlSiCr]Nを満足する(Ti,Al,Si,Cr)N層、上記薄層Bは、特定の組成式:[Ti1−(P+Q+R)AlSiCr]Nを満足する(Ti,Al,Si,Cr)N層、からなり、下部層は、単一相構造を有し、特定の組成式:[Ti1−(X+Y+Z)AlSiCr]Nを満足する(Ti,Al,Si,Cr)N層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 (もっと読む)


【課題】難削材の重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットからなる工具基体の表面に、(a)1〜5μmの平均層厚を有し、かつ、組成式:(Ti1−X−YAlCr)N(ただし、原子比で、Xは0.30〜0.70、Yは0.01〜0.15を示す)を満足するTiとAlとCrの複合窒化物層からなる下部層、(b)0.1〜1.5μmの平均層厚を有する窒化バナジウム層からなる層間密着層、(c)それぞれ0.1〜1μmの一層平均層厚を有する窒化バナジウム層と酸化バナジウム層の交互積層構造からなり、かつ、1〜5μmの全体平均層厚を有する上部層、以上(a)〜(c)で構成された硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】難削材の重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットからなる工具基体の表面に、(a)1〜5μmの平均層厚を有し、かつ、組成式:(Ti1−X−Y−ZAlSiCr)N(ただし、原子比で、Xは0.30〜0.70、Yは0.01〜0.10、Zは0.01〜0.15を示す)を満足するTiとAlとSiとCrの複合窒化物層からなる下部層、(b)0.1〜1.5μmの平均層厚を有する窒化バナジウム層からなる層間密着層、(c)それぞれ0.1〜1μmの一層平均層厚を有する窒化バナジウム層と酸化バナジウム層の交互積層構造からなり、かつ、1〜5μmの全体平均層厚を有する上部層、以上(a)〜(c)で構成された硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】窒化ほう素を30〜95質量%含有する超高圧焼結材料製インサートの表面に、硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具において、(a)硬質被覆層は、1.5〜6μmの平均層厚を有する下部層と0.3〜3μmの平均層厚を有する上部層とからなり、(b)下部層は、蒸着形成された組成式:[Cr1−XSi]N(ただし、Xは、原子比で、0.02〜0.1を示す)を満足するCrとSiの複合窒化物層からなり、(c)上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ0.01〜0.3μmの薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、薄層Aは、組成式:[Cr1−XSi]N(ただし、Xは、原子比で、0.02〜0.1を示す)を満足するCrとSiの複合窒化物層、薄層Bは、クロム窒化物(CrN)層からなる。 (もっと読む)


【課題】
高速度切削、高送り切削、被削材の高硬度化などの厳しい切削加工条件において長寿命を実現できる切削工具用の被覆部材を提供する。
【解決手段】
基材の表面に被膜を被覆した被覆部材において、被膜は、基材に接して被覆された平均膜厚0.001〜0.1μmのMNx(但し、MはTi、V、Cr、Mn、Ta、Mo、W、Y、Zr、Nb、Ni、Alの中の少なくとも1種を示し、xはMに対するNの原子比を示し、xは0.10≦x≦0.90を満足する。)で表される窒素拡散膜と、窒素拡散膜に接して被覆された表面膜と、からなる被覆部材。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】窒化ほう素を30〜95質量%含有する超高圧焼結材料製インサートの表面に、硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具において、(a)硬質被覆層は、1.5〜6μmの平均層厚を有する下部層と0.3〜3μmの平均層厚を有する上部層とからなり、(b)下部層は、CrとSiの複合窒化物層からなり、(c)上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ0.01〜0.3μmの薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、薄層A及び薄層Bは、特定な組成式を満足するCrとSiの複合窒化物層及びTiとSiの複合窒化物層からなる。 (もっと読む)


【課題】高硬度と適度な靭性を有しながら、クラック進展を抑制する効果、低摩擦係数、耐凝着性に有効な非晶質カーボン被覆切削工具、及び非晶質カーボン皮膜の製造方法を提供する。
【解決手段】非晶質カーボン皮膜を被覆した非晶質カーボン被覆切削工具において、該非晶質カーボン皮膜は、B、Cl、S、P、F、O、Nの少なくとも1種以上の元素を含有し、該元素の含有量は、原子%で、0.01%以上、25%以下であることを特徴とする非晶質カーボン被覆切削工具及びその製造方法である。 (もっと読む)


【課題】CrNを主成分とした硬質のイオンプレーティング皮膜を外周摺動面に有するピストンリングは初期馴染み性に劣り実機エンジンに於いて初期のB/Bが多い。初期馴染み性に優れた異種の皮膜を外周面に設けると製造コストの増大を招く。
【解決手段】ピストンリング外周摺動面にCrNを主成分とした緻密質でなるイオンプレーティング法で形成した内層部とCrNを主成分としポーラスであなるイオンプレーティング法で形成した表層部からなる2層のイオンプレーティング皮膜を形成することによって、初期馴染み性に優れ且つ耐摩耗性に優れたピストンリングを安価に製造することが出来る。 (もっと読む)


【課題】TaN膜を反応性スパッタ法で形成する際に、その膜厚の面内均一性をより一層高めることを可能にした半導体デバイス用高純度Ta材の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体デバイス用高純度Ta材の製造方法は、高純度Taインゴットに対して2軸以上の方向から鍛造を行う工程と、鍛造工程の途中で2回以上の真空熱処理を行う工程と、鍛造工程および真空熱処理工程を経たTa材に冷間圧延を施す工程と、冷間圧延工程を経たTa材に再結晶化熱処理を施す工程とを具備する。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性が優れると同時に耐焼付性も優れ、かつ相手攻撃性も小さく、しかも摩擦係数も小さい摺動部材を提供する。
【解決手段】第1基材11及び第1基材11上に形成された第1摺動層12を有する第1部材(シフトフォーク)1と、第2基材21及び第2基材21上に形成され第1摺動層12と摺動する第2摺動層22を有する第2部材(ハブスリーブ)とからなる。第1摺動層12は硫化鉄層、リン酸マンガン層、c−BN層又はAgめっき層であり、第2摺動層22はダイヤモンドライクカーボン層である。 (もっと読む)


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