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Fターム[4K029CA13]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被覆処理方法 (12,489) | 基体にバイアス電位を設定をするもの (996)

Fターム[4K029CA13]に分類される特許

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【課題】 難削材の切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットからなる超硬基体の表面に、(a)1〜5μmの平均層厚を有し、かつ、組成式:(Ti1-(X+Y)AlX)N(ただし、原子比で、Xは0.30〜0.70、Yは0.01〜0.10を示す)を満足する(Ti,Al,B)N層からなる下部層、(b)0.1〜1.5μmの平均層厚を有する窒化バナジウム層からなる層間密着層、(c)1〜5μmの平均層厚を有し、かつVO(酸化バナジウム)の素地に、前記VOとの合量に占める割合で、0.5〜7原子%の金属Vが分散分布した組織を有するV分散VO層からなる上部層、以上(a)〜(c)で構成された硬質被覆層を形成してなる。 (もっと読む)


【課題】 難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、超硬合金またはサーメットからなる基体の表面に、(a)1〜5μmの平均層厚を有し、Al最高含有点と最低含有点とが交互に繰り返し、かつAl最高含有点から最低含有点及び逆方向へAlおよびTi含有量がそれぞれ連続的に変化し、さらに、上記Al最高含有点及び最低含有点が、特定な組成式を満足し、かつ隣り合う上記Al最高含有点と最低含有点の間隔が、0.01〜0.1μmである(Ti,Al,Si)N層からなる下部層、(b)0.1〜1.5μmの平均層厚を有する窒化バナジウム層からなる層間密着層、(c)1〜5μmの平均層厚を有し、かつVO(酸化バナジウム)の素地に、金属Vが分散分布した組織をの上部層で構成された硬質被覆層を形成してなる。 (もっと読む)


【課題】難削材の重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆超硬合金製切削工具が、超硬合金またはサーメットからなる基体の表面に、(a)0.5〜2μmの平均層厚を有し、かつ、特定な組成式を満足する(Ti,Al)N層からなる基体密着層、(b)1〜5μmの平均層厚を有し、かつ、組成式:(Ti1-(X+Y+Z)AlXSi)N(ただし、原子比で、X:0.40〜0.65、Y:0.01〜0.15、Z:0.01〜0.15、Y+Z:0.20以下、を示す)を満足する(Ti,Al,Si,B)N層からなる下部層、(c)0.1〜1.5μmの平均層厚を有する窒化バナジウム層からなる層間密着層、(d)1〜5μmの平均層厚を有する酸化バナジウム層からなる上部層、以上(a)〜(d)で構成された硬質被覆層を形成してなる。 (もっと読む)


【課題】 合金鋼の高速歯切加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製歯切工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製歯切工具が、炭化タングステン基超硬合金製歯切工具基体の表面に、(a)いずれも(Cr,Al,B)Nからなる上部層と下部層で構成し、上部層は0.5〜1.5μm、下部層は2〜6μmの平均層厚をそれぞれ有し、(b)上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ5〜20nm(ナノメ−タ−)の薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、薄層A及び薄層Bは、特定の組成式を満足する(Cr,Al,B)N層からなり、(c)下部層は、単一相構造を有し、特定の組成式を満足する(Cr,Al,B)N層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 (もっと読む)


【課題】難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】超硬基体の表面に、(a)1〜15μmの平均層厚を有し、かつ、層厚方向にそって、Al最高含有点とAl最低含有点とが所定間隔をおいて交互に繰り返し存在し、かつ前記Al最高含有点からAl最低含有点、前記Al最低含有点からAl最高含有点へAlおよびTi含有量がそれぞれ連続的に変化する成分濃度分布構造を有し、さらに、上記Al最高含有点およびAl最低含有点が、特定の組成式を満足し、かつ、隣り合う上記Al最高含有点とAl最低含有点の間隔が、0.01〜0.1μmである(Al,Ti)N層、からなる下部層、(b)0.1〜1.5μmの平均層厚を有する窒化バナジウム層からなる層間密着層、(c)1〜5μmの平均層厚を有する酸化バナジウム層からなる上部層で構成された硬質被覆層を形成してなる。 (もっと読む)


【課題】 摺動性に優れたTiN系硬質被膜、及びそれを含む表面硬化材を提供する。
【解決手段】 B,Si,Vの群から選ばれる少なくとも1種を含むTiN結晶からなる被膜であって、被膜の表面に垂直な軸を基準としたとき、TiN結晶における(111)面の割合が(200)面の割合の5倍以上である。 (もっと読む)


【課題】難削材の切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、基体の表面に、(a)1〜5μmの平均層厚を有し、かつ、層厚方向にそって、Al最高含有点と最低含有点とが所定間隔をおいて交互に繰り返し存在し、かつ前記Al最高含有点から最低含有点、前記Al最低含有点から最高含有点へAlおよびTi含有量がそれぞれ連続的に変化する成分濃度分布構造を有し、さらに、上記Al最高含有点及び最低含有点が、特定な組成式を満足し、かつ隣り合う上記Al最高含有点とAl最低含有点の間隔が、0.01〜0.1μmである(Ti,Al,B)N層からなる下部層、(b)0.1〜1.5μmの平均層厚を有する窒化バナジウム層からなる層間密着層、(c)1〜5μmの平均層厚を有する酸化バナジウム層からなる上部層で構成された硬質被覆層を形成してなる。 (もっと読む)


【課題】 難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 超硬基体の表面に、(a)1〜5μmの平均層厚を有し、かつ、層厚方向にそって、Al最高含有点と最低含有点とが所定間隔をおいて交互に繰り返し存在し、かつ前記Al最高含有点から最低含有点、前記Al最低含有点から最高含有点へAl及びTi含有量がそれぞれ連続的に変化する成分濃度分布構造を有し、さらに、Al最高含有点及び最低含有点が、特定の組成式を満足する(Ti,Al,B)N層からなる下部層、(b)0.1〜1.5μmの平均層厚を有するCrN層からなる密着接合層、(c)1〜5μmの平均層厚を有し、かつCrの素地に、前記Crとの合量に占める割合で0.1〜5原子%の金属Crが分散分布した組織を有するCr分散Cr層からなる上部層で構成された硬質被覆層を形成してなる。 (もっと読む)


【課題】 非導電性のディスク基体を用いた磁気記録媒体を高い量産性で製造する。
【解決手段】 ハードディスクドライブに搭載される磁気記録媒体の製造方法であって、非導電性のディスク基体12を準備する準備工程と、回転可能な台部202と、台部202に設けられた保持部204と、バイアス印加用端子206とを備える基板アダプタ102を用いて、バイアス印加用端子206をディスク基体12に接触させない状態で、保持部204にディスク基体12を保持させる保持工程と、ディスク基体12上に導電性膜を成膜する第1成膜工程と、台部202を回転させることにより、ディスク基体12にバイアス印加用端子206を接触させる接触工程と、バイアス印加用端子206を介してバイアス電圧を印加しつつ、次の層を成膜する第2成膜工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】合金鋼の高速歯切加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆高速度工具鋼製歯切工具を提供する。
【解決手段】表面被覆高速度工具鋼製歯切工具が、高速度工具鋼基体の表面に、(a)いずれも(Ti,Al,B)Nからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は0.5〜1.5μm、前記下部層は2〜6μmの平均層厚をそれぞれ有し、(b)上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ5〜20nmの薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、上記薄層Aは、組成式:[Ti1-(E+F)Al]Nを満足する(Ti,Al,B)N層、上記薄層Bは、組成式:[Ti1-(M+N)Al]Nを満足する(Ti,Al,B)N層、からなり、(c)上記下部層は、単一相構造を有し、組成式:[Ti1-(X+Y)Al]Nを満足する(Ti,Al,B)N層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗皮膜と潤滑性皮膜を兼ね備え、両者の密着強度が極めて優れる耐摩耗皮膜を提供する。
【解決手段】物理蒸着法によって該基材にA層とB層とからなり耐摩耗皮膜が被覆され、該A層は、金属元素としてTi、Cr、Al、Si、Nbのうちの少なくとも1種又は2種以上より選択された元素と、非金属元素としてNを含みC、O、Bのうち1種又は2種以上より選択された元素から構成され、N、C、O、Bを原子%で100とした時、Nを60原子%以上含有するとともに結晶構造がfcc構造を有し、該B層は、該A層の直上に接する潤滑性皮膜であり、該A層と該B層との界面から該A層の膜厚方向に500nm未満の領域における結晶粒径の平均値が、19nm以上、62nm以下であることを特徴とする多層皮膜被覆切削工具である。 (もっと読む)


【課題】合金鋼の高速歯切加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆高速度工具鋼製歯切工具を提供する。
【解決手段】表面被覆高速度工具鋼製歯切工具が、高速度工具鋼基体の表面に、(a)いずれも(Ti,Al,Cr)Nからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は0.5〜1.5μm、前記下部層は2〜6μmの層厚をそれぞれ有し、(b)上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ5〜20nmの薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、上記薄層Aは、組成式:[Ti1-(A+B)AlCr]Nを満足する(Ti,Al,Cr)N層、上記薄層Bは、組成式:[Ti1-(C+D)AlCr]Nを満足する(Ti,Al,Cr)N層、からなり、(c)上記下部層は、単一相構造を有し、組成式:[Ti1-(E+F)AlCr]Nを満足する(Ti,Al,Cr)N層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 (もっと読む)


【課題】配線と配線を接続する接続部のバリア膜の構造を最適化し、エレクトロマイグレーション特性を向上させる。
【解決手段】半導体基板上の第1層配線M1上に形成された層間絶縁膜TH2中に配線溝HM2およびコンタクトホールC2を形成した後、これらの内部にバリア膜PM2aを、コンタクトホールC2の底部の全周に渡ってコンタクトホールC2の底部の中央部から側壁に向かってその膜厚が増加するよう形成し、このバリア膜PM2a上に銅膜(PM2b、PM2c)を形成した後、CMP法により研磨することにより第2層配線M2と接続部(プラグ)P2を形成する。その結果、接続部(プラグ)P2を介して第2層配線M2から第1層配線M1へ流れる電流の幾何学的な最短経路と、電気的に抵抗が最小となるバリア膜PM2aの薄い部分が一致せず、電流経路を分散することができ、電子の集中を起こりにくくできる。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆切削工具が、超硬基体の表面に、あるいは、高速度工具鋼基体の表面に、(a)いずれも(Cr,Al,Zr)Nからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は0.5〜1.5μm、前記下部層は2〜6μmの平均層厚をそれぞれ有し、(b)上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ5〜20nm(ナノメ−タ−)の薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、上記薄層A、Bは、特定な組成式を満足する(Cr,Al,Zr)N層、からなり、(c)上記下部層は、単一相構造を有し、組成式:[Cr1-(X+Z)AlZr]N(ただし、原子比で、Xは0.50〜0.65、Zは0.01〜0.10を示す)を満足する(Cr,Al,Zr)N層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 (もっと読む)


【課題】 高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬基体の表面に、あるいは、高速度工具鋼基体の表面に、(a)いずれも(Ti,Al,Zr)Nからなる上部層と下部層で構成し、上部層は0.5〜1.5μm、下部層は2〜6μmの平均層厚をそれぞれ有し、(b)上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ5〜20nmの薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、薄層A及び薄層Bは各々、特定の組成式を満足する(Ti,Al,Zr)N層、からなり、(c)下部層は、単一相構造を有し特定の組成式を満足する(Ti,Al,Zr)N層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 (もっと読む)


【課題】Al及びCrを必須成分とした硬質皮膜に、潤滑性に優れた皮膜を組み合わせることで特に潤滑特性の改善を行い、耐溶着性も併せ持った硬質皮膜被覆部材を提供することである。
【解決手段】基体表面から、最下層、中間積層部、最上層とからなる硬質皮膜被覆部材において、該中間積層部は、金属成分の組成が(AlCrTiSi)、但し、組成は原子%で、W+X+Y+Z=100、の窒化物、ホウ化物、炭化物及び酸化物の何れか又はそれらの固溶体又は混合物からなるA層とB層とが、A層は70<W+X<100、B層は30<Y<100で、層厚方向に交互に積層され、該最上層は、Cr又はCrとSiの窒化物、炭化物、硫化物、硼化物の何れか又はそれらの固溶体又は混合物であることを特徴とする硬質皮膜被覆部材である。 (もっと読む)


【課題】基材と被膜を含む切削工具インサート、ソリッドエンドミル又はドリルを提供する。
【解決手段】被膜は、耐火化合物の1つ又は複数の層から構成され、該耐火化合物の少なくとも1つの層は立方晶の(Me,Si)X相を含み、式中、Meは元素Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta及びAlのうちの1つ又は複数であり、Xは元素N、C、O又はBのうちの1つ又は複数である。c−MeSiX相の比R(Xの割合/Meの割合)は0.5〜1.0であり、XはO+Bを30原子%よりも少ない量で含む。本発明は、切りくず厚さが小さく、被削材が硬質である金属機械加工用途、例えば、ソリッドエンドミルを用いた倣いフライス削り、インサートフライス又は硬化鋼のボーリングにおいて特に有用である。 (もっと読む)


【課題】被覆部材のSiを含有した粒子状付着物を制限し、基体と皮膜との密着性、潤滑特性を改善する。
【解決手段】物理蒸着により皮膜を被覆した被覆部材であって、該皮膜が金属元素としてSiを含有した化合物であり、該皮膜表面のSiを含有した粒子状付着物の面積率は、直径が0.1μm以上の該粒子状付着物につき、該皮膜表面の任意に選択される1000μmの範囲内に5%以下であり、該皮膜表面の該粒子状付着物の数は、直径が0.1μm以上の該粒子状付着物につき、該皮膜表面の任意に選択される1000μmの範囲内に100個未満であることを特徴とする被覆部材である。 (もっと読む)


【課題】 膜の密着強度を確保すると共に、表面硬さを低下させることなく、耐摩耗性及び低摩擦特性などの摺動特性を向上することができる硬質炭素薄膜及びその薄膜の製造方法と提供する。
【解決手段】 表面硬さがHv1500以上であり、表面粗さが中心線平均粗さRa0.01〜0.02となるように、表面に複数の微小突起を形成させた硬質炭素薄膜であって、この微小突起は、硬質炭素薄膜の表層内部に空孔を有するように、表層の一部を屈曲させた突起であり、硬質炭素薄膜の前記表面を摺動させたときに、硬質炭素薄膜から脱落可能に形成されてなる。 (もっと読む)


【課題】 硬質被膜の耐熱性および耐摩耗性を更に向上させる。
【解決手段】 エンドミル10の工具母材12の表面を被覆している硬質積層被膜20は、TiAlCrX1-a a (但し、Xは炭素または酸素で、混晶比aは0.5≦a≦1)から成る第1被膜層22と、TiAlCrX1-b b (但し、混晶比bは0.5≦b≦1)およびTiAl(SiC)X1-c c (但し、混晶比cは0.5≦c≦1)の混合層から成る第2被膜層24と、TiAl(SiC)X1-d d (但し、混晶比dは0.5≦d≦1)から成る第3被膜層26とから構成されている。 (もっと読む)


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