【課題】 基材との密着性に優れ、高硬度で耐摩耗性に優れた水素含有量が５ａｔ％以下の非晶質硬質炭素皮膜を有する摺動部材を提供する。
【解決手段】 基材と、基材表面に形成された中間層と、中間層表面に形成され炭素を主成分とし水素含有量が５ａｔ％以下の非晶質硬質炭素皮膜とを有し、中間層の酸素濃度が表面側から中間層内部に向かって増加し、かつ炭素濃度が表面側から中間層内部に向かって減少している。 （もっと読む）

【課題】 基板全体に広範にバイアス電圧を印加することができるとともに、不純物の発生及び成膜装置用基板台の減耗を防止することができる、成膜装置用基板台、成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】 絶縁体で構成され、基板が保持される保持面を有する保持台１と、保持台１の保持面に露出して配置された電極片２と、保持台１内を貫通して、電極片２に接続された導体９と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｃｒ，Ａｌ，Ｂ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの平均層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａ及びＢは、特定な組成式を満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層、からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し、組成式：［Ｃｒ_{1-（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＢ_Ｙ］Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．５０〜０．７０、Ｙは０．００５〜０．０５を示す）を満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 高反応性被削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】超硬基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｔｉ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の層厚を有する薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａは特定の組成式：［Ｔｉ_{1-（Ａ＋Ｂ）}Ａｌ_ＡＴａ_Ｂ］Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎ層、上記薄層Ｂは特定の組成式：［Ｔｉ_{1-（Ｃ＋Ｄ）}Ａｌ_ＣＴａ_Ｄ］Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎ層、からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し、特定の組成式：［Ｔｉ_{1-（Ｅ＋Ｆ）}Ａｌ_ＥＴａ_Ｆ］Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｔｉ，Ａｌ，Ｂ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの平均層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａ及びＢは、特定な組成式を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層、からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し、組成式：［Ｔｉ_{1-（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＢ_Ｙ］Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．５０〜０．６０、Ｙは０．０１〜０．１０を示す）を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｔｉ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の層厚を有する薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａ、Ｂは、それぞれ特定な組成式からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し、組成式：［Ｔｉ_{1-（Ｅ＋Ｆ）}Ａｌ_ＥＳｉ_Ｆ］Ｎ（ただし、原子比で、Ｅは０．５０〜０．６０、Ｆは０．０１〜０．０９を示す）を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

多層の耐粘着性セラミックコーティングを有する調理器具物品。本発明の調理器具物品は、内側の食品接触表面（３１０）と外側表面（３１５）を有する金属調理器具物品（３０５）；その食品接触表面上に堆積された接着層（３２０）；およびその接着層に隣接して堆積された（Ti,Al,Cr）Nの第一層（３２５）を含む。随意に、第一（Ti,Al,Cr）N層に隣接して堆積された窒化クロムの層（３３０）、およびその窒化クロム層上に堆積された（Ti,Al,Cr）Nの第二層が存在する。これらの層は所望とされるとおりの多数の回数反復することができる。（Ti,Al,Cr）N層は一般に多層コーティングの上層である。コーティングは耐粘着性、耐引掻き性、熱安定性、耐腐食性および色安定性である。この調理器具は塩味および酸味系の両食品と共に使用するのに適している。このような調理器具物品を製造する方法も開示される。
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【課題】背景技術による内包フラーレンの製造方法では、真空容器中で堆積基板に直流のバイアス電圧を印加して内包原子からなるイオンを含むプラズマを堆積基板に向けて照射し、同時にフラーレン蒸気を堆積基板に向けて噴射していた。そのため、堆積時間が長くなると堆積膜がイオンの電荷によりチャージアップし、堆積膜の剥離が起きるという問題があった。
【解決手段】堆積基板に正と負のバイアス電圧を交互に印加することにした。イオンに加速エネルギーを与える状態と堆積膜のチャージを中和する状態を交互に繰り返すことにより、堆積膜に過度のチャージが蓄積しないので、堆積膜の剥離を防止できる。 （もっと読む）

【課題】薄い最外層の干渉色層を備えた被覆切削工具インサートを提供する。
【解決手段】本発明は、超硬合金、サーメットまたはセラミックまたは高速度鋼、或いは立方晶窒化ボロンまたはダイアモンドのような超硬質材料のボディより成る切削インサートに関し、前記ボディが0．5ミクロン未満の厚さで、最外層の非酸化物発色層（周期律表の第一Ｖ，ＶまたはＶ１族の複数金属ＡＩ、Ｓｉ及びＢまたはそれらの混合物）を含む硬質で摩耗性の被膜を備え、それによって前記色は干渉によって作り出される。 （もっと読む）

【課題】 高温時の耐酸化性に優れるとともに、靭性にも優れかつ被膜の層間剥離を生じることがない被膜を有する表面被覆切削工具およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 基材と、基材上に形成された被膜とを備える表面被覆切削工具であって、被膜は、化学蒸着法により形成される第１被膜と物理蒸着法により形成される第２被膜とを含み、第１被膜は、基材と第２被膜との間に位置するものであって、α型酸化アルミニウムを含むものであり、かつセラミック粒子を用いて機械的衝撃を与える処理によって付与された圧縮残留応力を有し、第２被膜は、周期律表のＩＶａ族元素、Ｖａ族元素、ＶＩａ族元素、Ａｌ、およびＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素と、炭素、窒素、酸素、および硼素からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素とからなる化合物のよりなる少なくとも一層によって構成されるものであり、かつ圧縮残留応力を有する。 （もっと読む）

【課題】 高温時の耐酸化性に優れるとともに、靭性にも優れかつ被膜の層間剥離を生じることがない被膜を有する表面被覆切削工具およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 被膜は、化学蒸着法により形成される第１被膜と物理蒸着法により形成される第２被膜および第３被膜とを含み、第１被膜は、基材１と第２被膜との間に位置するものであって、α型酸化アルミニウムを少なくとも一層含むものであり、かつ圧縮残留応力を有し、第２被膜は、周期律表のＩＶａ族元素、Ｖａ族元素、ＶＩａ族元素、Ａｌ、およびＳｉからなる群から選ばれる少なくとも１種の元素の化合物よりなり、かつ圧縮残留応力を有し、第３被膜は、第１被膜と第２被膜との間に位置するものであって、α型酸化アルミニウム、γ型酸化アルミニウムまたは非晶質酸化アルミニウムによって構成されるものであることを特徴とする表面被覆切削工具が提供される。 （もっと読む）

【課題】 切削工具の刃先における欠損や基材の酸化を防止し、かつ、優れた切削性能を発揮する被覆層を備えた表面被覆切削工具およびその製造方法を提供すること
【解決手段】 基材と、該基材の表面上に積層形成された被覆膜とを備える表面被覆切削工具であって、前記被覆膜は、基材直上に形成されるＴｉ_ａＳｉ_ｂ（ただし、０＜ｂ＜０．３，ａ＋ｂ＝１）の窒化物からなるＡ層と、該Ａ層直上に形成されるＡｌ_ｃＴｉ_ｄＭ_ｅ（ただし、０．４＜ｃ＜０．７５、０＜ｅ＜０．３、ｃ＋ｄ＋ｅ＝１）（該ＭはＳｉ，Ｃｒ，Ｖ，Ｙ，Ｚｒ，Ｂ，Ｚｎ，ＭｏおよびＭｎからなる群より選択される元素の一種以上）の窒化物、炭窒化物、窒酸化物または炭窒化物からなるＢ層と、該Ｂ層直上に形成されるＴｉ_ｆＳｉ_ｇ（ただし、０＜ｇ＜０．３、ｆ＋ｇ＝１）の炭窒化物からなるＣ層とからなることを特徴とする表面被覆切削工具が提供される。 （もっと読む）

【課題】 すべり軸受の裏金の背面とハウジングの内面との間が微小摺動することにより生じる、フレッティング摩耗を低減する手段を提供する。
【解決手段】 ハウジングに収納され、回転軸を支持するすべり軸受において、前記ハウジング及びすべり軸の双方又は片方の接触面に、ドロップレットを含むアモルファス状カーボンの被覆層を生成する。 （もっと読む）

【課題】 金属製管状体の材質であるステンレス鋼管状体の接合部を加熱することなく、低温で一体化させる技術を提供する。
【解決手段】 本発明の金属製管状体は、内径1.0ｍｍ以下の金属製管状体の表面にチタンまたはアルミニウムの窒化物、炭化物、酸化物およびこれらの複合化合物の少なくともいずれか一つを含む皮膜を物理蒸着法により形成することを特徴とする。
この結果、本発明の金属製管状体は、ステンレス鋼管状体の接合部だけでなく、管状体全体を低温で皮膜が形成でき、管状体の熱変形は小さく、歪ができない。また、密着性に優れ、しかも高密度であるため、液体が接合部から漏れ出ることがない。 （もっと読む）

【課題】剥離がなく耐スパッタ性の高い保護膜を実現し高輝度で長寿命なＰＤＰを提供する。
【解決手段】前面ガラス基板１１上に表示電極１２と誘電体層１３と第一の保護膜１４と第二の保護膜１５とを備えた前面板１０と、背面ガラス基板２１上にアドレス電極２２と下地誘電体層２３と隔壁２４と蛍光体層２５とを備えた背面板２０とが、放電空間３０を介して対向配置され、第一の保護膜１４の膜密度と第二の保護膜１５の膜密度とを異ならせている。 （もっと読む）

【課題】処理物である基板の表面に、密着性の良好な、高品質で均一な硬質膜を量産的に形成するためのアーク式イオンプレーティング装置を提供。
【解決手段】真空容器１の中に設けられた、回転式装着用治具８に保持された基材９の１側に向かって真空容器１の内側のアーク式蒸発源６に取り付けられた陰極を構成するターゲット10、真空容器１に対して基材９に負のバイアス電圧を印加する第１の直流のバイアス電源12、基材９を挟むように基材９の他側に向けて真空容器１内上部に取り付けられた圧力勾配型プラズマ電子銃２、及び真空容器１内に配置したアノード16に対して圧力勾配型プラズマ電子銃２に負のバイアス電圧を印加する直流電源15、を有する。 （もっと読む）

【課題】 高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_1-XＡｌ_X）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４０〜０．７５を満足する（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．１〜０．５μｍの平均層厚を有するＣｒＮ層からなる密着接合層、（ｃ）０．８〜５μｍの平均層厚を有するＣｒＢ_２層からなる上部層、以上（ａ）〜（ｃ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ処理の際に生じるドロップレットや飛散粒子の被処理体への到達を抑えることができる表面処理装置及びそれによって表面処理される光学素子成形用型を提供すること。
【解決手段】 表面処理装置１は、真空チャンバ２と、陰極とされるターゲット３と、ターゲット３から離間して配され、ターゲット３との間に形成される空間にアーク放電を誘起するアーク電極（陽極部）５とを有し、アーク放電によって生じるターゲットイオンを含むプラズマ６をターゲット３の先端方向に放出する蒸着源７と、光学素子成形用型母材（被処理体）８を載置する支持台１０と、蒸着源７から放出されるプラズマ６の進行方向を支持台１０の中心軸線Ｃ方向に変える偏向部１１と、支持台１０表面をターゲット３に対して回転移動させる移動部１２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 高反応性被削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_１−ＸＡｌ_X）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４５〜０．７５を示す）を満足する（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．８〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｗ_1-ＹＴａ_Ｙ）Ｂ（ただし、原子比で、Ｙは０．１０〜０．４０を示す）を満足するＷとＴａの複合硼化物層からなる上部層、以上（ａ）および（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

本発明によれば、パルスｄｃ物理気相堆積プロセスによるＬｉＣｏＯ_２層の堆積が提供される。そのような堆積により、所望の＜１０１＞配向または＜００３＞配向を有するＬｉＣｏＯ_２の結晶性層の低温高堆積速度堆積を提供することが可能である。堆積のいくつかの実施形態は、固体再充電可能Ｌｉ電池のカソード層として利用しうるＬｉＣｏＯ_２膜の高速度堆積の必要性に対処するものである。本発明に係るプロセスの実施形態によれば、ＬｉＣｏＯ_２層を結晶化させるために慣例的に必要とされる高温（＞７００℃）アニール工程を省略することが可能である。本プロセスのいくつかの実施形態によれば、短時間のランプ速度の急速熱アニールプロセスを利用することにより、ＬｉＣｏＯ_２層を利用する電池を改良することが可能である。
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