【課題】耐摩耗性が優れると同時に耐焼付性も優れ、かつ相手攻撃性も小さく、しかも摩擦係数も小さい摺動部材を提供する。
【解決手段】第１基材１１及び第１基材１１上に形成された第１摺動層１２を有する第１部材（シフトフォーク）１と、第２基材２１及び第２基材２１上に形成され第１摺動層１２と摺動する第２摺動層２２を有する第２部材（ハブスリーブ）とからなる。第１摺動層１２は硫化鉄層、リン酸マンガン層、ｃ−ＢＮ層又はＡｇめっき層であり、第２摺動層２２はダイヤモンドライクカーボン層である。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性に優れ、且つ高温での強度、靭性が高い硬質皮膜を被覆した被覆部材を提供することである。
【解決手段】基材表面に硬質皮膜を少なくとも１層以上被覆した被覆部材であって、該硬質皮膜は、（ＡｌｘＳｉｙＭｅ１−ｘ−ｙ）の窒化物、炭化物、硼化物、酸化物、硫化物から選択される１種以上もしくはこれらの固溶体からなり、但し、ＭｅはＮｂ、Ｃｒ、Ｔｉから選択される１種以上、但しｘ、ｙは原子比で、ｘ＞０、ｙ＞０．１、ｘ＋ｙが０．４０以上、０．９５未満からなり、該硬質皮膜の結晶粒子内部のＡｌ含有量をＡ、結晶粒子界面のＡｌ含有量をＢとしたとき、Ｂ／Ａ値が、Ｂ／Ａ＞１を満足することを特徴とする被覆部材である。 （もっと読む）

【課題】ＴａＮ膜を反応性スパッタ法で形成する際に、その膜厚の面内均一性をより一層高めることを可能にした半導体デバイス用高純度Ｔａ材を提供する。
【解決手段】半導体デバイス用高純度Ｔａ材は、ビッカース硬さがHv70〜150の範囲であると共に、そのばらつきが20％以下とされている。半導体デバイス用高純度Ｔａ材は、スパッタリングターゲットの形成素材として用いられる。 （もっと読む）

【課題】高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆切削工具が、超硬基体の表面に、あるいは、高速度工具鋼基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｔｉ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの平均層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａ、Ｂは、それぞれ特定な組成式を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し、組成式：［Ｔｉ_{1-（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＳｉ_Ｙ］Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．５０〜０．６５、Ｙは０．０１〜０．１０を示す）を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる母材とダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）皮膜などの硬質皮膜との密着性が良好な硬質皮膜被覆部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる母材２０の表面を処理して、母材２０の最大表面粗さを３μｍ以下にした後、処理装置１０の真空処理室１２内において、ターゲット２２としてクロムターゲットを使用してスパッタリングすることにより、母材２０上にクロム皮膜を介して窒素含有クロム皮膜を形成し、その後、表面の硬質皮膜としてＤＬＣ皮膜を形成する場合には、ターゲット２２としてカーボンターゲットを使用してスパッタリングすることにより、窒素含有クロム皮膜上にＤＬＣ皮膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】低摩擦係数を有し、高密着性で、耐摩耗性のＤＬＣ及びその製造方法を提供する。また、低摩擦係数で、耐摩耗性及び密着性に優れた保護膜を有する摺動部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】固体カーボンターゲットを使用せず、金属ターゲットのみをアーク放電で昇華させつつ炭化水素ガスを導入し、金属及び炭化水素をイオン化して基材上に形成されたことを特徴とする金属複合ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）皮膜。 （もっと読む）

【課題】 方向性及び無方向性のプロセス・ステップを統合し、その結果、得られるシリサイドが最小限のシート抵抗を有し、かつパイプ欠陥を回避する、ニッケル堆積プロセス及びツールを提供すること。
【解決手段】 無方向性及び方向性の金属（例えば、Ｎｉ）堆積ステップが同一のプロセス・チャンバ内で実行される、方法及び装置が提供される。第１のプラズマは、ターゲットから材料を取り出すために形成され、材料のイオン密度を増大させる第２のプラズマは、ＲＦ発生器に接続された環状電極（例えば、Ｎｉ環）の内側に形成される。材料は、第２のプラズマ及び基板への電気的バイアスが存在しない場合、基板上に無方向性の堆積をされ、第２のプラズマが存在し、基板に電気的にバイアスがかけられている場合、方向性の堆積をされる。堆積された金属から形成されるニッケルシリサイドは、方向性プロセスのみで堆積された金属から形成されるＮｉＳｉよりも、ゲートポリシリコンの低シート抵抗を有し、より低いパイプ欠陥密度を有することができ、かつ無方向性堆積のみで堆積された金属から形成されたＮｉＳｉよりも低いソース／ドレイン接触抵抗を有する。 （もっと読む）

【課題】 被覆部材の摺動特性、耐摩耗性を改善すること、またこの被覆部材の被覆方法を提供することである。
【解決手段】 被覆部材に被覆された皮膜は金属等の窒化物、炭化物、硫化物、硼化物、酸化物の何れか又はそれらの固溶体又は混合物であり、該皮膜表面にある粒子状付着物の組成は、（金属元素）ｘ（非金属元素）ｙ、但し（ｙ／ｘ）をＲとした時、０＜Ｒ≦０．４、であり、該粒子状付着物の面積率は、直径が０．１μｍ以上の該粒子状付着物につき、該皮膜表面の任意に選択される１０００μｍ^２の範囲内に５％以下であることを特徴とする被覆部材及びその被覆方法である。 （もっと読む）

【課題】 本願発明の課題は、被覆部材が耐熱性や潤滑性に優れた表面状態よなる被覆部材及び被覆部材の被覆方法を提供することである。
【解決手段】 本願発明の被覆部材は、被覆された皮膜が金属等の窒化物、炭化物、硫化物、硼化物、酸化物の何れか又はそれらの固溶体又は混合物であり、該皮膜表面には該固溶体又は該混合物と略同一組成の粒子を有し、該粒子は該皮膜表面から５ｎｍ以上、２００ｎｍ未満の突起状粒子であることを特徴とする被覆部材及びその被覆方法である。 （もっと読む）

【課題】高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆高速度工具鋼製切削工具を提供する。
【解決手段】高速度工具鋼基体の表面に、いずれも（Ｃｒ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの平均層厚をそれぞれ有し、上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａは特定の組成式：［Ｃｒ_{1-（Ａ＋Ｂ）}Ａｌ_ＡＳｉ_Ｂ］Ｎを満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層、上記薄層Ｂは特定の組成式：［Ｃｒ_{1-（Ｃ＋Ｄ）}Ａｌ_ＣＳｉ_Ｄ］Ｎを満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層、からなり、上記下部層は、単一相構造を有し、特定の組成式：［Ｃｒ_{1-（Ｅ＋Ｆ）}Ａｌ_ＥＳｉ_Ｆ］Ｎを満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】難削材の高速重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆高速度工具鋼製切削工具を提供する。
【解決手段】高速度工具鋼基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｃｒ，Ａｌ，Ｖ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の一層平均層厚を有する薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａは特定の組成式：［Ｃｒ_{1-（Ａ＋Ｂ）}Ａｌ_ＡＶ_Ｂ］Ｎを満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｖ）Ｎ層、上記薄層Ｂは特定の組成式：［Ｃｒ_{1-（Ｃ＋Ｄ）}Ａｌ_ＣＶ_Ｄ］Ｎを満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｖ）Ｎ層、からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し、特定の組成式：［Ｃｒ_{1-（Ｅ＋Ｆ）}Ａｌ_ＥＶ_Ｆ］Ｎを満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｖ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 真空容器内へのガス導入の有無に係わらず、アーク放電を安定して維持し、安定して成膜できるとともに、対象物以外へのカソード物質の堆積を低減し、カソードを一様に消耗させて取扱い、メンテナンスが容易なアーク式蒸発源及び成膜体の製造方法を提供する。
【解決手段】 アーク放電によってカソード物質を蒸発させるアーク式蒸発源において、筒状で且つ異なる極性の磁極が軸方向の両端に配置された磁場形成機構と、前記磁場形成機構の内側に配置されるカソードを該磁場形成機構の軸方向に進退させるカソード送出機構とを備え、前記カソードの蒸発面が前記磁場形成機構の前端より突出し、かつ前記蒸発面と前記前端との軸方向の距離ΔＬと前記磁場形成機構の内径Ｄとの関係が０．１×Ｄ≦ΔＬ≦２．０×Ｄとなっている。 （もっと読む）

【課題】 ＴｉＡｌＮを主体として構成される硬質積層被膜の耐溶着性を向上させる。
【解決手段】 ＴｉＡｌＮ層２２ａとＴｉＡｌＮ＋ＣｒＢＮの混合層２２ｂとが交互に積層された下地層２２により、優れた耐摩耗性および靱性が得られるとともに、最上部に設けられて表面を構成するＣｒＢＮ層２６は摩擦係数が小さいため、潤滑性すなわち耐溶着性が向上する。また、ＣｒＢＮ層２６の酸化開始温度は約７００℃と高いため、高温環境下でも優れた被膜特性が安定して維持される。したがって、このような硬質積層被膜２０で被覆されたボールエンドミル１０によれば、硬さが低くて溶着し易い鉄系或いは銅合金等の非鉄系の被加工物から５０ＨＲＣ程度の硬さを有する調質鋼等の高硬度材まで、広範囲に亘って優れた切削性能および耐久性能が得られるようになる。 （もっと読む）

【課題】真空中で使用された場合でも長期に渡って潤滑性能が良好である転がり支持装置を提供する。
【解決手段】内輪１および外輪２の軌道面に、水素（Ｈ）と炭素（Ｃ）とからなり水素含有率が４０原子％以上５３原子％以下であるダイヤモンドライクカーボン層を形成する。ボール３の間にポリエチレン製のスペーサ４を配置する。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の有する耐高温酸化性、靭性の特性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の高硬度化による耐摩耗性と密着性を改善することである。
【解決手段】硬質皮膜は４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、ラマン分光分析によるα型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩα、β型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩβとした時に、１．０≦Ｉβ／Ｉα≦２０．０であり、Ｘ線回折による（２００）面のピーク強度をＩｂ、（１１１）面のピーク強度をＩａとした時に、Ｉｂ／Ｉａ＞１．０であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、硬質皮膜の耐高温酸化性、潤滑性と靭性の特性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の高硬度化による耐磨耗性と密着性の改善を目的とした。
【解決手段】硬質皮膜は４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜はｆｃｃ構造の柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、ラマン分光分析による該α型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩα、該β型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩβとしたときに、１．０≦Ｉβ／Ｉα≦２０．０であり、Ｘ線回折による（２００）面の格子定数が０．４１００ｎｍ以上、０．４３００ｎｍ以下であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の耐欠損性、潤滑性の特性を犠牲にすることが無く、特に高硬度化による優れた耐摩耗性を有する硬質皮膜を提供することとその製造方法を提供する。
【解決手段】硬質皮膜は、４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉから選択される１種以上の金属元素と、Ｓを含みＣ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素によって構成され、該硬質皮膜は柱状組織構造を有し、該柱状組織構造の結晶粒はＳ成分に組成差を有する多層構造を有し、少なくとも該多層構造における層間の境界領域で結晶格子縞が連続している領域があり、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、Ｘ線回折による（２００）面のピーク強度をＩｂ、（１１１）面のピーク強度をＩａとしたとき、そのピーク強度比Ｉｂ／Ｉａは、Ｉｂ／Ｉａ≦１．０であることを特徴とする硬質皮膜及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、硬質皮膜の有する耐高温酸化性と高硬度の特性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の潤滑特性と靭性の改善することである。
【解決手段】硬質皮膜は４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、ラマン分光分析による該α型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩα、該β型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩβとしたときに、Ｉβ／Ｉα＜１．０であり、Ｘ線回折による（２００）面のピーク強度をＩｂ、（１１１）面のピーク強度をＩａとしたときに、Ｉｂ／Ｉａ≦１．０であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の耐高温酸化性と靭性の特性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の潤滑特性を改善することである。
【解決手段】硬質皮膜は、４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、であり、該硬質皮膜中に存在するＳｉはα型Ｓｉ_３Ｎ_４とβ型Ｓｉ_３Ｎ_４の結晶質相として存在し、ラマン分光分析による該α型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩα、該β型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩβとしたときに、Ｉβ／Ｉα＜１．０であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

ウェーハをＲＦバイアスするステップを含むアルミニウムスパッタリングプロセスと、好ましくは２つの異なるプラズマスパッタ反応器（１６８、１７０）において２つの明確に異なる条件下のスパッタリングによって狭いビアホールにアルミニウムを充填するために使用される２段階アルミニウム充填プロセスおよびこのための装置。第１のステップ（１３０）は、例えば１５０℃未満に保持され、また該狭いホールおよび各オーバーハングにアルミニウム原子を引き付けるように比較的高度にバイアスされる比較的冷たいウェーハ上に高い割合のイオン化アルミニウム原子をスパッタリングするステップを含む。第２のステップ（１３２）は、例えば２５０℃より高く保持され、またより等方的かつ均一なアルミニウムフラックスを提供するために実質的に未バイアスの比較的温かいウェーハ上へのより中性的なスパッタリングを含む。該アルミニウムターゲットの背後で走査される該マグネトロンは（８０）該第１のステップにおいて比較的小型かつ非均衡であってもよく、また（６０）該第２のステップでは比較的大型かつ均衡がとれていてもよい。 （もっと読む）