【課題】樹脂基板等の耐熱温度の低い基板でもイオンアシスト成膜を可能とする。
【解決手段】真空槽３０と、基板ドーム２１との間に高周波電源４１から高周波電圧を印加し、真空槽３０内のガスをプラズマ化し、陽イオンにより、蒸着分子の成膜基板２２への堆積をアシストする。高周波電圧の印加により発生する基板ドーム２１のセルフバイアス電圧を検出し、セルフバイアス電圧が減少すると、これを補償するように高周波電源４１の出力電力を増加する。 （もっと読む）

【課題】従来知られている硬質皮膜の耐摩耗性をさらに向上させることのできる切削工具用硬質皮膜を提供することを目的とする。
【解決手段】工具の表面に被覆される硬質皮膜であって、（Ｃｒ_1-a-bＡｌ_aＳｉ_b）（Ｂ_xＣ_yＮ_1-x-y）からなり、それぞれの原子比が、
０＜ａ≦０．４
０．０５≦ｂ≦０．３５
０．２５≦１−ａ−ｂ≦０．９
０≦ｘ≦０．１５
０≦ｙ≦０．５
または、（Ｍ_1-a-bＡｌ_aＳｉ_b）（Ｂ_xＣ_yＮ_1-x-y）からなり、それぞれの原子比が、
０．０５≦ａ≦０．５
０．１＜ｂ≦０．３５
０≦ｘ≦０．１５
０≦ｙ≦０．５
（但し、Ｍは、ＴｉとＣｒ）
からなる硬質皮膜を提供する。 （もっと読む）

【課題】高速断続切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、１〜６μｍの平均層厚を有する組成式：（Ｔｉ_１−ＸＡｌ_Ｘ）Ｎ（ただし、Ｘは原子比で、０．４≦Ｘ≦０．６）を満足するＴｉとＡｌの複合窒化物層からなる硬質被覆層を形成した表面被覆切削工具において、上記ＴｉとＡｌの複合窒化物層は、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、表面研磨面の測定範囲内に存在する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である（００１）面および（０１１）面の法線がなす傾斜角を測定し、測定傾斜角に基づいて、算出した構成原子共有格子点分布グラフにおいて、特定の構成原子共有格子点分布グラフを示す窒化チタンアルミニウム層で構成する。 （もっと読む）

【課題】 イオン化スパッタによって高アスペクト比のホールに対してボトムカバレッジ率の良い成膜を行うとともに、スパッタチャンバー内外の構成を簡略化する。
【解決手段】 排気系１１を備えたスパッタチャンバー１内に設けられたターゲット２をスパッタ電源３によってスパッタし、放出されたスパッタ粒子を基板５０に到達させて成膜する。スパッタ電源３は５Ｗ／ｃｍ^２ 以上の電力をターゲット２に投入し、この電力のみで形成されたプラズマＰ中でスパッタ粒子がイオン化する。ターゲット２と基板ホルダー５との間には円筒状のシールド６が設けられてプラズマ形成空間を規制し、電界設定手段８がイオン化したスパッタ粒子をプラズマＰ中から引き出して基板５０に入射させるための電界を設定する。 （もっと読む）

【課題】 アルミニウム等の非鉄金属の切削加工に使用する信頼性の高い寿命センサ回路付き切削工具を提供する。
【解決手段】 導電性母材３の表面に少なくとも１層の絶縁性被覆層２を有し、その上に導電性硬質層４を用いた回路を形成してなる寿命センサ回路付き切削工具１であって、絶縁性被覆層２のうち少なくとも１層は硬質炭素膜であるとともに、硬質炭素膜のラマンスペクトルについてＤバンドにおける面積強度をＩ_Ｄ、Ｇバンドにおける面積強度をＩ_Ｇとした場合に、面積強度比Ｒ＝（Ｉ_Ｄ／Ｉ_Ｇ）が１．４以下とする。 （もっと読む）

【課題】ハロゲンガス、特にフッ素（Ｆ_２）ガスおよびフッ化物ガスと接触する半導体加工装置用等の金属製部材であって、耐ハロゲンガス性に優れた金属製部材を提供する。
【解決手段】金属製基材３１，３４の表面に対して、イオン注入法またはプラズマイオン注入法を用いて、Ｆ_２ガスやフッ化物ガスとは反応するものの、その反応生成物の蒸気圧が低いＡｌ、Ｂａ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙから選ばれる１種以上の金属元素のイオン注入層３２を設ける。また、このイオン注入層３２の上に、さらにＡｌ、Ｂａ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙから選ばれる金属を含む薄膜３３を積層させる。 （もっと読む）

【課題】高硬度鋼の高速切削加工で優れた仕上げ面精度を長期にわたって発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】窒化チタン、アルミニウムおよび／または酸化アルミニウム、残部窒化ほう素からなる圧粉体で構成され、分散相を形成する立方晶窒化ほう素相と連続相を形成する窒化チタン相との界面に超高圧焼結反応生成物が介在した本体の表面に硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具において、（ａ）硬質被覆層は、１．５〜３μｍの平均層厚を有する下部層と０．３〜３μｍの平均層厚を有する上部層とからなり、（ｂ）下部層はＴｉとＡｌの複合窒化物層からなり、（ｃ）上部層は、一層平均層厚がそれぞれ０．０５〜０．３μｍの薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、薄層Ａは、特定な組成式を満足するＴｉとＡｌの複合窒化物層、薄層Ｂは、Ｔｉ窒化物（ＴｉＮ）層からなる。 （もっと読む）

【課題】化合物薄膜を高い効率で形成する。
【解決手段】真空槽３内の成膜ステージには、ＰＥＴフィルム４上に金属薄膜を形成するスパッタリング装置１０と、酸素イオンを放出するイオン銃１１とが配されている。スパッタリング装置１０は、流量コントローラ１３でスパッタガスと酸素ガスの導入比率を変化させることにより、酸素ガスを含む雰囲気で高速にスパッタリングを行う遷移領域モードで動作させる。ＰＥＴフィルム４が連続的に搬送されている間に、スパッタリング装置１０で金属薄膜の形成が行われ、その直後にイオン源１１にからの酸素イオンで金属薄膜が酸化される。 （もっと読む）

【課題】、結晶性の良好な金属化合物薄膜を成膜することができるガスフロースパッタリング成膜方法及び装置を提供する。
【解決手段】スパッタガス導入口１１からチャンバー２０内にアルゴン等の希ガス等を導入し、アノード１３とカソード１５との間の放電で発生したスパッタ粒子をアルゴン等の希ガス等の強制流により基材１６まで輸送し堆積させる。ＤＣ−ＲＦ重畳電源１２の電圧は５００Ｖ未満が好適である。 （もっと読む）

【課題】金型を精度よく、容易に再生することができ、かつ、優れた耐久性・耐摩耗性を得ることができるハニカム構造体成形用金型の再生方法及び再生金型を提供すること。
【解決手段】材料を供給するための供給穴１２と、供給穴１２に連通して格子状に設けられ、材料をハニカム形状に成形するためのスリット溝１３とを有し、使用により摩耗した部分を有するハニカム構造体成形用金型１の再生方法は、スリット溝１３を形成した金型本体１１の押出方向の先端面である溝形成表面１３０と、溝形成表面１３０とスリット溝１３の内側面１３１とが交わって形成される角部１４の摩耗部分１９との上に、溝形成表面１３０側から成膜材料を供給して、ＰＶＤ処理を行うことによって再生膜２を形成する。 （もっと読む）

【課題】軟質難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する被覆切削工具を提供する。
【解決手段】被覆切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）Ｃｒ硼化物層の表面層、（ｂ）組成式：（Ｔｉ_{１−（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＣｒ_Ｙ ）Ｎ（ただし、原子比で、０．４５≦Ｘ≦０．６５、０．０１≦Ｙ≦０．１０、０．５０≦Ｘ＋Ｙ≦０．７０を示す）、を満足するＴｉとＡｌとＣｒの複合窒化物層の耐摩耗硬質層、からなる硬質被覆層を形成してなり、さらに、前記表面層の少なくとも切刃稜線部を含むすくい面部分および逃げ面部分の表面粗さを、前記表面層全面に、Ｃｒ窒化物層で構成された研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材として、酸化アルミニウム微粒を配合した研磨液を噴射し、前記の研磨材層のウエットブラストによる粉砕化Ｃｒ窒化物微粒と、噴射研磨材としての酸化アルミニウム微粒の共存下で研磨して、Ｒａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

本発明は硬金属又はサーメットサブストレートボディをＰＶＤでコーティングする方法に関する。この場合には焼結の終ったサブストレートボディは、別の中間処理なしで、ＰＶＤコーティングの前に、粒子のブラスト手段を使用して、サブストレートボディの表面に近い領域が、唯一のＰＶＤ層又は第１のＰＶＤ層の固有応力と少なくともほぼ同じ大きさの固有応力を有するまで粒状のブラスト手段を用いるブラスト処理される。さらに本発明はこのようにコーティングされた硬金属又はサーメットボディ、特に切削工具の形をした硬金属又はサーメットボディに関する。 （もっと読む）

【課題】窒化硼素皮膜の耐摩耗性を維持した状態において、残留圧縮応力を低減させ、更に被覆部材の耐剥離性を改善することが可能な被覆部材を提供する。
【解決手段】基材表面に硼素、窒素、酸素からなる化合物皮膜を被覆した部材であり、該化合物皮膜は、非晶質窒化硼素内に結晶質窒化硼素が分散した組織構造を有し、硼素と酸素との結合を有し、且つ、該化合物皮膜の断面における結晶質窒化硼素の粒子の面積を、円の面積として置き換えた場合の直径である等価円直径として求めた場合、１０ｎｍ未満であり、を特徴とする被覆部材である。 （もっと読む）

【課題】軟質難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する被覆切削工具を提供する。
【解決手段】被覆切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）Ｃｒ硼化物層の表面層、（ｂ）組成式：（Ｔｉ_{１−（Ｘ＋Ｙ＋Ｚ）}Ａｌ_ＸＣｒ_ＹＳｉ_Ｚ）Ｎ（ただし、原子比で、０．４５≦Ｘ≦０．６５、０．０１≦Ｙ≦０．１０、０．０１≦Ｚ≦０．１０、０．５０≦Ｘ＋Ｙ＋Ｚ≦０．７０を示す）、を満足するＴｉとＡｌとＣｒとＳｉの複合窒化物層の耐摩耗硬質層、からなる硬質被覆層を形成してなり、さらに、前記表面層の少なくとも切刃稜線部を含むすくい面部分および逃げ面部分の表面粗さを、前記表面層全面に、Ｃｒ窒化物層で構成された研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材として、酸化アルミニウム微粒を配合した研磨液を噴射し、前記の研磨材層のウエットブラストによる粉砕化Ｃｒ窒化物微粒と、噴射研磨材としての酸化アルミニウム微粒の共存下で研磨して、Ｒａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】生産性向上のために多数枚取りを実施しても特性低下や品質劣化を惹き起こすおそれのない磁気記録媒体の製造方法および製造装置を提供すること。
【解決手段】４枚の小径化学強化ガラス基板９を１枚の３．５インチサイズ専用小径スパッタキャリア１０に取り付ける。４枚の基板９にシード層を成膜した後に各基板を回転させて、小径スパッタキャリア基板保持可動爪１１で支持する位置を持ち換え、シード層と可動爪１１を動通させる。可動爪１１を介してバイアスを印加して以降の成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】 水素をほとんど含まず実質的に炭素のみからなり、基材との密着性に優れ、高硬度で耐摩耗性に優れた非晶質硬質炭素皮膜を提供する。
【解決手段】 基材表面に形成され実質的に炭素のみからなる第１の非晶質硬質炭素層と、第１の非晶質硬質炭素層の表面に形成され実質的に炭素のみからなる第２の非晶質硬質炭素層とから構成され、断面から見たとき、第１の非晶質硬質炭素層の透過型電子顕微鏡像が第２の非晶質硬質炭素層の透過型電子顕微鏡像より明るい。 （もっと読む）

【課題】窒化硼素皮膜の残留圧縮応力を低減させ、耐摩耗性が要求される使用環境化において、更に被覆部材の耐摩耗性を改善することが可能な被覆部材を提供することである。
【解決手段】基材表面に硼素、窒素、酸素からなる化合物皮膜を被覆した部材であり、該化合物皮膜は結晶質窒化硼素内に非晶質窒化硼素が分散した組織構造を有し、且つ、該化合物皮膜の断面における非晶質窒化硼素の領域の面積を、円の面積として置き換えた場合の直径である等価円直径として求めた場合、１０ｎｍ未満であることを特徴とする被覆部材である。 （もっと読む）

【課題】軟質難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する被覆切削工具を提供する。
【解決手段】被覆切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）Ｃｒ硼化物層の表面層、（ｂ）組成式：（Ｔｉ_{１−（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＢ_Ｙ ）Ｎ（ただし、原子比で、０．４５≦Ｘ≦０．６５、０．０１≦Ｙ≦０．１０、０．５０≦Ｘ＋Ｙ≦０．７０を示す）、を満足するＴｉとＡｌとＢの複合窒化物層の耐摩耗硬質層、からなる硬質被覆層を形成してなり、さらに、前記表面層の少なくとも切刃稜線部を含むすくい面部分および逃げ面部分の表面粗さを、前記表面層全面に、Ｃｒ窒化物層で構成された研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材として、酸化アルミニウム微粒を配合した研磨液を噴射し、前記の研磨材層のウエットブラストによる粉砕化Ｃｒ窒化物微粒と、噴射研磨材としての酸化アルミニウム微粒の共存下で研磨して、Ｒａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】高級感があり、耐傷付き性に優れ、傷等による外観品質の劣化が起きにくく、しかも、ステンレス鋼被膜に近い、高級感のある白色被膜を有する装飾品を提供する。
【解決手段】本発明の白色被膜を有する装飾品は、最外層として貴金属または貴金属の合金からなる白色色調を有する被膜が乾式メッキ法により形成された装飾品において、金属またはセラミックスからなる装飾品用基材と、該基材表面に形成された下地層と、該下地層の表面に乾式メッキ法により形成された耐摩耗層、および該耐摩耗層の表面に乾式メッキ法により形成された最外層からなる発色層とから構成され、前記発色層は、厚み０．２〜１．５μｍの耐摩耗層と厚み０．００２〜０．１μｍの最外層とからなる、ステンレス鋼色調を有する硬質の白色被膜であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】使用初期において、摺動により摩擦係数を速やかに低下させて、早期に低摩擦係数で安定させることのできる、なじみ性の高い硬質炭素膜を提供する。
【解決手段】基材１上に中間層２を介して形成された硬質炭素膜３が、ダイヤモンドライクカーボン層６と、ダイヤモンドライクカーボン層６上に形成されたグラファイト粒子堆積層７とからなる。グラファイト粒子堆積層７は、ラマン分光分析によるラマンスペクトルをピーク分離して得られる、Ｄバンドを表すピークの面積強度Ｉ_D とＧバンドを表すピークの面積強度Ｉ_G の比たる、Ｉ_D ／Ｉ_G が１以下である。 （もっと読む）