【課題】成膜レートを維持しつつ基板上への異物の落下を抑制する。
【解決手段】チャンバー１１０と、チャンバー１１０内で成膜処理される基板の上面と対向する主面を有するターゲット１３０とを備える。また、ターゲット１３０を下方から支持してチャンバー１１０に固定する係合部材１４０および頭付螺子１５０と、係合部材１４０と係合して取り付けられ、係合部材１４０および頭付螺子１５０の下方を覆う防着部材１６０とを備える。ターゲット１３０は、主面の一部に凹部１３１を有する。係合部材１４０および頭付螺子１５０は、上記凹部１３０内に位置する。防着部材１６０は、凹部１３１を埋めるように位置する。防着部材１６０のターゲット１３０と面する裏面とは反対側の表面は、ステージ１２０の上面と対向して平面である。 （もっと読む）

【課題】円筒形ターゲットは、ターゲット材と円筒形基材の熱膨張率の差により、スパッタリング中の膨張、収縮を繰り返すうちに円筒形基材とターゲット材とが剥離する恐れがあり、また、ターゲット材が長尺一体であるためにスパッタリング中に円筒形基材とターゲット材の伸びの差が大きくなり、ターゲット材に割れが発生し、スパッタリングにより形成されたスパッタ膜に欠陥が発生することがあるなどの問題がある。
【解決手段】円筒形基材の外周面に長尺のターゲット材をらせん状に巻き付けて取り付けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】焼結体のターゲットであっても、ランニングコストを低減することが可能なターゲット、およびこれを備えた成膜装置を提供する。
【解決手段】クランプ２７によって冷却板２２に固定されるターゲット２５は、金属粉体としてのＺｎの粉体と、Ｚｎの融点よりも融点が高い金属酸化物としてのＺｎＯの粉体とを含む混合物が、ｔ_０＜Ｔ＜ｔ_１（ただし、上記式中、ｔ_０はＺｎの融点、ｔ_１はＺｎＯの融点または昇華点である）で表される焼結温度Ｔで焼結された亜酸化物の焼結体である。 （もっと読む）

【課題】基板に対する成膜の生産性を向上させることが可能な成膜装置およびターゲット装置を提供する。
【解決手段】成膜装置１は、成膜材料であるターゲット２５と当該ターゲット２５に接触して冷却する板状の冷却板２２とを備えており、ターゲット２５と冷却板２２とはクランプ２７によって固定され、冷却板２２は、ターゲット２５と対向する面である第１の面２２ａとは反対側の面である第２の面２２ｂが第１の面２２ａよりも高圧の雰囲気に曝されると共に、第１の面２２ｂにおける中央部２２ｃがターゲット２５側に変位してターゲット２５を押圧する。 （もっと読む）

【課題】 円筒形ターゲットと円筒形支持管とが強固に結合された回転ターゲットを形成する回転ターゲット組立体を提供する。
【解決手段】 回転ターゲット組立体は、円筒形ターゲットと円筒形支持管とを有する。円筒形ターゲットの内径と円筒形支持管の外径との間の差は、ターゲット材料の降伏ひずみに円筒形ターゲットの内径及びＮを乗じた値に実質的に等しい。ここでＮは１と１０との間の値である。前記差は、ターゲット材料と、円筒形ターゲットの寸法とにより調節することができ、結果として、円筒形ターゲットは円筒形支持管に強固に結合することができる。回転ターゲットの熱伝導率及び導電率は向上する。 （もっと読む）

【課題】電気的手法によって高い成長速度で薄膜を形成することが可能な薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供すること。
【解決手段】ターゲット２２を保持するターゲット保持部２１が導電性材料からなることとしたので、電子線をターゲット２２に照射し続けてもターゲット保持部２１がチャージアップすることが無い。このため、ターゲット２２に電子線を照射した状態で時間が経過しても、当該電子線がターゲット２２に到達しにくくなることは無いので、成長速度の低下を回避することができる。これにより、高い成長速度で薄膜を形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ターゲット交換を容易、且つ迅速に行えるスパッタ装置のターゲット固定構造を提供する。
【解決手段】固定部材３０にターゲット５が固定される。固定部材３０に対して着脱自在に設けられる保持部材３５を有し、ターゲット５が、固定部材３０と保持部材３５との間で挟持して保持される。 （もっと読む）

【課題】ターゲットの適所を連結部にして冷却板に着脱可能にターゲットを連結することにより、ターゲットの交換作業効率化、ターゲットの面内方向熱歪防止化、バッキングプレート再利用化およびターゲットのワイドエロージョン対応容易化を図りつつ、スパッタリング装置の稼働時（減圧時）の冷却板によるターゲットの冷却能力を適切に確保可能な、ターゲット組立ユニットおよびスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】ターゲット組立ユニットＴは、スパッタリング用のターゲット１０と、第１連結手段１９を介してターゲット１０を固定するとともに、第２連結手段１５を介してケーシング１３に支持される冷却板１１と、を備え、ターゲット１０は、第１連結手段１９の外力に基づいて冷却板１１の表面に沿うように弾性変形される。 （もっと読む）

【課題】ターゲットを大型化してもそのクラックや破壊を未然に防止できる新規なコーティング装置およびスパッタリング成膜方法の提供。
【解決手段】チャンバー10内に設置されるバッキングプレート90に当該バッキングプレート90と線膨張係数の異なる板状のターゲット40を備えたコーティング装置100であって、前記ターゲット40を複数の分割ターゲット40aで構成すると共に当該各分割ターゲット40a同士を元の形状を維持すべく互いに所定の隙間を隔てて配置し、各々前記バッキングプレート90に取り付ける。これによって、各分割ターゲット40a間の隙間が適宜拡大縮小することでその膨張収縮量の差を吸収できるため、大型のターゲット40を用いた場合でも、これにクラックや破壊が生ずるのを防止できる。 （もっと読む）

【課題】ターゲット・セグメント中に熱応力が導入されず、また、適切な熱放散が提供されるように、ターゲット保持装置によって冷却系に接続されたターゲット・セグメントを含むターゲットを提供する。
【解決手段】スパッター源用ターゲットは、交換可能な複数のターゲット・セグメント（９）に細分化できる。各ターゲット・セグメント（９）は被覆材料を含み、各ターゲット・セグメント（９）は少なくとも２つのターゲット・セグメント（９’，９”）に隣接し、各ターゲット・セグメントは多くとも１つの固定手段（７，８，１０）によって基体（２，１３，１５）に接続可能である。 （もっと読む）

【課題】過熱が生じないように、ターゲット保持手段によって、ターゲットを冷却システムに連結すること。
【解決手段】コーティング源のターゲット９の装着のための装置が、ターゲット９と、ターゲット保持装置１とを包含し、ターゲット保持装置１が冷却体３と、ターゲットを冷却体に装着するための連結手段６、７、８、１１とを包含する。電力供給がターゲット全体にわたって均一な分布で行われ、同時に、被覆手法の間、ターゲットに生じる熱が冷却体内に均一に伝導できるように、連結手段３、６、７、８、１０、１１が導電性及び／又は伝熱性の手段を包含し、それによってより多くの電力をコーティング源に接続でき、被覆率が上昇する。 （もっと読む）

円筒状ターゲットの端に形成された円形溝は、リテーニングリングおよびフランジをターゲット取り付けることを可能とする。ターゲットは、次いで、エンドブロックに固定することができる。ねじ式取り付けのために構成されたターゲットは、このように固定取り付けのために変更されてもよい。ねじ式ターゲットのために構成されたエンドブロックは、スピンドルの改良または交換およびクランプリングを加えることにより、ターゲットを固定するように改良される。
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【課題】複数のターゲットタイル（３０）を含むターゲットアセンブリで用いられるタイルセットであって、ターゲットタイルはアレイ内で他の物質のバッキングプレート（２４）に接着されているターゲットタイルセットを提供する。
【解決手段】アレイ内部のタイルの端部（３２、３４）は相互的な傾斜端部となるように形成され、これによってタイル間に傾斜間隙（３６）を形成する。間隙はターゲットの垂線に対し１０°と５５°の間、好ましくは１５°と４５°の間の角度で傾斜していてもよい。垂直及び傾斜間隙の両方において、タイルの対向側部はビードブラスト法により荒仕上げ加工されていてもよい。垂直又は傾斜間隙の両方において、間隙の下方のバッキングプレートの領域（４８）は荒仕上げ加工されていてもよく、ターゲット材料の領域でコーティング又は被覆されていてもよい。 （もっと読む）

本発明は、金属プレートの２つの表面のうちの一方のみを平坦化することによる、金属ブランク、ディスク及びスパッタリングターゲットの製造における改善に関する。金属プレートの第二表面の平坦化をなくすことにより、顕著なコスト削減がなされる。本発明の金属プレートは、好ましくは片面平坦度が０．００５インチ以下であり、ターゲットブランクとバッキングプレートとの間の接合の信頼性が改善される。好ましい金属には、タンタル、ニオブ、チタン及びそれらの合金などがあるが、これらには限定されない。また、本発明は、金属プレートの第一面を機械加工し、第一面をバッキングプレートに接合した後、必要に応じて金属プレートの第二面を機械加工することに関する。
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【課題】迅速容易で、かつ、安全に強磁性体ターゲットを交換可能な技術を提供する。
【解決手段】本発明は、マグネトロンスパッタリング用の強磁性体ターゲットを交換するための磁性体ターゲット交換冶具であって、当該強磁性体ターゲットを吸引保持するための保持マグネット３と、強磁性体ターゲット１０を保持マグネット３に近接した状態で位置決め保持するための位置決めピン８ａ、８ｂ、８ｃと、保持マグネット３を移動させるための移動機構７と、冶具本体１ａをカソードフランジ２０のターゲット交換位置２０ａに位置決めるための本体位置決め機構９とを有する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング用の回転ターゲットの冷却システムにおいて、回転軸、マグネットの冷却を効果的に行い、また同時にターゲットの不均一冷却に起因する熱膨張破損を防止する。
【解決手段】ターゲットバッキングチューブ205と、ターゲットバッキングチューブの外面と接触しておりかつ電気伝導性であり非熱伝導性であるバッキング層210と、バッキング層と接触している複数の非接着式ターゲット円筒体215と、を含むターゲットアセンブリ200。 （もっと読む）

本発明は、真空スパッタリングのためのカソードであって、ターゲット（２）のための支持体が、冷却機構を備えている。本発明によるカソードは、支持体が、支持ベース（３）を備え、この支持ベース（３）の上には、フレーム（１１）が重ね合わされ、このフレーム（１１）が、冷却流体の循環のための少なくとも１つのギャップ（１１ａ）を形成することを特徴としている。本発明においては、フレーム（１１）の上には、メンブラン（４）が重ね合わされ、支持ベース（３）とフレーム（１１）とメンブラン（４）とが、それぞれの周縁部において互いに連結されている。
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本発明は、陰極としてのターゲットを有し、陽極をなすハウジングによってターゲットが取り囲まれたアーク蒸着装置に関する。ターゲット材料の均一な蒸着を得るために、ハウジングから複数の第２の導電性ジョイント（８４、８６）が張り出し、該第２の導電性ジョイントは第２の導体（７４）を介して連結され、該第２の導体は幾何学的にターゲット又は第１の導体（７２）の包絡面に相当する包絡面を張る。該第１の導体（７２）は、ターゲットの導電性ジョイント（７６，７８）を連結する。第１及び第２の導体（７２，７４）は電源（８２）の極（８０，８８）と連結されている。
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【課題】ターゲットから冷却媒体への熱移行が、簡単で効果的なかつ安価な形式で改善され、真空チャンバ内への冷却媒体またはその蒸気の侵入の危険とコーティングプロセスへの不都合な影響とが回避される、コーティングプロセスのためのスパッタ陰極を提供する。
【解決手段】当該スタッパ陰極のための支持構造体が中空体を有しており、該中空体が、真空チャンバの内室に対してガス密に閉鎖されており、前記中空体が、さらに、磁石システムを取り囲んでいる中空室を、真空チャンバの外部に存在する雰囲気に接続しており、冷却媒体通路が、その横断面周囲にわたって閉じた導管として、少なくとも１つの平坦面を備えて形成されており、該平坦面がダイアフラムと熱伝導的に結合されており、かつダイアフラムと、導管の、ダイアフラムとは逆の側の表面とが、前記支持構造体を介して、真空チャンバの外部の雰囲気圧力に晒されているようにした。 （もっと読む）

本発明は、スパッタ領域およびフランジ領域（２２）を有するターゲット構造物を含む。フランジ領域（２２）は、前面の少なくとも一部の上に存在する保護層（５０）を有する。本発明は、フランジ領域（２２）の前面が平面部分を有しているフランジ領域（２２）を有するスパッタ用ターゲット構造物を含む。溝（２６）が前面の中に配置され、前面の傾斜部分は平面部分に対して溝（２６）から横方向に外の方に配置されており、傾斜部分は平面部分に対して傾いている。本発明は、フランジ領域（２２）内に配置されたＯリング用溝（２６）を有するターゲット構造物を含む。Ｏリング用溝は、底部表面、オリフィス、底部表面からオリフィスまで延びる第１の側壁、および第１の側壁に対向する第２の側壁を有する。溝の中の第１の角の角度と第２の角の角度とは同等でない。
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