【課題】 耐摩耗性が高く、かつ高い耐欠損性を有する表面被覆工具を提供する。
【解決手段】 基体の表面に、Ｔｉ_{１−ａ−ｂ}Ａｌ_ａＭ_ｂ（Ｃ_ｘＮ_１−ｘ）（ただし、ＭはＴｉを除く周期表４、５、６族元素、希土類元素およびＳｉから選ばれる１種以上であり、０．４０≦ａ≦０．６５、０．０５≦ｂ≦０．３、０≦ｘ≦１である。）からなる被覆層を被覆してなる表面被覆工具において、前記被覆層の表面に複数の突起部が分散し、該突起部がＴｉまたはＡｌを主成分とする第１の突起部とＭを主成分とする第２の突起部とからなり、優れた耐摩耗性と耐欠損性を有するものである。 （もっと読む）

【課題】平滑な薄膜を基板上に形成するためのイオンプレーティング装置及び薄膜形成方法と、得られる表面平滑基板を提供する。
【解決手段】イオンプレーティング装置１において、プラズマ発生器１１により発生し、真空チャンバ３内へ流出したプラズマビーム１７は、磁石２３の磁力により、蒸着材料２１表面へ誘導され、蒸着材料２１を照射する。蒸着材料２１は、プラズマビーム１７の照射により蒸発するとともにイオン化し、対向する位置にある基板２５上へ蒸着し薄膜を形成する。磁石２３は、ハース１９近傍で昇降運動が可能であり、磁石２３の昇降運動に伴い、蒸着材料２１表面の磁束密度が変化する。蒸着材料２１表面の磁束密度を変化させることで、プラズマビーム１７の形態が変化する。 （もっと読む）

【課題】高周波イオンプレーティング法を用い複合酸化物膜を形成する複合酸化物膜の製造方法であって、安定した組成の複合酸化物膜が容易に得られる方法、及びこの製造方法により得られる複合酸化物膜を構成要素とし、安定した性能を有する水素透過構造体を提供する。
【解決手段】９．９×１０^−４Ｐａ以下の真空度で、複合酸化物の原料元素の固体粉末からなる蒸発源を、固体粉末状態を保ちながら加熱する加熱工程、前記蒸発源をさらに加熱して溶融し、９．９×１０^−４Ｐａ以下の真空度で蒸発源を５分以上溶融状態に保つ溶かし込み工程、及び、前記溶かし込み工程の終了後に開始する高周波イオンプレーティング法による成膜工程、を有する複合酸化物膜の製造方法、及びこの製造方法により形成された酸化物プロトン導電性膜を有する水素透過構造体。 （もっと読む）

【課題】従来の硬質皮膜に対し、更に耐酸化性、耐摩耗性を改善し、単層で十分な耐酸化性及び耐摩耗性を発揮し、切削加工の乾式化、高速化に対応した硬質皮膜被覆工具及び硬質膜被覆方法を提供。
【解決手段】高速度鋼、超硬合金、サーメット、セラミックスの何れかを母材とし、金属成分のみの原子％で、Ｓi が60％を越え85％以下、Ｓi ，Ｔi ，Ｃr 以外の金属、半金属元素が10％以下、残り：Ｔi およびＣr で構成される窒化物、炭窒化物、酸窒化物、酸炭窒化物のいずれかからなる層を単層又は複層被覆した。 （もっと読む）

【課題】 耐欠損性が高くチッピングや欠損が発生しにくい表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 基体２の表面に、第１被覆層３と、柱状結晶から構成されて前記基体の表面の垂線方向に対して平均で１〜１５°の角度で斜めの方向に成長した第２被覆層４とを順次被覆していることによって、硬質被覆層５に衝撃がかかっても第２被覆層４から伝わる力が分散して第１被覆層３には衝撃が伝わりにくくクラックが進展しにくくなる結果、硬質被覆層５に発生するチッピングや大きな欠損を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイ用光学フィルターに最適である、光学特性、酸化亜鉛膜と透明基板の密着性に優れた酸化亜鉛系透明導電基板を提供する。
【解決手段】アクリル系樹脂（ａ）５０〜９９．９質量％、およびポリ乳酸系樹脂（ｂ）５０〜０．１質量％からなる樹脂組成物のフィルムもしくはシートの透明基板上に、直接酸化亜鉛系透明導電膜が形成されてなる酸化亜鉛系透明導電基板及び酸化亜鉛系透明導電基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】液晶ディスプレイ・プラズマディスプレイ・無機ＥＬディスプレイ・有機ＥＬディスプレイ・電子ペーパー等の透明電極に最適である光学特性、酸化亜鉛膜と透明基板の密着性およびシート抵抗値の安定性の良好な酸化亜鉛系透明導電積層体を提供すること。
【解決手段】アクリル系樹脂（ａ）５０〜９９．９質量％、およびポリ乳酸系樹脂（ｂ）５０〜０．１質量％からなる樹脂組成物の透明基板上に片面又は両面に、１種以上のハードコート層が被覆され、該ハードコート層上に、酸化亜鉛系透明導電膜が形成されてなる酸化亜鉛系透明導電積層体。 （もっと読む）

【課題】容易に位置決めすることができ、取り付け作業の作業性が高いプラズマガンのチャンバへの取り付け構造を提供すること。
【解決手段】チャンバ２と、チャンバ２に設けられた第１係合部９０及び第１位置決め部９４と、フランジ６４に第１係合部９０と係合する第２係合部９１及び第１位置決め部９４によって位置決めされる第２位置決め部９５が形成されたプラズマガン１と、ロック機構と、を備え、第２係合部９１がチャンバ２の第１係合部９０と係合し、第２位置決め部９５がチャンバ２の第１位置決め部９４によって位置決めされ、フランジ６４がロック機構によってチャンバ２の壁８０に押し付けられて固定されるようにして、プラズマガン１がチャンバ２に取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】純Ａｇからなる反射膜と略同等レベルの初期反射率に到達でき、かつ銀にビスマスを添加した材料からなる耐環境性に優れた反射膜を基板に堆積可能な、真空成膜装置および真空成膜方法を提供する。
【解決手段】真空成膜装置１００は、内部を減圧可能な真空槽２０と、真空槽内において、基板１１を保持する基板ホルダ１２と、基板ホルダ１２にバイアス電圧を印加するバイアス電源Ｖ１と、真空槽内において、銀にビスマスを添加した反射膜用の材料を配置する材料ホルダ１５と、材料ホルダ１５から基板に向けて材料を放出させるとともに材料の放出に際して前記材料をイオン化する材料放出手段と、を備え、イオン化された材料の運動エネルギーをバイアス電圧に基づき増加させるようにして基板１１に材料からなる反射膜が堆積され、反射膜の反射率はバイアス電圧およびビスマスの添加量に基づいて調整される装置である。 （もっと読む）

【課題】生産性に優れ、コストのニーズにも対応できる耐食金属フレーク顔料の製造方法を提供する。
【解決手段】乾式めっき法により、耐塩基性を有する基材の表面に、Ａｌ膜を成膜し、Ａｌ膜の上に、Ｎｉ、ＣｒまたはＴｉからなる耐食金属膜を成膜し、Ａｌ膜および耐食金属膜を基材と共に塩基性溶液に浸漬し、超音波を照射することにより、Ａｌ膜を溶解させ、耐食金属膜を基材から剥離し、かつ、破砕する。Ａｌ膜と耐食金属膜を順次積層して、複数の耐食金属膜を同時に得ることが可能であり、この際、異なる耐食金属からなる混合フレークを得ることもできる。 （もっと読む）

【課題】樹脂フィルム基板上に形成されるＩＴＯ等の透明導電膜の形成方法に関し、抵抗値が低く、且つ表面の平滑性が優れた、生産性が高い透明導電膜付フィルムの形成方法、及び該形成方法で生産された透明導電膜付フィルムを提供する。
【解決手段】圧力勾配型プラズマガンを用いるイオンプレーティング法を用い、連続して搬送される樹脂フィルム基板上に、成膜領域内で前記樹脂フィルム基板の裏面側に接触し樹脂フィルム基板を支持、搬送する支持ロールの温度を１３０℃〜１８０℃の間で任意の一定温度に制御し、透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】真空容器の真空状態を維持したまま膜厚補正板の形状を変更できる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置１は、真空容器１０と、被処理物１１を搬送する搬送機構３と、成膜材料Ｍａ_１（Ｍａ_２）を保持するハース機構４と、真空容器１０内における搬送機構３とハース機構４との間の開口部１０ｇに設けられ、Ｘ軸方向における開口部１０ｇの開口幅Ｗ（Ｙ）をＹ軸方向に沿って変化させることにより、イオン化成膜材料粒子Ｍｂ_１（Ｍｂ_２）に対する被処理物１１の暴露時間をＹ軸方向に沿って変化させる膜厚補正板８，９と、開口部１０ｇに設けられＸ軸方向に開閉するシャッタ７ａ及び７ｂとを備える。膜厚補正板８，９は、その形状が互いに異なっており、Ｚ軸方向に並設されている。一方の膜厚補正板９はシャッタ７ａに固定されており、シャッタ７ａは、開閉の途中で停止可能となっている。 （もっと読む）

【課題】真空状態を維持したまま簡易な機構によってマスクを交換できる成膜装置を提供する。
【解決手段】真空容器１０は、被処理物１４を搭載するための二つのキャリア１１、各キャリア１１に搭載されたマスク１３、及び各キャリア１１において各マスク１３を支持するマスクホルダ１２を収容しておくためのマスクストック室１０ｃと、成膜材料Ｍａ_１を拡散させるための成膜室１０ｂと、成膜室１０ｂ上に配置され、所定の搬送方向Ａに延びており、その一端がマスクストック室１０ｃに繋がっている搬送室１０ａとを有する。また、成膜装置１は、搬送室１０ａ内に設けられ、キャリア１１を搬送方向Ａに搬送するための搬送機構３と、真空容器１０内において被処理物１４をマスク１３、マスクホルダ１２、及びキャリア１１から分離して支持するための被処理物支持部２とを備える。 （もっと読む）

【課題】 長時間の放電維持が可能で、安定的な放電維持特性を有する中空カソード放電ガンを提供する。
【解決手段】 放電空間をなす中空を有し、一端に、前記中空にガスを流入するための第１開口部を有し、他端に、前記中空からガスを流出するための第２開口部を有する金属チューブと、前記金属チューブに長手方向に挿入されるフィラメントと、前記金属チューブ内の前記フィラメントの周囲に装着され、前記フィラメントの加熱によって２次電子を発生し、所定間隔で離隔される少なくとも二つ以上の電子放射部材とを含む。
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【課題】 物理蒸着法を用いて膜厚分布をより均一にできる成膜装置を提供する。
【解決手段】 成膜装置１は、搬送室１０ａ及び成膜室１０ｂを含む真空容器１０と、成膜室１０ｂ内に設けられ成膜材料Ｍａを保持する主陽極２と、被処理物１１を搬送する搬送機構３と、成膜室１０ｂ内にプラズマＰを発生させるプラズマ源５と、磁力線発生機構７とを備える。成膜材料Ｍａは、プラズマＰにより加熱され、蒸発してイオン化成膜材料粒子Ｍｂとなる。磁力線発生機構７は、被処理物１１の表面（成膜面）側に配置されており、イオン化成膜材料粒子Ｍｂの飛行経路と交差する面内に磁力線を形成する。イオン化成膜材料粒子Ｍｂは、これらの磁力線により電磁力を受け、その飛行経路が曲げられる。 （もっと読む）

【課題】
真空蒸着において基板表面に良質で安定した膜質を成膜できる真空成膜方法、及び真空成膜装置を提供する。
【解決手段】
蒸着材料を真空中で脱ガス処理し、大気開放することなく成膜室へ供給し、前記蒸着材料の薄膜を基板へ成膜することを特徴とし、上記脱ガス処理が抵抗加熱装置、ヒーター、赤外線ランプ、高周波誘導加熱装置、電子銃による電子線照射装置、プラズマ発生装置のいずれかであり、上記蒸着材料の脱ガス処理を、窒素ガス、アルゴンガスもしくは水素ガスのいずれか１つの雰囲気中で行い、上記脱ガス処理後の蒸着材料の含水率が１．０％以下であることも特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた初期特性が長期間維持された発光素子、例えば有機ＥＬ発光素子、を得ることができる導電性基板を提供する。
【解決手段】透明基材と少なくとも１層のＩＴＯ層とからなる導電性基板であって、その体積抵抗が８×１０^−４Ωcm以下であり、全光線透過率が７５％以上であり、かつＩＴＯ層中の錫の含有量１５〜４０％であることを特徴する、導電性基板。 （もっと読む）

【課題】優れた初期特性が長期間維持された発光素子、例えば有機ＥＬ発光素子、を得ることができる導電性基板を提供する。
【解決手段】Ｘ線回折法による（２２２）面に相当する２θピークの積分強度Ａと（４４０）面に相当する２θピークの積分強度Ｃとの積分強度比Ａ／Ｃが５．０以上であるＩＴＯ膜が形成されていることを特徴とする、導電性基板。 （もっと読む）

【課題】均一な超撥水膜を成膜することができるプラズマ成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】円柱状又は短冊状で軸中心部３１ａが周辺部３１よりも密度が高い分布をもつプラズマを用い、圧力が高く気体の拡散が少ない雰囲気下で気相成長もしくは重合により基板２８に成膜を行う成膜装置において、反応ガス３２を供給するガス管２７が複数に分岐され、該分岐されたガス管の噴出口はガス流が該プラズマの軸中心の周辺部に向かって噴出されるように配置され、かつ、該基板は成膜面３３の背面側から覆われるように囲い３６が設置されていることを特徴とするプラズマ成膜装置。 （もっと読む）

【課題】透明で導電性が良好な酸化亜鉛系透明導電性基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】圧力勾配型プラズマガンを用いてプラズマビームを供給し、酸化亜鉛を主成分とする蒸発材料の周囲に設けたビーム修正装置により該プラズマビームを該蒸発材料に集中させて、該蒸発材料を蒸発、イオン化させるイオンプレーティング法によって透明樹脂フィルム上に酸化亜鉛系透明導電膜を形成する方法において、透明樹脂フィルム基材を搬送させる際に透明樹脂フィルム基材を固定化する基板保持部材に透明樹脂フィルム基材を両端部から固定化できる引張治具を設けるか、又は透明樹脂フィルム基材成膜面の反対部である裏面に接触固定できる冷却板を設けて酸化亜鉛系透明導電膜を形成する事を特徴とする酸化亜鉛系透明導電性基板の製造方法。 （もっと読む）