【課題】外力による複屈折の変化、即ち光弾性係数の小さいアクリル系透明樹脂基板にハードコート層を有する事で表面硬度を高めたアクリル系樹脂積層体上に酸化亜鉛系透明導電膜を形成することにより、光学特性、透明導電膜との密着性、シート抵抗値の安定性および耐熱安定性の良好な透明導電性積層体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】アクリル系樹脂透明基板の片面もしくは両面に、１種以上のハードコート層が被覆されたアクリル系樹脂積層体上に、酸化亜鉛系透明導電膜が形成されてなる酸化亜鉛系透明導電性積層体。 （もっと読む）

【課題】透明で導電性が良好な酸化亜鉛系透明導電性基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】圧力勾配型プラズマガンを用いてプラズマビームを供給し、酸化亜鉛を主成分とする蒸発材料の周囲に設けたビーム修正装置により該プラズマビームを該蒸発材料に集中させて、該蒸発材料を蒸発、イオン化させるイオンプレーティング法によって透明樹脂フィルム上に酸化亜鉛系透明導電膜を形成する方法において、透明樹脂フィルム基材を搬送させる際に透明樹脂フィルム基材を固定化する基板保持部材に透明樹脂フィルム基材を両端部から固定化できる引張治具を設けるか、又は透明樹脂フィルム基材成膜面の反対部である裏面に接触固定できる冷却板を設けて酸化亜鉛系透明導電膜を形成する事を特徴とする酸化亜鉛系透明導電性基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】外力による複屈折の変化、即ち光弾性係数の小さいアクリル系透明樹脂基板にハードコート層、無機バリア層を有する事で表面硬度を高めたアクリル系樹脂積層体上に酸化亜鉛系透明導電膜を形成することにより、光学特性、透明導電膜との密着性、シート抵抗値の安定性および耐熱安定性の良好な透明導電性積層体及びその製造法を提供すること。
【解決手段】アクリル系樹脂透明基板の片面もしくは両面に、
Ａ．ハードコート層 及び
Ｂ．無機バリア層
が形成されたアクリル系樹脂積層体上に、酸化亜鉛系透明導電膜が形成されてなる酸化亜鉛系透明導電性積層体。 （もっと読む）

【課題】長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供すること、前記装飾品を提供することができる製造方法を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供すること。特に、環境に優しい方法で、前記装飾品、前記時計を提供すること。
【解決手段】本発明の装飾品１Ａは、少なくとも表面付近の一部が主としてＴｉおよび／またはステンレス鋼で構成された基材２と、基材２上に設けられ、主としてＰｔＣＮで構成された被膜３とを有し、被膜３の表面粗さＲａが０．３μｍ未満である。このような装飾品１Ａは、ＣおよびＮを含む雰囲気中で、開口部の形状が略円形の収納器に収納したＰｔに電子ビームを照射し、基材２上に被膜３を形成することにより得られる。被膜３を形成する工程における、電子ビームのビーム径をＤ_Ｂ［ｍｍ］、前記収納器の前記開口部の内径をＤ_Ｈ［ｍｍ］としたとき、１≦Ｄ_Ｈ−Ｄ_Ｂ≦５の関係を満足する。 （もっと読む）

【課題】 イオンプレーティング法において、スプラッシュの発生を抑制し、又は発生することなしに、均質で高性能の酸化亜鉛系導電膜を与えるターゲットとその有用な製法を提供すること。
【解決手段】 酸化亜鉛主体の焼結体からなり、Ｘ線回折パターンにおいて（１００）、（００２）、（１０１）面による回折ピークを有し、該回折ピークの何れかの半値幅が０．１１０度以下である酸化亜鉛系導電膜形成用のイオンプレーティング用ターゲットを開示する。 （もっと読む）

【課題】 イオンプレーティング法において、スプラッシュの発生を抑制し、又は発生することなしに、均質で高性能の酸化亜鉛系導電膜を与えるターゲットとその有用な製法を提供すること。
【解決手段】 酸化亜鉛主体の焼結体からなり、外形から求められる体積に対する開空孔の割合が１５〜４０％で、閉空孔の割合が３．０％以下であり、イオンプレーティング時にスプラッシュを生じることのない酸化亜鉛系導電膜形成用のターゲットを開示する。 （もっと読む）

【目的】一部に真空アークプラズマを用いて、ドロップレットの影響を受けることなく高純度に、かつ円滑に単一膜、混合膜及び積層膜を成膜するプラズマ表面処理方法、プラズマ処理装置及びこれらを用いて処理された目的物を提供する。
【構成】２種類の第１プラズマ１６及び第２プラズマ１７を使用する。各プラズマは、第１プラズマ発生部２、第２プラズマ発生部３において真空雰囲気下に設定されたアーク放電部で真空アーク放電を行って発生させる真空アークプラズマであり、第１と第２プラズマ導入路２２、２３を介して共通輸送ダクト１０に導入される。このとき、第１及び第２プラズマ１６、１７を共通輸送ダクト１０に導入するタイミングを制御して、プラズマ処理部１内のワークＷ表面に対して積層膜形成等の表面処理加工が行われる。各プラズマ導入路のプラズマ導入角度は共通輸送ダクト１０の輸送方向に対して鋭角に設定されている。 （もっと読む）

【課題】 真空容器の真空状態を維持しつつハースを交換可能なハース機構及び成膜装置を提供する。
【解決手段】 ハース機構２は、成膜装置１の真空容器１０内の材料保持位置Ｂにおいて固形成膜材料Ｍａを保持するための機構である。ハース機構２は、上下方向に貫通しており固形成膜材料Ｍａを導入するための導入孔２１ａを有する複数のハース部材２１と、真空容器１０内に設けられ、複数のハース部材２１を搭載するとともに、複数のハース部材２１を材料保持位置Ｂの下方へ順次移動させるハース搭載部２２と、材料保持位置Ｂの下方において上下方向に移動可能に設けられ、ハース搭載部２２上に搭載されたハース部材２１を材料保持位置Ｂへ押し上げるハース押上げ部材２３ａと、材料保持位置Ｂの下方において上下方向に移動可能に設けられ、固形成膜材料Ｍａを押し上げる材料押上げ部材２４ａとを備える。 （もっと読む）

【課題】 物理蒸着法において、プラズマ照射によるクリーニング条件の制約を緩和できる成膜方法及び成膜装置を提供する。
【解決手段】 成膜装置１ａは、真空容器１０と、真空容器１０の成膜室１０ｂ内へプラズマビームＰを照射するプラズマガン４と、成膜室１０ｂ内に設けられ、成膜室１０ｂ内の所定位置ＣへプラズマビームＰを吸引する主陽極機構２と、被処理物５を支持する搬送機構３とを備える。主陽極機構２は、被処理物５のクリーニングの際に使用されるクリーニング用主陽極部材２１と、成膜材料Ｍａを保持しており成膜の際に使用される成膜用主陽極部材２２と、これらの主陽極部材２１及び２２を順に所定位置Ｃへ移送する移送機構２ａとを有する。 （もっと読む）

【目的】例えばＤＬＣ膜とバッファ膜といった多層膜を、ドロップレットの影響を受けることなく高純度に、かつ円滑に積層形成することのできるプラズマ表面処理方法、プラズマ処理装置及びそのプラズマ処理装置によって表面処理された被処理物の提供する。
【構成】２種類の第１プラズマ１６及び第２プラズマ１７を使用する。各プラズマは、第１プラズマ発生部２、第２プラズマ発生部３において真空雰囲気下に設定されたアーク放電部で真空アーク放電を行って発生させる真空アークプラズマである。各プラズマ発生に伴って生じるドロップレット２３を分離、除去して、第１プラズマ１６及び第２プラズマ１７を共通輸送ダクト１０を経由してプラズマ処理部１に誘導する。このとき、第１プラズマ１６及び第２プラズマ１７を共通輸送ダクト１０に導入するタイミングを制御して、プラズマ処理部１内のワークＷ表面に対して積層膜形成等の表面処理加工が行われる。 （もっと読む）

【課題】 成膜装置において、真空容器の真空状態を維持したまま真空容器内の被移送物を容易に移送できるハンドリング装置を提供する。
【解決手段】 ハンドリング装置４は、把持部４ａ、操作部４ｂ、連結部４ｃ、及び連結部支持部４ｄを備える。把持部４ａは、真空容器１０の内部に配置され、互いに開閉可能に結合された一対のロッド４３及び４４を有する。操作部４ｂは、真空容器１０の外部に配置され、ロッド４３及び４４の開閉を操作するためのハンドル４１ａ及び４１ｂを有する。連結部４ｃは、把持部４ａと操作部４ｂとを互いに連結し、操作部４ｂの動きをロッド４３及び４４へ伝達するシャフト４２ａ及び４２ｂを有する。連結部支持部４ｄは、連結部４ｃが挿通された屈曲可能な筒状部分４７を有し、筒状部分４７の一端及び他端のそれぞれにおいて真空容器１０及び連結部４ｃに気密に固定されている。 （もっと読む）

【課題】 真空容器の真空状態を解除して行う堆積物除去作業の頻度をより少なくできるハース機構及び成膜装置、並びに該ハース機構に好適に用いられるハンドリング機構を提供する。
【解決手段】 ハース機構２は、成膜材料Ｍａを保持する主ハース２１と、主ハース２１を取り囲む側壁２２ｂ〜２４ｂを有しており主ハース２１の周囲に多重に配置された複数のカバー２２〜２４を有する。カバー２２〜２４は、成膜材料Ｍａの堆積物Ｄによる主ハース２１と補助陽極６との短絡を防止する。また、堆積物Ｄが溜まったカバー２２、２３を順次移動することにより、カバー２２〜２４の全てに堆積物Ｄが溜まるまで真空容器１０の真空状態を維持したまま成膜作業を行えるので、真空容器１０の真空状態を解除して行う堆積物除去作業の頻度をより少なくできる。 （もっと読む）

【課題】 良質で圧壊の生じるおそれが低いＳｉＯタブレットを量産性高く製造する。
【解決手段】 一次焼成済みのＳｉＯタブレットを、真空或いは不活性ガス雰囲気下において、１０００℃以上１３９０℃以下の温度で二次焼成する。或いは、ＳｉＯ粉末を加圧成形した後、大気炉で１０００℃未満の温度で一次焼成し、一次焼成物を、真空或いは不活性ガス雰囲気下において、１０００℃以上１３９０℃以下の温度で二次焼成する。或いは、ＳｉＯ粉末を加圧成形した後、真空或いは不活性ガス雰囲気下において、１０００℃以上１３９０℃以下の温度で焼成する。 （もっと読む）

プラズマ処理プラントのためのプラズマ増幅器は、加工物（８）の処理、特にコーティングのために、グロー放電プラズマを増幅及び／または点火するためのデバイス（１、４）を備え、このデバイスには導電材料から作製された少なくとも１つの中空体（２、５）が備わっている。前記中空体は、少なくとも規定された圧力範囲及び電圧範囲で電気信号が中空体に印加されるとき、中空体の内側の放電に点火するための幾何学的条件が満たされるように構成される。中空体は少なくとも１つの開口を有し、これを通って、電荷担体が、プラズマの点火及び動作を促進するかまたは既存のプラズマを増幅するためにデバイスの周囲へ放電することができる。デバイスは、加工物と実質的に同じ電位が中空体に印加されるように、中空体を加工物と電気的に接触させる手段を備える。
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製造安定化装置および方法は、ＴｉＡｌＮ等の融点の大きく異なる金属成分を持つ多元系被膜を、単一のルツボ（３）と収束プラズマ（７）とを用いて、高原料利用効率で、膜質良く作製する。この時、原料（４）を蒸発させるに必要な電力を最初に供給し、その後、最初の電力より順次増大した電力を、必要な最大電力に至るまで繰り返して供給する。或いは、原料を蒸発させるに必要な最初の領域にプラズマ（７）を収束させるためのプラズマ制御を行い、続いて、最初のプラズマ領域より最大のプラズマ領域に至るまでプラズマを連続的に順次移動・拡大せしめるプラズマ制御を行い、原料の未溶融部位（４ｂ）を順次溶解させる。原料は、焼結体または圧粉成型体（４）とする。
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【課題】 各層間の接合強度が強く、耐久性に優れた金属積層体の提供。
【解決手段】 基材と、この基材の少なくとも一方の面に、バリア層と、金属薄膜層と、金属層とがこの順序で配置されていることを特徴とする、金属積層体。 （もっと読む）

【課題】 真空容器の真空状態を維持したまま膜厚分布の経時変化を補正できる膜厚補正機構、成膜装置、及び成膜方法を提供する。
【解決手段】 成膜装置１は、真空容器１０と、被処理物１１をＸ軸方向に搬送する搬送機構３と、搬送機構３に対しＺ軸方向に配置されて成膜材料Ｍａを保持する主陽極４と、膜厚補正板８とを有する。膜厚補正板８は、真空容器１０における搬送機構３と主陽極４との間の開口部１０ｇに設けられ、Ｘ軸方向における開口部の幅Ｗ（Ｙ）をＹ軸方向に沿って変化させることにより、成膜材料粒子Ｍｂに対する被処理物１１の暴露時間をＹ軸方向に沿って変化させる。また、膜厚補正板８は、主板８ａと、Ｙ軸方向における主板８ａの両端に配置された端板８ｂとを有し、端板８ｂは、主板８ａとは独立してＸ軸方向に移動可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬディスプレイデバイスに用いられた場合に、有機ＥＬ素子としての寿命を十分に長くでき、且つ、基板のフレキシビリティ性、基板の耐久性や強度を同時に十分満足できる有機ＥＬディスプレイデバイス用の基板を提供する。特に、ＩＴＯ膜の膜質を改善して、有機ＥＬ素子としての寿命を１０万時間を越えるようにできる有機ＥＬディスプレイデバイス用の基板を提供する。
【解決手段】 透明フレキシブル基材にＩＴＯ層からなる電極層を配設し、且つ、その水蒸気透過率が、１×１０^-2 g/ ｍ²/day 以下であるフレキシブル透明電極基板であって、ＩＴＯ層は、Ｘ線回折法における、そのＩＴＯ層の（２２２）面に相当する２θピークの積分強度Ａと（２１１）面に相当する２θピークの積分強度Ｂとの積分強度比Ａ／Ｂが３．０以上である。 （もっと読む）

【課題】 CVD法やPVD法によるセラミックス膜被成後に施される張力付与型コーティングの焼き付けや歪取焼鈍等の熱処理に対する窒化物や炭化物被膜と鋼板との密着性および絶縁コーティングとの密着性を高め、きわめて低い鉄損値を有する方向性電磁鋼板を提案する。
【解決手段】 無機鉱物質被膜のない鋼板表面にドライコーティング法により形成された結晶質の窒化物および／または炭化物被膜を有する方向性電磁鋼板において、該被膜の金属Ｍと窒素Ｎおよび／または炭素Ｃとのモル比がＭ／（Ｎ＋Ｃ）＜１．２を満たし、かつ被膜厚さ方向の被膜を構成する元素の濃度変動割合がそれぞれ30％未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 従来よりも低コストでＡｌ−Ｓｎ合金被膜を形成する。
【解決手段】 蒸発源１６を構成する銅製の坩堝１８内には、ＢＮ製のハースライナ２０が収容されており、このハースライナ２０の中に、Ａｌ−Ｓｎ合金被膜の材料となる蒸発材料２２が充填されている。つまり、蒸発材料２２と坩堝１８との間に、低熱伝導率のハースライナ２０が介在している状態にある。従って、蒸発材料２２の熱が坩堝１８に伝わり難くなり、これによって当該蒸発材料２２を十分に加熱し、蒸発させることができる。その結果、従来よりも高い成膜速度を得ることができ、ひいては成膜コストを低減することができる。 （もっと読む）