【課題】保護膜層を蒸着させる装置及び該装置を利用した蒸着方法を提供する。
【解決手段】基板投入口から基板が装入され基板がキャリアに装着される空間を提供するアンチ・ハイドレーション・モジュールと、アンチ・ハイドレーション・モジュールと連結され真空を維持するロードロック・チャンバと、ロードロック・チャンバと連結されキャリアに装着された基板が移送される複数の真空チャンバと、真空チャンバ内に設けられた蒸着室と、蒸着室内に設けられ基板上に保護膜層の元素材を蒸着させるターゲット部と、アンチ・ハイドレーション・モジュールとロードロック・チャンバと真空チャンバと蒸着室とに連続的に設けられキャリア上に装着された基板を移送させる移送部と、アンチ・ハイドレーション・モジュールとロードロック・チャンバと真空チャンバと蒸着室との境界部に設けられ各空間を選択的に開閉させるゲート弁と、を備えることで保護膜層を蒸着させる。 （もっと読む）

【課題】被処理基板とのアライメントマークと、支持基板とチップとを接合する際のアライメントマークとを高い位置精度で形成することのできる成膜用マスク部材、およびこの成膜用マスク部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】マスク開口部２２が形成されたチップ２０を支持基板３０に対して固定することにより形成される成膜用マスク部材１０において、チップ２０の上面２０ｘには、支持基板との位置合わせ用の第１アライメントマーク２４と、被処理基板との位置合わせ用の第２アライメントマーク２５とが形成されている。第１アライメントマーク２４は貫通穴である。 （もっと読む）

【課題】長尺の可撓性樹脂基板において、透明導電膜パターンのマスクパターニングの実現手段を提供することであり、可撓性樹脂基板において、透明導電膜パターン形成を連続的に行うことで、品質が高く、生産性が高いコストダウン可能な透明導電膜形成装置を提供することにある。また、これに用いるマスク部材、前記の形成装置により作製された有機ＥＬ用の透明導電膜樹脂基板を提供する。
【解決手段】真空槽１内を連続して搬送される長尺の可撓性樹脂基板上に、透明導電膜を形成する透明導電膜の形成装置において、可撓性樹脂基板２の搬送中に、パターン形成用のマスク部材を可撓性樹脂基板に密着し同期して移動させながら、マスク部材Ｍとの密着区間にて薄膜形成手段を用いてパターン成膜を行う透明導電膜の形成装置。 （もっと読む）

【課題】基板に対する膜厚分布補正を容易に実現し、膜厚均一性及び液晶配向性に優れた配向膜を得ることのできる成膜装置、成膜方法、液晶装置、並びにプロジェクタを提供する。
【解決手段】基板１５とターゲット１１との間に、基板１５に対する粒子の入射領域を規制する遮蔽板１２０と、基板１５に対する粒子の入射量を規制するコリメータ１１０とを有し、コリメータ１１０はターゲット１１の中心と基板１５の中心とを結ぶ線分ＰｔＰｓに沿って延在し、被成膜面１５ａに対して略垂直であるとともに線分ＰｔＰｓに対して交差した姿勢で配置される規制板１１１を基板１５の搬送方向に複数並設させてなり、規制板１１１はターゲット１１から見て基板１５の被成膜面１５ａと重なるように設けられ、基板１５のターゲット１１に遠い側よりも近い側に入射する粒子の密度を低減させる。 （もっと読む）

【課題】被処理基板に薄膜を形成した後、被処理基板に成膜用マスクを重ねて成膜した場合でも、先に形成した薄膜の損傷や剥離に起因する不具合が発生することのない成膜用マスクおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】被処理基板の下面に成膜用マスクのチップ２０の一方面２０ｘを重ねた状態で、薄膜パターン２６０ｃを形成する。次に、成膜用マスクをずらし、薄膜パターン２６０ｃに対してマスク開口部２２が長手方向で隣接するように、被処理基板の下面に成膜用マスクのチップ２０を重ね、薄膜パターン２６０ｃの延長線上に薄膜パターン２６０ｄを形成する。その際、先に形成した薄膜パターン２６０ｃは、チップ２０の溝状凹部２６ｂの内部に位置し、チップ２０とは接触しないため、薄膜パターン２６０ｃが損傷せず、成膜用マスクを外す際に薄膜パターン２６０ｃが剥離することもない。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示装置の発光層等の蒸着のときにガラス基板との位置合わせが容易で、また強度が十分で正確な蒸着パターンの形成ができる成膜用精密マスクを提供する。更に、このような成膜用精密マスクを簡単かつ確実に製造する方法、有機ＥＬ表示装置及びその製造方法、有機ＥＬ表示装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】平行に所定の間隔をもって配置され、複数の第１の開口部２を形成する第１の梁３と、第１の梁３の上に当該第１の梁３に交差して配置され、複数の第２の開口部４を形成する１又は複数の第２の梁５とを備え、第１の梁３と第２の梁５とは交差部分で連結されているものである。 （もっと読む）

【課題】光ディスクなどの基板に内マスクを用いた枚葉式スパッタ装置でスパッタを行う際の、基板の歪みによる面ぶれ（うねり）や複屈折の増大を防止できる内マスク、及び該内マスクを用いた枚葉式スパッタ方法を提供
【解決手段】（１）基板の枚葉式スパッタ装置に用いられる内マスクであって、円板上の内マスク本体、及び内マスク本体の基板のスパッタ面に対向する対向面の外縁部に設けられ、基板のスパッタ面に接すると共に、スパッタにより蓄熱した基板から内マスク本体への放熱を阻害する放熱阻害部を備えたことを特徴とする内マスク。
（２）放熱阻害部が、対向面の外縁部に分散配置され、それぞれ基板のスパッタ面と点接触する複数の突起部、又は、外縁部の表面に環状に設けられた断熱部材である（１）に記載の内マスク。 （もっと読む）

【課題】大型化した場合でも、自重による下方の撓みを解消することのできる蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着マスク１０は、支持基板３０に複数のチップ２０を取り付けた構成を有している。支持基板３０は、熱膨張係数が大きな第１の板材３０Ａと熱膨張係数が小さな第２の板材３０Ｂとが接合された積層基板３０Ｃからなる。常温ではフラットであるが、蒸着時の輻射熱により加熱されると、積層基板３０Ｃのバイモルフ効果により中央部分が上方に撓む。それ故、蒸着時、蒸着マスク１０の自重による下方への撓みは、支持基板３０（積層基板３０Ｃ）の熱変形により吸収され、蒸着マスク１０の中央部分が自重により下方に撓むことを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】１回の蒸着工程により、被成膜領域毎に異なる膜厚の薄膜を形成することのできる蒸着用マスク、マスク蒸着法、および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】素子基板２に蒸着用マスク３１を重ねて蒸着を行い、素子基板２において、蒸着用マスク３１に形成されているマスク開口部３２に対応する領域に薄膜を形成する。その際、マスク開口部３２（Ｒ）、３２（Ｇ）、３２（Ｂ）では、出側開口３２２の面積に対する入側開口３２１の面積の比率を相違させてあるので、１回の蒸着工程を行なうだけで、比率が大きいマスク開口部３２（Ｒ）に対応する領域には膜厚の厚い電子注入輸送層７を形成でき、比率が小さいマスク開口部３２（Ｂ）に対応する領域には膜厚の薄い電子注入輸送層７を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】長穴形状のマスク開口部を複数、梁部を間に挟んで並列させた場合でも、梁部の側面同士の貼りつきを防止することのできる蒸着用マスクおよび該蒸着用マスクの製造方法を提供すること。
【解決手段】蒸着用マスク１０は、ベース基板をなす矩形の支持基板３０に、複数のチップ２０を複数、取り付けた構成を有しており、チップ２０には、成膜パターンに対応する長孔形状のマスク開口部２２が複数一定間隔で平行に並列した状態で形成されている。チップ２０において、マスク開口部２２で挟まれた梁部２７の側面２７ａには、微細な凹凸２７ｂが形成されている。このため、チップ２０の製造過程で乾燥工程を行なった際、梁部２７の側面２７ａ同士が貼り付いて剥がれなくなる事態を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板とマスクが最初に接触する領域を制御し、ガラス基板とマスクを密着させる工程での位置ずれを抑制する。
【解決手段】マスク１は、ガラス基板１０にマスク成膜するための複数の蒸気通孔からなるパターンを有するマスク部３と、マスク部３を固定支持するフレーム２と、を備える。マスク１の、ガラス基板１０と対向する面側には、マスク部３の外周に沿った外側フレーム部２ｂの中央部に位置するように一対の凹み４を形成しておく。一対の凹み４は、マスク１とガラス基板１０とを密着させる工程において、自重によって撓んだガラス基板１０の両端部が外側フレーム部２ｂに干渉して位置ずれが発生するのを防ぐ。 （もっと読む）

【課題】薄くて傷の無い透明導電膜を耐熱性の低い基材に形成し、低抵抗で導電性に優れた導電基材およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】導電基材１０は、第一基材１１と、この第一基材１１の一面１１ａに、接着層１２、補強層１３および透明導電膜１４が順に重ねて配されてなる。第一基材１１は、例えば樹脂製の基板から構成されれば良い。補強層１３は、例えば、導電性高分子膜または金属膜から構成されれば良い。 （もっと読む）

【課題】枠状又はリング状に全周が繋がっている成膜パターンを形成することが可能な成膜用治具を提供する。
【解決手段】少なくとも一方の面２２に水晶ウエハ１０を配置することが可能で、且つ埋め込まれた磁石２１により磁力を有するベース部材２０と、ベース部材２０の一方の面２２上であって、ベース部材２０に埋め込まれた磁石２１の磁力により引き付けられる位置に配置される磁性体のマスク部材３０と、を備え、ベース部材２０に水晶ウエハ１０を配置したとき、ベース部材２０とマスク部材３０との間に水晶ウエハ１０が介在することが可能であり、マスク部材３０は、平面視して、水晶ウエハ１０よりも外形が小さく、水晶ウエハ１０の一部が、マスク部材３０から全周にわたり露出していることを特徴とする。 （もっと読む）

フレキシブルで細長い基板上に積層電子デバイスを形成する方法及びシステムが記載される。積層電子デバイスは、少なくとも１つの電子活性層又は光学活性層を含む。電子デバイスの１つ以上の層の成膜は、フレキシブル基板が１つ以上ステーションを介して移動される際に生じる。各成膜ステーションで、基板は、パターンに配置された開口を有するアパーチャマスクと整列される。アパーチャマスク及び基板は、回転ドラムの周囲の一部の上に近接される。積層電子デバイスの層は、アパーチャマスクの開口を介して材料の成膜により形成される。各成膜ステーションで、積層電子デバイスの少なくとも２つの層の間の位置合わせが維持される。
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【課題】枠状やリング状のような全周が繋がっている成膜パターンを形成することができる成膜用治具を提供する。
【解決手段】水晶ウエハ１０を載置することが可能なベース部材２０と、ベース部材２０に載置され、水晶ウエハ１０の少なくとも一部を露出することが可能な開口部３１を有するガイド部材３０と、開口部３１より外形が小さく、平面視して開口部３１内であって、開口部３１の縁から全周にわたり隙間を設けて配置されたマスク部材４０と、ガイド部材３０とマスク部材４０とを結合するブリッジ部材５０と、を備え、ブリッジ部材５０のうち、側面視して隙間上に配置された部分は、マスク部材４０におけるベース部材２０に対向する下面４１より上方に、所定の間隔を空けて配置されている。 （もっと読む）

【課題】ターゲットの使用効率を高めながら、γ電子、反跳Ａｒイオンなどによる基板へのダメージを抑えたマグネトロンスパッタリング装置の提供。
【解決手段】ターゲット２の裏面と対向した支持プレート１１と、支持プレート１１の中心を通る法線から中心が離れて位置する支持プレート１１に支持されたカソードマグネット１２とを含んだマグネットプレート１０と、ターゲット２と対向する基板３との間に設置され、マグネット１２に対応して法線からずれた位置に中心を有する開口２２が設けられた遮蔽板２１と、開口２２の周囲に同極性の磁極が開口の中心を向くように放射状に配置された複数のトラップマグネット２３とを含んだトラップ２０と、開口２２のマグネット１２に対する相対位置を一定に保ちながら、マグネットプレート１０とトラップ２０とを法線の周りでターゲット２に対して相対的に回転させる駆動機構とを含む装置。 （もっと読む）

【課題】マスクを製造するに際して、圧延方向とストライプ長手方向とが同一である開口領域を形成することによって、大型分割マスクを製作することができると共に、マスクの信頼性を向上させることができるマスクとマスクの製造方法及びこれを用いた有機電界発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るマスクは、マスク上に形成された１つまたは複数のマスクアラインメントマークと、前記マスク上に形成され、且つ蒸着物を遮断する遮断領域と、前記マスク上に形成され、且つ前記蒸着物が通過する開口領域と、を備え、前記１つまたは複数のマスクアラインメントマークは、前記開口領域の外側に形成され、前記開口領域の形状は、ストライプ形状であり、前記マスク基板の圧延方向と前記ストライプ形状の長手方向とが同一である。 （もっと読む）

【課題】高精度のパターン形成を可能にする有機ＴＦＴ製造用蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】本発明の有機ＴＦＴ製造用蒸着用マスクは、有機ＴＦＴの、ソース及びドレイン電極と、有機半導体層と、ゲート電極のうちの少なくとも１つのパターンの形成を蒸着によって行う際に用いられる有機ＴＦＴ製造用蒸着用マスクであって、前記蒸着用マスクは、被蒸着基板側に向いた第１表面と、蒸着源側に向いた第２表面とを有し、第１表面は、前記パターンを形成するための少なくとも１つの開口部を有する第１開口窓を有し、第２表面は、第１開口窓の全ての開口部を囲む最短の外郭線からなる形状と実質的に同一形状の第２開口窓を有し、第１表面と第２表面との間の距離Ｄと、第２開口窓のチャネル長方向の開口幅Ｈは、Ｄ＞Ｈの関係であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】チップが固定されていた支持基板を好適に回収して再利用することのできるマスクおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】複数のチップ２０を保持する支持基板３０を有するマスク１０において、アライメントマーク３３、３４は、板状ガラスからなる支持基板３０の厚さ方向の途中位置にレーザ光を照射してガラスを改質させることにより形成されている。このため、複数のチップ２０のいずれかに不具合が発見されたときに、チップ２０を除去して支持基板３０を回収する際、アライメントマーク３３、３４が消失しないので、回収した支持基板３０を用いて再度、マスク１０を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】 製品の一部に局部的な蒸着等を行う場合のマスク治具として、比較的安価に作製でき、軽量で取り扱いやすく、製品に傷を付けるような不具合がなく、見切り線がシャープに形成できるようにする。
【解決手段】 樹脂シート材料３ｘを加熱軟化させた後、見切り線に対応する箇所ｍ´に沿って吸引スリット１１を有する真空成形型１０を使用して真空成形し、これと同時に、プラグ１５で見切り線に対応するシート部分周辺を押圧することで、見切り線ｍに対応するシート部分の厚みを見切り線に向かって徐々に薄肉にする。また、吸引スリット１１内に多孔質部材１４を設け、多孔質部材１４の上端で、シート材料３ｘに鋭角部ｅが形成されるようにする。 （もっと読む）