【課題】
本発明は、スパッタリング法を用いて基板上にパターン形成する際に、薄膜パターンのエッジ形状が良好なスパッタリング成膜用マスクを提供することを目的とする。
【解決手段】
スパッタリング法にて基板上に薄膜パターンを形成する際に用いる薄膜パターンに対応した開口パターンを有するスパッタリング成膜用マスクにおいて、前記マスクの開口パターンを形成する部分の断面形状が成膜時の基板側の面に対しテーパー形状であり、且つ、前記マスクの開口パターンを形成する部分の断面のテーパー形状におけるテーパー角が３０゜以上６０゜以下であることを特徴とするスパッタリング成膜用マスクとする。 （もっと読む）

【課題】複数のマスクを用いて大型基板の表面を覆う際にフレームレス構造を実現可能とする極めて実用性に秀れた有機ＥＬ素子形成用のマスク等を提供する。
【解決手段】表面にメッキ法により金属層３が設けられた有機ＥＬ素子形成用マスクであって、金属層３を設けたマスク表面の一部にこの金属層３を有しない画定された領域４と、この領域４内に金属層３で形成するマスク側アライメントマーク５とを設けて、このマスク側アライメントマーク５と、前記基板１に設けた基板側アライメントマーク６とを用いてアライメント調整を行えるように構成したもの。 （もっと読む）

本発明は、多数のナノシリンダーがその上に施与されており、その際、それぞれのナノシリンダーは少なくとも４の上下に重なって存在している、１〜１０原子層からなる層を有する基板からなる部材の製造方法に関する。該層は、交互に磁性の元素の原子Ｍと非磁性の元素の原子Ｘとからなり、その際、有利にはＭ＝Ｆｅ、ＣｏまたはＮｉ、およびＸ＝Ｐｄ、Ｐｔ、ＲｈまたはＡｕが選択される。層の数および厚さは、ナノシリンダーの磁気特性に影響を与える。このために、まず準備した基板を、Ａｌ₂Ｏ₃からなるナノポーラス膜により被覆する。引き続き、該ナノポーラス膜により覆われた基板に交互に磁性の元素の原子Ｍと非磁性の元素の原子Ｘとを蒸着させる。最後に、膜の細孔の箇所にナノシリンダーが残るよう膜を除去する。本発明により製造された部材は、磁気メモリー媒体として、回路素子として、またはセンサーとして使用される。 （もっと読む）

【課題】平面性が向上された蒸着マスクおよびその製造方法を提供する
【解決手段】多数独立の蒸着通孔５からなる蒸着パターン６をパターン形成領域４内に備えるマスク本体２と、マスク本体２の外周に配置された、低熱線膨張係数の材質からなるマスク本体２の補強用の枠体３とからなり、マスク本体２のパターン形成領域４の外周縁４ａと枠体３とは、電鋳法により形成された電着金属層９を介して不離一体的に接合してあって、枠体３の上面に応力緩和部４３を設ける。これにて、内部応力が発生しにくい構成、つまり、うねりが生じない構成となり、平面性が向上された蒸着マスクを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】成膜用マスクの反りによるパターン精度の劣化を防ぐ。
【解決手段】成膜材料の蒸気を通すパターン１３を有するマスク部１１をフレーム１２の片面に固定し、フレーム１２の反対面に、マスク部１１のパターン１３に対応する開口部１４ａを備えたテンション部材１４を、張力を加えた引張状態で固定する。マスク部１１による引張応力がテンション部材１４の張力によって相殺され、マスク全体の剛性が強化されるため、マスク部１１の反りによるパターン精度の劣化を防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】透明電極成膜において有機薄膜上に透明電極をスパッタリング法により成膜する際、有機薄膜上への二次電子飛散によるチャージアップやスパッタリングダメージを抑制するとともに、ターゲット１２の温度上昇をバッキングプレート下部を流れる冷却水をチラー等により強制冷却させることで抑え、ターゲット１２輻射熱によるマスク変形（たわみ）を抑制する方法を提供する。
【解決手段】有機薄膜上への透明電極成膜をチャージアップを起こさず、かつスパッタリングダメージを抑制させながら行う方法であって、最終成膜プロセスがスパッタリング法である透明有機電界発光素子やトップエミッション型有機電界発光素子においては特性（駆動、寿命等）向上が期待できる。 （もっと読む）

【課題】高分子フィルム等の薄膜形成用基材表面に所定のパターンを有する薄膜を、スパッタリング法により形成するに際し、高品質なパターンを効率よく形成することができるマグネトロン型スパッタ装置、及び成膜方法を提供する。
【解決手段】内側に磁場発生手段と冷却手段とが設置され、外周面にスパッタ材料の層が形成されてなる、円筒形状のマグネトロン型回転カソードターゲットと、外周面に所定のパターンで形成された開口を有し、前記ターゲットの外周を取り囲むように、前記ターゲットと離間して設置された円筒形状のマスク部材とを備え、前記マスク部材の外周面に薄膜形成用基材を配置した後、前記ターゲットの内部を冷却手段により冷却し、該ターゲットを円筒軸の周りに回転させながら放電を行うことにより、前記薄膜形成用基材の表面に所定のパターンを有する薄膜を成膜するマグネトロン型スパッタ装置、及びこの成膜装置を用いる成膜方法。 （もっと読む）

【課題】透明基板上にブラックマトリックスを形成後、着色層を順次形成たカラーフィルタ層上に形成する透明導電膜の形成時に用いる格子部を有するスパッタ用メタルマスクにおいて、スパッタ用メタルマスクの格子部の形状を変更することでこの透明導電膜の電極の膜厚ダレのエリア幅をより狭くするスパッタ用メタルマスクを提供することである。
【解決手段】透明導電膜の非成膜エリアを設けるために用いる前記スパッタ用メタルマスクは、透明基板と接する側と反対の表面側の格子部が凸型、又は台形型の段差形状に形成してあり、透明基板と接する側が広くその反対の表面側が狭い傾斜であり、その凸型、又は台形型の傾斜角が３０〜６０度であり、透明基板と接する側に樹脂からなる層を設けたスパッタ用メタルマスク。 （もっと読む）

【課題】有機高分子層を形成した基板上に薄膜をパターン形成する際に使用する薄膜パターン化用マスクにおいて、基板上に形成された有機高分子膜にキズをつけることなく、薄膜のパターン化が可能な薄膜パターン化用マスクを提供する。
【解決手段】有機高分子層４が形成された基板２上に薄膜パターン３を形成するための開口部と、薄膜パターンを形成しないようにする遮蔽部とを有し、該遮蔽部の該有機高分子層と接触する側の面に突起部６を有する薄膜パターン形成用マスク１の製造方法であって、該突起部側面および該突起部頂部の少なくとも一部に熱可塑性樹脂を塗布し、その後熱処理することを特徴とする薄膜パターン形成用マスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】有機高分子層を形成した基板上に薄膜をパターン形成する際に使用する薄膜パターン化用マスクにおいて、基板上に形成された有機高分子膜にキズをつけることなく、薄膜のパターン化が可能な薄膜パターン化用マスクを提供する。
【解決手段】有機高分子層を形成した基板上に薄膜をパターン形成するための開口部と開口部以外のフレーム部を有する薄膜パターン化用マスクであって、該フレーム部が開口部の周囲をハーフエッチングした周辺部、および周辺部以外であってハーフエッチングにより凹凸が形成された中心部を有し、かつ樹脂膜が周辺部と中心部の境界となる境界部以外にパターン形成されていることを特徴とする薄膜パターン化用マスク。 （もっと読む）

【課題】画素の発光中心位置をより正確に配置することが可能な有機ＥＬディスプレイの製造技術およびそれに関連する技術を提供する。
【解決手段】有機ＥＬディスプレイの製造方法は、複数の開口を有するマスクを被処理基板に対して位置決めする工程と、当該マスクを用いた蒸着によって複数の画素のそれぞれに対応する有機膜を形成する工程とを含む。マスクの各開口の中心位置は、それぞれ、対応画素の理想中心位置からマスク内の基準位置側に向けてシフトされている。 （もっと読む）

【課題】必要時にチップを除去して、マスクの再生を容易かつ確実に行い得るマスクの再生方法を提供すること。
【解決手段】本発明のマスクの再生方法は、主としてガラスで構成され、開口領域４２を備える支持基板４に、主としてシリコンで構成され、開口領域４２より開口面積の小さい複数の貫通部５２を備えるチップ５を、支持基板４の開口領域４２を覆うように接合してなるマスク３を再生する方法であり、マスク３に、ガラスよりシリコンに対する溶解度が高い第１の処理液を接触させて、支持基板４からチップ５を除去する第１の工程と、支持基板４の開口領域４２を覆うように、新たなチップ５を接合する第２の工程とを有する。第１の処理液には、アルカリ物質を含むアルカリ液を用いるのが好ましく、第２の処理液には、硫酸と過酸化水素水とを含むものを用いるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、本発明の目的は、高輝度を実現可能な蒸着パターンのディスプレイを得ることができ、マスクの変形を防止することができるマスク、及びマスクを使用して製造するディスプレイの製造方法を提供することである。
【解決手段】
多数の開口４が形成されたプレート５を備えた蒸着マスクにおいて、
前記プレート５は、隣接する前記開口４間に位置する領域が断面凹状を成す凹部６を有することを特徴とする蒸着マスク。 （もっと読む）

【課題】マスク成膜によるパターン形成時の熱負荷によるマスクの熱変形を抑制する。
【解決手段】パターンを形成する基板２の第１面側に配設されたマスク１と、基板２の第２面側からマスク１の温度を制御する複数のペルチェ素子５および冷却板６とを備え、各ペルチェ素子５の冷却力をマスク１の複数の領域ごとにそれぞれ制御する。例えば、成膜手段３に対向するマスク中央部はマスク周辺部より高温となるため、マスク中央部に配設されたペルチェ素子５の冷却力を高めてマスク全面を均一に冷却し、成膜中のマスク１の熱変形によるパターンの位置ずれや形状不良を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】マスクの寿命を長く維持することが可能な基板ホルダ及び基板ホルダの取扱方法を提供する。
【解決手段】基板ホルダＷＨは、成膜対象である基板Ｗの一部を覆うパターンを有するマスクＭと、マスクＭを搭載するマスクフレームＦと、マスクフレームＦとの間でマスクＭとその上に搭載される基板Ｗとを挟持するホルダＨと、マスクフレームＦ及びホルダＨの一方に設けられた位置決め突起６０と、マスクフレームＦ及びホルダＨの他方に設けられ、位置決め突起６０が挿通されて、ホルダＨとマスクフレームＦとを位置決めする位置決め穴８０と、位置決め穴８０に隣接して設けられ、位置決め突起６０の先端部が係合される係合部８２と、を備え、位置決め突起６０の先端部が係合部８２に係合された状態では、マスクＭから離間してマスクフレームＦ上でホルダＨを支持可能である。 （もっと読む）

【課題】アンダコート用マスクおよび蒸着用マスクとして兼用ができ、繰り返して使用することができて、かつ、成形品への傷やゴミの付着を発生させずに、低コストで、生産性が高く、電磁波シールド膜を成膜することができるアンダコート用および蒸着用マスク治具と、これを用いた電磁波シールド膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】耐食性の高い金属または合金からなるケース（１）により構成され、ケース（１）は、開口部（１１、１２、１３）を備える上型（１０）と、下型（２０）とからなる。開口部には、マスク部（１１ａ、１２ａ、１３ａ）がそれぞれ設けられている。なお、下型（２０）にも、アンダコートおよび蒸着のための開口部があってもよい。 （もっと読む）

【課題】例えば、陰極のような線状体を優れた寸法精度で形成することができる気相成膜法で用いられるマスク、かかるマスクを用いて線状体を形成する成膜方法、かかる成膜方法により形成された線状体を備える特性の高い発光装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】マスク４０は、基板の一方の面側を固定し、他方の面側より気相プロセスにより供給し、ほぼ平行に併設される複数の線状体を、基板の表面に形成するのに用いられ、前記線状体のパターンに対応する複数の開口部４２を有するマスク本体４１と、開口部４２を横断するように設けられ、自重によるマスク本体５１の変形を防止する機能を有する補強梁４４とを備え、この補強梁４４は、開口部４２の厚さ方向において、前記他方の面側に偏在するように設けられている。 （もっと読む）

開口マスクアセンブリは、回転フレームと、開口を持つマスクとを包含する。マスクに張力を印加し、フレームにより規定される形状にマスクを適合させるのに、クランプ装置が使用される。フレームの軸に対して実質的に平行な方向に、及び／又はフレームにより規定される形状の周面において、マスクに張力が印加される。回転フレーム内に設けられた堆積源から発散される堆積材料は、マスク開口を通してウェブに堆積される。
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【課題】
本発明の目的は、高輝度を実現可能な蒸着パターンのディスプレイを得ることができ、マスクの変形を防止することができるマスク、マスク固定装置、及びマスクを使用して製造するディスプレイの製造方法を提供することである。
【解決手段】
基板９に対して薄膜を形成するためのマスク１において、多数の開口２を有するプレート４と、前記開口２の非形成領域に位置する前記プレート４上に設けられ、前記プレート４を前記基板９側に押圧するための押圧部材５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 複数のマスク部２を有するメタルマスク１にテンションを加えた状態で枠状のフレームに固定するに際し、各マスク部の位置を正確に位置決めする技術を提供する。
【解決手段】 メタルマスク１の各辺を、複数のテンションユニット１３で把持して引っ張り、メタルマスク１にテンションを加えると共に、そのメタルマスク１にガラススケール２５を重ね合わせ、メタルマスク１に形成したアラインメント用マーク６の原点が、ガラススケール２５に形成した基準マークの基準点に一致するように、テンション調整することで各マスク部２の位置を正確に位置決めする構成とし、アラインメント用マーク６として、ハーフエッチングで形成した十字マークと４対の円形マークを用いることで、位置決め作業を容易とすると共に各アラインメント用マークが示す原点の位置精度を高め、高精度のアラインメントを可能とする。 （もっと読む）