【課題】 自重による撓みを容易に防止することができるマスク、マスクの製造方法、またこれらのマスクを用いた成膜装置等を提案することを目的とする。
【解決手段】 被成膜基板に対して第一パターンを有する薄膜を形成するためのマスクＭであって、第一パターンに対応する開口部２２を有する非磁性体基板Ｓと、非磁性体基板Ｓ上に第二パターンを有して配置された磁性体膜２８と、を備える。
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【課題】本発明は光の波長の違いによって反射率が変化することがなく均一な光透過率で多段階に濃度調整することが可能な光学フィルタを簡単な方法で安価に製造することの可能な光学フィルタの製造方法及びこれを用いた光学フィルタを提供する。
【解決手段】真空蒸着室（槽）内の所定位置に蒸着素材を収納したるつぼ（素材収納部）と基材プレートとを対向配置し、基材プレートに第１のマスク板を該基材プレートとマスク板とを略々平行で所定間隔の空間を形成して第１の蒸着処理を施し、次いで上記マスク板と異なるマスキング領域を有する第２のマスク板を上記基材プレートとの間に略々平行で所定間隔の空間を形成して第２の蒸着処理を施し、上記基材プレート上に複数の厚さの異なる皮膜層を形成する。 （もっと読む）

【課題】 マスクの大型化を図る場合でも、マスクを高精度に製造し、かつマスク製造の際の歩留りの低下を防止するとともに、被蒸着基板との位置合わせの高精度化を図ったマスクの製造方法を提供することを目的とする。
を提供する。
【解決手段】 本発明のマスク５０は、開口部４０が設けられたベース部材３８と、開口部２２が設けられベース部材３８の開口部４０に対応してベース部材３８に固定されたマスク部材２０と、被蒸着基板上に配置する際に位置合わせマークとして用いられ、ベース部材３８に固定された第１アライメントマーク２８を有するアライメント部材２７と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成で、異常放電などを引き起こすことなく、１枚のガラス基板から複数枚のパネルを安定に調製することを可能にする、基板へのスパッタ薄膜の形成方法および当該方法を実施するための搬送キャリアを提供すること。
【解決手段】 搬送キャリアを、四角形状の枠体と、枠体の対向する枠辺と枠辺の間に、枠体との間で絶縁した状態で、その両端を枠体の各枠辺と弾性部材を介して連結することでテンションを付加して架設した薄体状部材とから構成し、複数本の薄体状部材に、基板が搬送キャリアに載置されている状態を形成するための保持部材としての機能、および／または、基板における２つ以上のスパッタ薄膜形成領域を画定するためのマスク部材としての機能を担わせる。 （もっと読む）

【課題】 簡易にシート状のマスクの平坦化を図ることができ、成膜作業時間の短縮化を可能にし、成膜工程を有する自発光素子の製造において、生産性の向上を図る。
【解決手段】 成膜用マスク１は、マスクシート２と支持部材３を備える。マスクシート２は、被成膜対象の成膜領域に対応した開口パターンが形成された開口パターン形成領域２Ａを有し、磁性体で形成されている。支持部材３は、マスクシート２の開口パターン形成領域２Ａに対応した開口部３Ａを有すると共に、マスクシート２を吸着して平坦化する磁化された平坦面３Ｂを有している。 （もっと読む）

【課題】 本願発明は、簡易な構造で、現在要求される膜厚分布及びカバレージ分布を達成することのできるスパッタ装置を提供する。
【解決手段】 この発明は、基板を保持して自転する基板ホルダと、前記基板に薄膜を形成するためのターゲットが搭載されるスパッタカソード部と、該スパッタカソード部を前記基板に対して円弧状に移動させる駆動アームとを具備し、前記スパッタカソード部が、前記ターゲットに囲設され、前記基板側に開口部を有するノズル部を具備するスパッタ装置において、前記ノズル部の開口部に、前記スパッタカソード部の移動方向の両端から前記開口部の中央方向に延出して、前記スパッタカソード部の移動方向前後におけるスパッタ粒子を制限する延出部を形成することにある。 （もっと読む）

【課題】 検査精度のばらつきを無くすと共に、検査の作業速度を向上させることで表示パネルの生産性の向上を図る。
【解決手段】 基板上の表示領域に自発光素子の配置を特定すると同時に、表示領域以外の領域に基準マークを形成する前処理工程（Ｓ１）、成膜用マスクの開口パターンを介して発光材料を成膜して、表示領域に自発光素子の構成要素を成膜すると同時に、表示領域以外に成膜毎の位置検出マークを成膜する成膜工程（Ｓ２）、基準マークに可視光を照射すると共に位置検出マークにＵＶ光を照射し、基準マーク及び位置検出マークを撮像して得た画像データを画像処理することによって、基準マークに対する位置検出マークの位置を検出する位置検出工程（Ｓ３）、位置検出工程（Ｓ３）によって検出された基準マークに対する位置検出マークの位置に基づいて、自発光素子の配置に対する構成要素の成膜状態の良否を判定する検査工程（Ｓ４）を有する。 （もっと読む）

【課題】 複数のマスク部２を有するメタルマスク１にテンションを加えた状態で枠状のフレームに固定するに際し、各マスク部の位置を正確に位置決めする技術を提供する。
【解決手段】 メタルマスク１の各辺を、複数のテンションユニット１３で把持して引っ張り、メタルマスク１にテンションを加えると共に、そのメタルマスク１にガラススケール２５を重ね合わせ、メタルマスク１に形成した十字マークが、ガラススケール２５に形成した基準マークに一致するように、テンション調整することで各マスク部２の位置を正確に位置決めする構成とし、更にガラススケール２５の上面に金属板２６を固定して補強し、ガラススケール２５の撓みを抑制してガラススケール２５とメタルマスク１のギャップ寸法を均一とする。 （もっと読む）

【課題】 テンションを掛けて張った状態でフレームに固定して使用するメタルマスクにおいて、面内位置精度を正確に評価可能とする。
【解決手段】 多数の開口部３を備えたマスク部２を有するメタルマスク１の面内位置精度を正確に評価可能とするため、マスク部２の外側の複数個所に、画像処理することで中心位置を検出可能な位置精度評価用マーク９をハーフエッチングで形成しておき、その位置精度評価用マークの位置測定によって面内精度を正確に評価可能とする。 （もっと読む）

【課題】 被蒸着基板に精度良く所望の形状を蒸着可能なマスク及び有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】 被処理基板上に蒸着成膜するパターンに対応して、蒸着材料を通過させるための開口部を設けた薄板状のマスク１０であって、一定の方向に沿って開口された複数の開口部１２ａと、被処理基板と対向する一方の面の反対側となる他方の面に一定の方向に沿って設けられた桟部１５とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 マスクの大型化を図る場合でも、マスクを高精度に製造し、かつマスク製造の際の歩留りの低下を防止したマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のマスク５０の製造方法は、所定パターンの開口部２２が形成されたマスク部材２０をアライメント基板３８に配置するマスク部材配置工程と、マスク部材２０の開口部に対応する位置に開口部４０が形成されたベース部材３８をマスク部材２０上に配置するベース部材配置工程と、マスク部材２０にベース部材３８を固定する接合工程と、マスク部材２０が接合されたベース部材３８をアライメント基板３８から離反させる離反工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 成膜パターンを高精度に形成することができると共に、衝撃等による破損がない高強度のマスクを提供する。
【解決手段】 本発明のマスクは、（１００）面方位のシリコン基板からなり、該基板には所定パターンの複数のマスク開口部Ｈが形成されてなる一方、前記マスク開口部Ｈの壁面２０は、前記基板の主面に対して所定角度で傾斜する第１傾斜面２０Ａと、該第１傾斜面２０Ａと連なり、前記基板の主面に対して垂直方向に延びる垂直面２０Ｂと、前記垂直面２０Ｂと連なり、前記基板の主面に対して前記第１傾斜面２０Ａと同じ角度で傾斜する第２傾斜面２０Ｃと、を有してなり、前記第１傾斜面２０Ａ及び前記第２傾斜面２０Ｃは、前記材料供給部側から前記材料受容部側に向けて前記マスク開口部Ｈの開口径を小さくする方向に傾斜してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 複雑な膜パターンを確実に得ることができる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】 シリコンからなり、所定パターンの第１開口部３１を有するマスク部材３と、磁性材料からなるとともに、第２開口部４１を有し、該第２開口部４１の平面視内側に前記第１開口部３１が配設されるように前記マスク部材３に対して位置合わせされてなる磁性部材４と、前記磁性部材４との間で、該磁性部材４側から前記マスク部材３と被成膜基板２をこの順で挟み込むとともに、該磁性部材４との間で磁力を生じるものとされ、該磁力により、前記マスク部材３と前記被成膜基板２とを密着させる基板挟持用部材１と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 マスクにおける撓み発生を防止ないし抑制し、高精度な蒸着等のマスク成膜を容易に行うことができる成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明の成膜方法は、マスク１を介して被成膜基板４に膜パターンを形成する成膜方法であって、成膜材料の供給源１２側から、前記マスク１と、前記被成膜基板４と、該被成膜基板４との接面が平坦な第１部材５とを順に配設し、前記マスク１と前記第１部材４を磁力吸引しながらマスク成膜を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機電界発光ディスプレイ装置の有機電界発光素子を製造するために有機物層を蒸着する時、使用されるマスクにパターンが形成されるうちに印加される張力が、マスクのパターン形成部に均一に作用してパターンが曲がったり歪んだりすることを防止することができるシャドウマスクパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】マスクフレームに引張力が印加された状態に固定される固定部と、パターンが形成されるパターン形成部でなるマスクシートにパターンを形成する方法において、前記マスクシートの下部に相対的に厚い厚さを持つ補助シートを位置させる段階と、前記マスクシートと補助シートに前記引張力に対応する張力を印加しながら前記マスクシートと補助シートを一緒に固定する段階と、固定されたマスクシートのパターン形成部にパターンを形成する段階とからなる。 （もっと読む）

【課題】 マスクにおける撓み発生を防止ないし抑制し、高精度な蒸着等の成膜を容易に行うことができる成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明のマスク１００は、ベース基板１とマスク本体基板３との間に金属膜２を有してなり、ベース基板１は開口部１０を有し且つ硼珪酸ガラスを構成材料としてなる一方、金属膜２はベース基板１の開口部１０と連通する開口部２０を有し、マスク本体基板３は、開口部１０及び開口部２０の平面視内側に位置する所定パターンの開口部群３１を有し且つ硼珪酸ガラスを構成材料としてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 引張力を加えた状態でマスクフレームにまず溶接をし、レーザを利用して蒸着パターンを形成することによって大面積のマスク製作が容易で、かつ加工工程及び設備が簡単で加工時間を短縮が可能なシャドウマスクパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】 シャドウマスク１０をマスクフレーム２０上に付着させる段階と、前記附着されたシャドウマスク１０にパターンを形成する段階と、からなり、また、前記シャドウマスク１０を前記マスクフレーム２０上に付着させる段階は、前記シャドウマスク１０を前記マスクフレーム２０上に隣接させる段階と、前記シャドウマスク１０に外力を加える段階と、前記マスクフレーム２０上に外力が加えられた前記シャドウマスク１０を接合させる段階と、からなる。 （もっと読む）

【課題】
所望の多層膜周期長を有する多層膜反射鏡、その製造装置（成膜装置）等を提供すること。
【解決手段】
膜厚補正板の厚さをｄ、傾斜角をθとする場合、開口部内側面の遮蔽部としての寄与はｄ×ｓｉｎθである。厚さを０．５ｍｍとすると、膜厚補正板を３０°傾斜させた場合、膜厚補正板を傾けない場合に比べて開口率は約７１％に減少する。膜厚補正板の一部削って厚さを０．４ｍｍに減少させると、膜厚補正板を傾けない場合と比べた開口率の減少幅は縮小し、開口率は約７７％に縮小する。そこで、中央部分の厚さが０．５ｍｍであり、周辺部に向かって板の厚さが徐々に減少し、最周辺部で０．４ｍｍであった場合、この膜厚補正板を３０°傾けて配置して成膜を行えば、周辺部の開口率が周辺部に比べて約８％大きい状態で成膜を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 レジストをスピンコータにより塗布したときに、遠心力で広がったレジスト液がウエハの四隅に溜まり中央部分より厚膜になる。隅にレジスト膜の残渣がある状態で、従来のメタルマスクに装填して蒸着あるいはスパッタを行うと、レジストの残渣により上下のマスク２１、２３とウエハとの密着が悪くなり、形成する蒸着パターンの精度が劣化するという問題があった。
【解決手段】 複数の所定のパターンの開口窓５を有する上マスク２と、開口部６を有する中板３と、複数の所定のパターンの開口窓６を有する下マスク４とを備えたメタルマスクであって、前記上マスク２及び下マスク４の中板３に接する面の四隅に三角状のハーフエッチング１０，１１を施してメタルマスクを構成する。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬディスプレイの発光層の形成に好適な蒸着用のメタルマスクを得る。
【解決手段】 メタルマスク３５を、ベース基板１９の導電性膜２０上に配設されたレジスト２２により傾斜側壁を有する略台形形状凸部２２ａが配設された電鋳用マスク原版２５を用い、導電性膜２０上に電気めっきで、レジスト２２の略台形形状凸部２２ａの傾斜側壁に倣わせつつその高さ方向に所望の金属３４を析出させてから剥離して、このメタルマスク３５の開孔３５ａの内側壁に傾斜を形成し、蒸着に用いたとき発光有機材料による蒸発源と被成膜基材との間に影を作らないようにして、被成膜基材上に発光有機材料による均一な厚さを有する発光層を形成するようにした。 （もっと読む）