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Fターム[4K029JA08]の内容

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Fターム[4K029JA08]に分類される特許

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【課題】 難削材の重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、(a)0.5〜2μmの平均層厚を有し、かつ、組成式:(Ti1-ZAl)N(ただし、原子比で、Zは0.30〜0.70を示す)を満足する(Ti,Al)N層からなる基体密着層、(b)1〜5μmの平均層厚を有し、かつ、組成式:(Ti1-(X+Y)AlXSi)N(ただし、原子比で、Xは0.40〜0.70、Yは0.01〜0.20を示す)を満足する(Ti,Al,Si)N層からなる下部層、(c)0.1〜1.5μmの平均層厚を有する窒化バナジウム層からなる層間密着層、(d)1〜5μmの平均層厚を有する酸化バナジウム層からなる上部層で構成された硬質被覆層を形成してなる。 (もっと読む)


【課題】 難削材の重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットからなる超硬基体の表面に、(a)0.5〜2μmの平均層厚を有し、かつ、組成式:(Ti1-ZAl)N(ただし、原子比で、Zは0.30〜0.70を示す)を満足する(Ti,Al)N層からなる基体密着層、(b)1〜5μmの平均層厚を有し、かつ、組成式:(Ti1-(X+Y)AlX)N(ただし、原子比で、Xは0.40〜0.70、Yは0.01〜0.20を示す)を満足する(Ti,Al,B)N層からなる下部層、(c)0.1〜1.5μmの平均層厚を有する窒化バナジウム層からなる層間密着層、(d)1〜5μmの平均層厚を有する酸化バナジウム層からなる上部層、以上(a)〜(d)で構成された硬質被覆層を形成してなる。 (もっと読む)


【課題】難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、(a)1〜5μmの平均層厚を有し、かつ、層厚方向にそって、Al最高含有点とAl最低含有点とが所定間隔をおいて交互に繰り返し存在し、かつ前記Al最高含有点から前記Al最低含有点、前記Al最低含有点から前記Al最高含有点へAlおよびTi含有量がそれぞれ連続的に変化する成分濃度分布構造を有し、さらに、上記Al最高含有点と上記Al最低含有点が特定の組成式を満足し、かつ隣り合う上記Al最高含有点とAl最低含有点の間隔が、(Ti,Al,Si)N層からなる下部層、(b)CrN層からなる密着接合層、(c)Cr分散Cr層からなる上部層、以上(a)〜(c)で構成された硬質被覆層を形成してなる。 (もっと読む)


【課題】難削材の重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、(a)0.5〜2μmの平均層厚を有し、特定な組成式を満足する(Ti,Al)N層からなる基体密着層、(b)1〜5μmの平均層厚を有し、特定な組成式を満足する(Ti,Al,B)N層からなる下部層、(c)0.1〜1.5μmの平均層厚を有するCrN層からなる層間密着層、(d)1〜5μmの平均層厚を有し、かつCrの素地に、前記Crとの合量に占める割合で0.1〜5原子%の金属Crが分散分布した組織を有するCr分散Cr層からなる上部層、以上(a)〜(d)で構成された硬質被覆層を形成してなる。 (もっと読む)


【課題】難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具の提供。
【解決手段】表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、(a)1〜5μmの平均層厚を有し、かつ、層厚方向にそって、Al最高含有点とAl最低含有点とが所定間隔をおいて交互に繰り返し存在し、Al及びTi含有量がそれぞれ連続的に変化し、さらに、Al最高及び最低含有点が、特定な組成式を満足し、かつ隣り合う上記Al最高及び最低含有点との間隔が、0.01〜0.1μmである(Ti,Al)N層からなる下部層、(b)0.1〜1.5μmの平均層厚のCrN層からなる密着接合層、及び(c)1〜5μmの平均層厚を有し、かつCrの素地に、金属Crが分散分布した組織のCr分散Cr層からなる上部層とで構成された硬質被覆層を形成してなる。 (もっと読む)


【課題】 難削材の切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、(a)1〜5μmの平均層厚を有し、かつ、組成式:(Ti1-(X+Y)AlXSi)N(ただし、原子比で、Xは0.30〜0.70、Yは0.01〜0.10を示す)を満足する(Ti,Al,Si)N層からなる下部層、(b)0.1〜1.5μmの平均層厚を有するCrN層からなる密着接合層、(c)1〜5μmの平均層厚を有し、かつCrの素地に、前記Crとの合量に占める割合で0.1〜5原子%の金属Crが分散分布した組織を有するCr分散Cr層からなる上部層、以上(a)〜(c)で構成された硬質被覆層を形成してなる。 (もっと読む)


【課題】高反応性被削材の高速歯切加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆高速度工具鋼製歯切工具を提供する。
【解決手段】表面被覆高速度工具鋼製歯切工具が、高速度工具鋼基体の表面に、(a)いずれも(Ti,Al,Ta)Nからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は0.5〜1.5μm、前記下部層は2〜6μmの平均層厚をそれぞれ有し、(b)上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ5〜20nmの薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、上記薄層Aは、組成式:[Ti1-(A+B)AlTa]Nを満足する(Ti,Al,Ta)N層、上記薄層Bは、組成式:[Ti1-(C+D)AlTa]N(を満足する(Ti,Al,Ta)N層、からなり、(c)上記下部層は、単一相構造を有し、組成式:[Ti1-(E+F)AlTa]Nを満足する(Ti,Al,Ta)N層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 (もっと読む)


【課題】合金鋼の高速歯切加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆高速度工具鋼製歯切工具を提供する。
【解決手段】表面被覆高速度工具鋼製歯切工具が、高速度工具鋼基体の表面に、(a)いずれも(Ti,Al,Si)Nからなる上部層と下部層で構成し、上部層は0.5〜1.5μm、下部層は2〜6μmの平均層厚をそれぞれ有し、(b)上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ5〜20nmの薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、薄層A及びBは、特定の組成式を満足する(Ti,Al,Si)N層、からなり、(c)下部層は、単一相構造を有し特定の組成式を満足する(Ti,Al,Si)N層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 (もっと読む)


【課題】合金鋼の高速歯切加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆高速度工具鋼製歯切工具を提供する。
【解決手段】表面被覆高速度工具鋼製歯切工具が、高速度工具鋼基体の表面に、(a)いずれも(Ti,Al,B)Nからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は0.5〜1.5μm、前記下部層は2〜6μmの平均層厚をそれぞれ有し、(b)上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ5〜20nmの薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、上記薄層Aは、組成式:[Ti1-(E+F)Al]Nを満足する(Ti,Al,B)N層、上記薄層Bは、組成式:[Ti1-(M+N)Al]Nを満足する(Ti,Al,B)N層、からなり、(c)上記下部層は、単一相構造を有し、組成式:[Ti1-(X+Y)Al]Nを満足する(Ti,Al,B)N層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 (もっと読む)


【課題】 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆切削工具が、超硬基体の表面に、あるいは、高速度工具鋼基体の表面に、(a)いずれも(Cr,Al,Y)Nからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は0.5〜1.5μm、前記下部層は2〜6μmの平均層厚をそれぞれ有し、(b)上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ5〜20nm(ナノメ−タ−)の薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、(c)上記下部層は、単一相構造を有し、上記上部層の薄層Aと薄層Bおよび上記下部層はそれぞれ特定の組成式を満足する(Cr,Al,Y)N層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 (もっと読む)


【課題】 潤滑性被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具を構成する潤滑性被覆層が、密着接合層、下地潤滑層、および表面潤滑層からなり、(a)上記密着接合層を、0.1〜3μmの平均層厚を有しTiN層およびTiCN層のいずれか、または両方、(b)上記表面潤滑層を、1〜10μmの平均層厚を有し、炭素系非晶質体の素地に、結晶質炭窒化チタン系化合物の微粒が分散分布した組織を有する非晶質炭素系潤滑層、で構成し、さらに(c)上記下地潤滑層を、0.1〜3μmの平均層厚を有し、Ti、窒素、炭素、およびW成分の含有割合が、層厚に沿って、上記密着接合層の界面部における含有割合から上記表面潤滑層の界面部における含有割合に連続的または多段階的に変化する成分濃度変化構造を有する非晶質炭素系潤滑層、で構成する。 (もっと読む)


【課題】 酸化物薄膜を積層してなる反射偏光子において、異方性膜を作製する際に、光学異方性を有する酸化物薄膜を2層に積層された構成とし、第2層の膜は、第1層の膜に対して、ほぼ180°反転した向きから成膜することにより、膜厚と光学特性の均一性が確保された反射偏光子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 異方性を有する膜を2層として、第1層の膜に対して、第2層の膜をほぼ180°反転した方向から斜方成長させることによって、均一な膜厚と光学特性を実現する。 (もっと読む)


【課題】コストを抑えながら、メディアのデータ記憶能力を向上させ、正確なデータ位置制御を維持し、かつメディア・データの解像度を向上させるパターンド・メディア・インプリント・マスタを作製する装置、システム、および方法を提供する。
【解決手段】基板102および蒸着マスク110は、蒸着プロセスの間、基板および蒸着マスクが一体の要素として作用するように、間にあるスペーシング要素108によって固定的に取り付けられる。蒸着マスク110は、リソグラフィ・プロセスによって生成された複数の開口112を包含する。材料は、固有の蒸着角度で配向された1を越える蒸着源300から、蒸着マスク110を介して基板上に蒸着される。従って、得られる基板102の蒸着パターンは、蒸着マスク開口112の密度よりも高い密度を示す一方で、蒸着パターンの歪みが回避される。 (もっと読む)


【課題】初期投資コストおよびランニングコストの小さな薄膜生成装置と、これを用いた電子デバイスの製造方法を提案する。
【解決手段】蒸発物質を含んだ蒸発源HEが配置される蒸発空間C11と、蒸発物質を加熱し蒸発物質の蒸気を発生する加熱源EBとを有する蒸発室C1、蒸発室に固着され、圧力調整空間を有する圧力調整室C2、および圧力調整器に着脱可能に結合され、成膜空間を有する少なくとも1つの成膜室を備えた薄膜生成装置である。圧力調整空間C21は、第1、第2ゲートバルブにより蒸発空間と成膜空間にそれぞれ制御可能に連通される。成膜室が圧力調整室C2に結合され、圧力調整空間が蒸発空間と成膜空間とに連通した状態において、蒸発物質の蒸気に基づき、成膜空間に配置された基板S5上に薄膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】 成膜プロセス領域内の局所的な成膜レートの違いにより基板間で生じる膜厚の差を、膜厚分布に関する情報として取得することが可能な薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 薄膜形成装置1は、基板Sとターゲット22a、22bとの間において、ターゲット面上の異なる複数の位置に対応して配設され、成膜プロセス領域内での発光を夫々受光する複数の光ファイバ31−1〜31−5を備えている。光ファイバ31−1〜31−5で受光した光から成膜プロセス領域20から発光する光を夫々受光して、光学測定装置33で所定の波長における発光強度を測定することにより膜厚分布に関する情報を取得する。更に、取得した膜厚分布に関する情報に基づいて、スパッタガスの流量調整や補正小片を駆動制御することで、成膜レートを局所的に調整して基板間で均一な膜厚となるようにする。 (もっと読む)


【課題】硬質被覆層が断続重切削ですぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆サーメット製切削工具が、WC基超硬合金またはTiCN基サーメットからなる工具基体の表面に、組成式:(Ti1-X AlX )N(ただし、原子比で、Xは0.45〜0.70を示す)を満足し、かつ、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、表面研磨面の測定範囲内に存在する立方晶結晶格子を有する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である{100}面の法線がなす傾斜角を測定し、特定な傾斜角度数分布グラフを示し、かつ2〜15μmの平均層厚を有する(Ti,Al)N層からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 (もっと読む)


【課題】 硬質被覆層が高硬度鋼の断続重切削加工ですぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆立方晶窒化硼素基焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆立方晶窒化硼素基焼結材料製切削工具が、立方晶窒化硼素基焼結材料からなる工具基体の表面に、組成式:(Ti1-X AlX )N(ただし、原子比で、Xは0.45〜0.70を示す)を満足し、かつ、電界放出型走査電子顕微鏡を用い、表面研磨面の測定範囲内に存在する立方晶結晶格子を有する結晶粒個々に電子線を照射して、前記表面研磨面の法線に対して、前記結晶粒の結晶面である{100}面の法線がなす傾斜角を測定し、特定な傾斜角度数分布グラフを示し、かつ2〜15μmの平均層厚を有する(Ti,Al)N層からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 (もっと読む)


【課題】有機EL表示装置に適したアニール方法を提供する。
【解決手段】
成膜対象物71上にマスク10を配置し、孔11を通過する有機薄膜材料の蒸気によって有機薄膜層を形成した後、マスク10と成膜対象物71との間の相対的な位置関係を変えずに、マスク10のレーザ光29を照射する。孔11を通過したレーザ光29は孔11底面に露出する有機薄膜層に照射され、その有機薄膜層のアニールが行われる。アニール後、マスク10と成膜対象物71との相対的な位置関係を変えずに、孔11を通過した有機蒸着材料の蒸気によって、アニール後の有機薄膜層表面に他の有機薄膜層を形成する。 (もっと読む)


【課題】金型の耐久性を向上させるべく、ある程度の高硬度を有すると共に、潤滑性を向上させ、且つ濡れ性を低下させる金型表面用保護膜を形成すること。より高硬度の金属加工工具表面用保護膜を形成すること。
【解決手段】気相薄膜形成法によって金属表面にTi、B、及びNを必須元素とし、AlまたはSiのうち1種又は2種の元素を含む硬質の保護膜を形成し、TiとNを必須元素とし、AlまたはSiのうち1種又は2種の元素を含むNaCl型の結晶相と、非結晶構造もしくは微結晶の六方晶構造を有するBN相とから構成される金型表面用保護膜とする。さらに、BN相の割合が体積比で10〜17%の範囲内にある金属加工工具表面用保護膜とする。 (もっと読む)


【課題】 この発明は、基板の径方向に均一に傾斜した柱状構造の薄膜を精度良く形成できると共に、膜厚分布をさらに均一にすることのできるスパッタ装置を提供する。
【解決手段】 この発明は、真空空間を画成する真空容器と、該真空容器内に回転可能に配された基板保持台と、該基板保持台に載置される基板と、該基板に対して所定の角度で傾斜すると共に、前記基板に対して平行に移動するカソードと、該カソードに装着され、膜形成用材料からなるターゲットとを少なくとも具備するスパッタ装置において、前記基板と平行に配され、前記基板の所定の位置を前記ターゲットに対して露出する開口部が形成されたマスクが設けられることにある。また、前記カソードの前面には、前記マスクと平行に開口する開口部を有するフードが設けられる。 (もっと読む)


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