【課題】従来の機械部材は耐摩耗性、耐焼き付き性及び耐腐蝕性に劣る欠点があった。
【解決手段】本発明の窒素含有Ｃｒ被膜においては、窒素を含有するＣｒ膜中に１００原子当たり ５０〜９９のクロム 原子及び５０〜１ の窒素原子を含むＣｒ_X Ｎ_Y 結晶を点在せしめる。また、機械部材、特に自動２輪車、自動３輪車、自動４輪車等の摩擦摩耗部品の表面に被膜を設ける。 （もっと読む）

本発明は、対称的な鋸歯状構成材の機能表面、特に歯車（１）の歯面（３）をコーティングする方法及び装置に関し、コーティング材を荷電粒子の形で構成材の方向に放出し、また該構成材に対して回転するコーティング源（２）を有する。本発明によれば、構成材機能表面の高品質なコーティングは、照射方向に対して平坦な向きの機能表面を有する円周状エリア内で、コーティングビームから構成材を遮蔽する遮蔽物（４）が構成材（１）とコーティング源（２）との間のビームの通り道に照射方向を横切るように配置されることで、技術的には単純な方法で達成される。 （もっと読む）

【課題】 絶縁性膜の生成時において、当該絶縁性膜が陽極の表面に付着するのを防止し、ひいてはプラズマの安定化を図る。
【解決手段】 本発明に係るイオンプレーティング方式の成膜装置１０によれば、陰極としてのフィラメント４０と陽極としてのアノード４２との間にプラズマが発生する。そして、このプラズマによって、膜材料をイオン化し、イオン化された膜材料を被処理物２８，２８，…の表面に照射することで、当該被処理物２８，２８，…の表面にｃＢＮ膜等の絶縁性膜を形成する。このとき、フィラメント４０については、積極的に加熱されるので、当該フィラメント４０の表面には絶縁性膜は付着しない。一方、アノード４２についても、その表面に当該絶縁性膜が付着するのを防止し得る程度に、自己加熱させる。これにより、これら両者間に発生するプラズマの安定化が図られる。 （もっと読む）

【課題】ターゲットから放出されたスパッタ粒子を、基板に対して斜めに選択入射するようなターゲットならびに基板を配置することで斜め成膜を可能とし、高い一軸磁気異方性を有する磁性膜を均一に、且つコンパクトに成膜できるようなスパッタ装置を提供する。
【解決手段】スパッタリングターゲット支持面を有するカソードであって、該スパッタリングターゲット支持面が回転する回転軸を備えたカソードと、基板支持面を有するステージであって、該基板支持面が回転する回転軸を備えたステージとからなるスパッタリング装置であり、スパッタリングターゲット支持面と基板支持面とが互いに対面しており、それぞれの回転軸を中心として独立して回転可能に構成した。さらに、遮蔽板がスパッタリングターゲット支持面と基板支持面との間に配置されており、カソード及びステージと独立して回転可能に構成した。 （もっと読む）

【課題】成膜効率が高く、基材の表面に均一な蒸着膜を形成できるとともに、均一な厚さの膜を形成することができ、さらに、基材の表面及び裏面に、均一な厚さの蒸着膜を同時に形成することができる成膜方法及び装置を提供する。
【解決手段】基材８の表面に膜形成材料を蒸着させる成膜方法であって、１又は２以上の基材を、鉛直面内に設けた円軌道に沿って、膜形成面が上記円軌道の内側に向くように配置して一定速度で回転させるとともに、上記円軌道の内側部に設けた蒸着源６から、上記膜形成材料を蒸散させて上記基材に蒸着させる。 （もっと読む）

【課題】高速加工およびドライ加工でさらなる長寿命化を達成することができる表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】基材と、基材上に形成された被覆膜とを備え、被覆膜は、Ｔｉ_1-xＣｒ_xＮ（ただし、０≦ｘ＜０．３）からなるＡ層と、Ｔｉ_1-yＡｌ_yＮ（ただし、０．３＜ｙ＜０．７）からなるＢ層とがそれぞれ交互に積層されて構成されており、Ａ層の厚みλａおよびＢ層の厚みλｂはそれぞれ２ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、互いに接しているＡ層およびＢ層の厚みの比であるλａ／λｂの値は、基材に最も近い位置においては０．４＜λａ／λｂ＜０．７であって、基材側から被覆膜の最表面側に進むにしたがって連続的および／または段階的に増加していき、被覆膜の最表面に最も近い位置においては１．５＜λａ／λｂ＜３となる表面被覆切削工具である。 （もっと読む）

コーティングを堆積させるための処理、特に、腐食の影響を受けやすい流路表面を有するディスクおよび一体型ブレードを有するガス・タービン・エンジン・ブリスクの表面を保護するのに適した耐腐食コーティング。処理には、ブリスクをコーティング材料源に隣接して配置することを、材料源を蒸発させてコーティング材料蒸気を発生させるように構成された装置内で行なうことが含まれる。コーティング材料源に対するブリスクの配向を、ブリスクの回転軸が、コーティング材料源からコーティング材料蒸気がブリスクへと流れる直線経路の約４５度以内になるように、またブレードのより腐食の影響を受けやすい流路表面がコーティング材料源に面するように、行なう。次にブリスクをその回転軸の周りに回転させながら、コーティング材料源を蒸発させてコーティング材料蒸気を優先的に堆積させ、ブレードおよびディスクの腐食の影響を受けやすい流路表面上にコーティングを形成する。
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本発明は、サンプル（２）の表面にターゲット（３）の材料を蒸着する方法に関するものであり、ターゲットの表面にレーザービーム又は電子ビーム（７）を照射して、ターゲット材料粒子のプルーム（９）を生成させるステップと、ターゲット材料粒子がサンプルの表面に蒸着されるように、プルーム近傍にサンプル（２）を位置させるステップと、粒子が蒸着されるサンプルの表面に対して垂直な回転軸（１）回りに、サンプルを回転させるステップと、プルームが前記回転軸に対して半径方向に移動するように、ターゲットの表面に沿ってレーザービームを移動させるステップと、可変周波数で、レーザービームのパルスを発するステップと、を有している。
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【課題】ＣＶＤ法により防湿膜を蒸着する際、蛍光体層13に塵埃等が付着しにくいシンチレータパネル11の製造方法を提供する。
【解決手段】シンチレータパネル11の蛍光体層13を下向きとして、基板12の周辺部を支持台21の複数の支持針24により支持する。この支持状態で、ＣＶＤ法により基板12および蛍光体層13の表面全体を覆う防湿膜を蒸着する。防湿膜の蒸着後に、支持台21の支持針24上からシンチレータパネル11を外す。 （もっと読む）

【課題】高硬度材の高速高送り切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、（ａ）組成式：（Ｔｉ_1−αＡｌ_α）Ｎあるいは組成式：（Ｔｉ_1−α−βＡｌ_αＭ_β）Ｎ（但し、Ｍは、Ｔｉを除く周期律表４ａ，５ａ，６ａ族の元素、Ｓｉ、Ｂ、Ｙのうちから選ばれた１種又は２種以上の添加成分を示し、原子比で、０．４５≦α≦０．７５、０．０１≦β≦０．２５）を満足するＴｉとＡｌ（とＭ）の複合窒化物層からなるＴｉＡｌ（Ｍ）Ｎ薄層、（ｂ）組成式：（Ｃｒ_１−γＹ_γ）Ｎ（但し、原子比で、０．０１≦γ≦０．１）を満足するＣｒとＹの複合窒化物層からなるＣｒＹＮ薄層、上記（ａ）、（ｂ）の交互積層からなる硬質被覆層を形成した表面被覆切削工具。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、金属光沢色の外観のエクステンションの中にコントラストのある暗色部を、簡易な構成で実現する車両用灯具を提供する。
【解決手段】 プロジェクター型の前照灯の投影レンズ１３、２３の周囲を覆うように暗色部６０を備えたエクステンション３０を取り付けた車両用灯具とする。エクステンション３０は樹脂材料により形成され、その表面に金属光沢膜４１が蒸着により形成されている。その際に、エクステンション３０の谷部３２は後方に凹んでおり、その側面３４には金属光沢膜４１が形成されているない。この金属光沢膜４１が形成されていない部分が暗部となって観視され、高コントラストの模様を設けた車両用灯具を得る。 （もっと読む）

【課題】光学的品質の薄膜を製造することに関し、特に非線形光学デバイス及び有機発光デバイスで利用されるそのような薄膜の低圧製造を提供する。
【解決手段】基体５８上に有機薄膜を形成する方法であって、その方法は、複数の有機前駆物質（１４、４８）を気相で与え、前記複数の有機前駆物質（１４、４８）を減圧下で反応させる工程を有する。そのような方法により製造された薄膜及びそのような方法を実施するのに用いられる装置も含む。本方法は、有機発光デバイスの形成及び他のディスプレイ関連技術によく適している。 （もっと読む）

【課題】本発明は、同時スパッタ数の多い多元スパッタリング装置およびその制御方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態では、基板とターゲット電極との間に、第１及び第２のシャッター板を設け、該シャッター板によって対象となるターゲットと基板との間を遮断してプリスパッタ工程を行う。また、本スパッタ工程に移行する際に、第１及び第２のシャッター板を適宜回転させて、該シャッター板に設けた貫通孔を重ねることで対象となるターゲットと基板との間を開放して本スパッタ工程を行う。 （もっと読む）

【課題】
本発明は平ベルトのように回転をスムーズに伝達するベルトにアモルファス材を選択し、新しい製法開発により、従来の平ベルトよりもトルク伝達能力が大きくできる減速駆動機構ベルトの素材となるアモルファス円筒の製造装置及びアモルファス円筒製法を提供する。
【解決手段】
真空チャンバー１内部のターゲット４に対して平行な軸１４を有する薄肉ドラム１０を備え、薄肉ドラム１０の外周にターゲット４をスパッタ成膜するアモルファス円筒製造装置１００であって、真空チャンバー１外部から内部の薄肉ドラム１０の軸心に送気および排気の配管３６，３７がされ、配管３６，３７に気体又は液体の冷却材を還流させて薄肉ドラム１０を冷却する。 （もっと読む）

本発明は、基材を用意し、次に>50°C且つ<800°Cの温度でPVD(物理的気相成長法)技術を用いて生物活性で結晶質のTiO₂コーティングを前記基材に付着させる工程、を含んでなる、コーティングされた医療用骨インプラントを製造する方法に、関係する。本発明のの方法によって得られたコーティングされたインプラントは、強化された生体模倣応答を示す。 （もっと読む）

【課題】スペース効率が良好でコンパクトな基板処理装置を提供する。
【解決手段】ウエハにスパッタリングを施すスパッタリング室１２と、スパッタリング室
１２内に収納されウエハ１を保持するウエハチャック２０と、ウエハ１を保持したウエハ
チャック２０を回転させる回転機構２１と、ウエハ１に向けてイオンビーム３６を照射す
るミリング用イオン源３０とを備えており、ミリング用イオン源３０のミリング用電極３
２を短辺側がウエハの外径より小さい矩形形状に形成し、このミリング用電極３２の開口部３３の開口率をウエハの中心側より周辺側が大きくなるように設定する。ミリング加工時にウエハを回転させつつイオンビームをウエハに照射すると、ミリング加工量をウエハ全面で均一化できる。ミリング用イオン源のサイズを小さくできるので、スペース効率を向上させてスパッタリング装置を小型化できる。 （もっと読む）

【課題】重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】ＷＣ基超硬合金、ＴｉＣＮ基サーメット、ｃＢＮ基超高圧焼結材料で構成された工具基体の表面に、１〜１０μｍの平均層厚を有する硬質被覆層を蒸着形成してなる表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、その表面研磨面の法線に対して、｛１００｝面の法線がなす傾斜角を測定して作成した傾斜角度数分布グラフにおいて、３０〜４０度の傾斜角区分に最高ピークが存在し、その度数合計が、全体の６０％以上であり、かつ、組成式：（Ａｌ_{１−Ｘ−Ｙ}Ｃｒ_ＸＴｉ_Ｙ）Ｎを満足する（但し、原子比で、０．３≦Ｘ≦０．６、０．１≦Ｙ≦０．３）ＡｌとＣｒとＴｉの複合窒化物層から構成されている。 （もっと読む）

【課題】重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】ＷＣ基超硬合金、ＴｉＣＮ基サーメット、ｃＢＮ基超高圧焼結材料で構成された工具基体の表面に、１〜１０μｍの平均層厚を有する硬質被覆層を蒸着形成してなる表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、その表面研磨面の法線に対して、｛１００｝面の法線がなす傾斜角を測定して作成した傾斜角度数分布グラフにおいて、３０〜４０度の傾斜角区分に最高ピークが存在し、その度数合計が、全体の６０％以上であり、かつ、組成式：ＴｉＣ_ＸＮ_１−Ｘを満足する（但し、原子比で、０．２≦Ｘ≦０．５）Ｔｉの複合炭窒化物層から構成されている。 （もっと読む）

【課題】より微細で繊細な細線や細管に装着でき、より軽量で微細で繊細な能動細線、能動細管を構成させることができる形状記憶合金製マイクロアクチュエータの製造方法及び細線への薄膜の積層工程において用いるスパッタリング装置の提供を課題とする。
【解決手段】被装着体である細線（細管を含む）の表面に装着することで細線を屈曲可能な能動細線に構成させる形状記憶合金製マイクロアクチュエータ１の製造方法であって、被装着体の代わりとなるダミー細線１０を用い、ダミー細線の外側周面に対して拡散防止用金属薄膜２０を積層する工程、拡散防止用金属薄膜の上から形状記憶合金組成薄膜３０を積層する工程、形状記憶合金組成薄膜に対して形状記憶熱処理を施す工程、形状記憶合金組成薄膜に対して所定のレジストパターンＰを形成する工程、形状記憶合金組成薄膜と拡散防止用金属薄膜をエッチングする工程、ダミー細線を溶解除去する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】あらかじめ決められた化合物、たとえば蛍光体の薄膜を基板上に成膜する方法。
【解決手段】その化合物は、３元、４元またはより高次の化合物、特に周期表のグループIIAおよびIIBの少なくとも１つの元素のチオアルミン酸塩、チオ没食子酸塩およびチオインデートからなるグループから選ばれた化合物である。実施例において、この方法は、少なくとも１つの硫化物のペレットを第１のソースの上に置き、少なくとも１つの硫化物のペレットを第２のソースの上に置き、１つのペレットに不純物が含まれているものである。基板への蒸着は各々別の電子ビームを使って実施する。硫化物の蒸発率は各々別に遮断された膜率モニタで監視する。基板上に化合物を生成するためにソースの温度を制御する。この方法は、とくにエレクトロルミネセントディスプレイにおいて、ほぼ不透明の基板上に３元または４元の蛍光体を成膜するために使用される。 （もっと読む）