基材上に無機又はハイブリッド有機／無機バリア層を形成するための方法。この方法は、蒸発させた金属アルコキシドを基材上に凝縮させて基材の上に層を形成する工程と、この凝縮した金属アルコキシド層を水と接触させてこの層を硬化させる工程とを含む。
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【課題】有機材料の表面にプラズマＣＶＤによってガスバリア膜を形成する際に、目的とするガスバリア性を有するガスバリア膜を、安定して形成することを可能にする。
【解決手段】第１のプラズマ励起電力でガスバリア膜を形成し、その後、プラズマ励起電力を、前記第１のプラズマ励起電力よりも高い第２のプラズマ励起電力に変更することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性、樹脂基材に対する密着性、加工性に優れた被膜を備えるポリエステル樹脂製容器を提供する。
【解決手段】ポリエステル樹脂製容器は、内面側の樹脂基材上にＳｉを含有する薄層被膜を備える。薄層被膜は、樹脂基材上にＰＩＣＶＤ法により形成された下部被膜層と上部被膜層とを備える。下部被膜層は、ＳｉとＣとＯとを含み、少なくとも７ｎｍの厚さを備え、ＨＲ−ＲＢＳデプスプロファイル分析による元素組成で、該樹脂基材表面から該上部被膜層に接する部位に向かって、Ｓｉ及びＯの含有量が増加する一方、Ｃの含有量が減少し、該樹脂基材表面から少なくとも５ｎｍの厚さの領域でＳｉの含有量が１４原子％以下である。上部被覆層は、ＳｉとＣとＯとを含み、５〜１５ｎｍの範囲の厚さを備え、ＨＲ−ＲＢＳデプスプロファイル分析による元素組成で、Ｓｉ原子数に対するＯ原子数の比が２．１〜２．５にあり、Ｃの含有量が１５原子％以下である。 （もっと読む）

【課題】容器の内面成膜の不均一性を改善することを課題とし、とりわけ、真空成膜装置におけるガスの供給管の工夫により、成膜ガスの流動分布のムラを減らして、容器内面の膜質と膜厚を均一化することで、成膜される容器の品質向上に役立つガス供給管を提供する。
【解決手段】ガス供給系主配管のプラズマ処理側に先端配管部を有し、該先端配管部内には、主管と主管から分岐した複数の枝管と各枝管の先端に取り付けた側壁部ノズルがあって、該側壁部ノズルは主管の中心軸の回りの先端配管部外径を超えない円周上に配置され、各側壁部ノズルからの噴出ガスが、該円周上の略接線方向に回転対称の方向で噴き出すように設置する。 （もっと読む）

【課題】長時間に渡って付着物が真空容器の内壁面に付着することを防止でき、しかも成膜された無機膜の機能（例えばガスバリヤー膜としての機能）を損ねることがない。
【解決手段】排気系統２０を備えた真空容器２２内に原料ガスを導入すると共に、真空容器２２内に発生させたプラズマによる気相反応によってフィルム１２（基板）上に無機膜を成膜するプラズマＣＶＤ工程を備えた成膜方法において、プラズマＣＶＤ工程では、真空容器１２内の内壁面温度を、無機膜が成膜されるフィルム１２の基板温度よりも５０℃以上、２００℃以下の範囲で高い温度に維持した状態で成膜する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、酸素ガス及び水蒸気に対して高いバリア性を示し、且つ危険な原料を使用せずに効率よく大量生産することができるガスバリア性積層フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】 プラスチックフィルムからなる基材の一方の面上に、ケイ素化合物蒸着膜とガスバリア性塗布膜とを、この順序で、交互に２回又はそれ以上繰り返し積層し、且つガスバリア性塗布膜が最外層となるように形成したガスバリア性積層フィルムであって、ケイ素化合物蒸着膜が特定の組成を有することを特徴とするガスバリア性積層フィルムを提供する。 （もっと読む）

本発明は、基板上の透明バリア層システムに関しており、このバリア層システムには一連の個別層が含まれており、これらの個別層は層Ａおよび層Ｂから交互に構成されており、層Ａと層Ｂとは、水蒸気が透過する際の活性化エネルギが少なくとも1.5kJ/molの差分だけ異なる。
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【課題】供給した高周波電力によるパワーを十分にプラズマ側で消費することができ、これによりＮ−Ｈ結合が少なく、緻密でガスバリア性の高い窒化珪素膜を成膜する成膜方法およびガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】原料ガスとして、シランガスおよびアンモニアガスを用い、誘導結合プラズマＣＶＤ法によって窒化珪素膜を成膜するに際し、アンモニアガスの供給流量に対し、所定の計算式で算出される有効パワーを３〜３０Ｗ／ｓｃｃｍとして成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】 本発明における課題は、高熱処理の工程下で好適に用いられる高度なガスバリア性を有するガスバリアフィルムを提供することである。
【解決手段】 本発明のガスバリアフィルムは、基材の両面上に酸化珪素膜を有するガスバリアフィルムであって、温度２９６Ｋと４７３Ｋの温度間における前記基材の平均の線熱膨張係数が、−１０ｐｐｍ／Ｋ以上１０ｐｐｍ／Ｋ以下であることを特徴とする。また、温度２９６Ｋ及び４７３Ｋにおける前記基材と酸化珪素膜の間の熱応力の差σ_ｄの絶対値が０．２ＧＰａ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】長尺な基板を搬送しつつ連続的に膜を形成する場合、この基板の長手方向と直交する幅方向における膜厚の均一性が高い膜を形成することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置は、チャンバ内を所定の真空度にする真空排気部と、基板の幅方向に回転軸を有し、基板が巻き掛けられて回転可能なドラムと、ドラムに対向して離間して配置された成膜電極、成膜電極に高周波電圧を印加する高周波電源部および原料ガスをドラムと成膜電極との隙間に供給する原料ガス供給部を備える成膜部とを有する。ドラムと成膜電極との隙間は、膜形成時に原料ガスが供給された場合、ドラムの回転方向の方がドラムの回転軸方向よりも原料ガスが流れ易い。 （もっと読む）

追加の生成ステップを含まずに、PECVDによりパターン化されたコーティングを生成する方法について本明細書に説明する。直接蒸着により表面上にモス・アイ状のマクロ構造を生成する方法を提案する。加えて、生成されるマクロ構造は、サブ波長域において表面テクスチャを有する微細構造により調整されうる。結果として、光学的に透明な材料から成るキャリア層を備える保護・反射防止コーティングであって、少なくとも一表面側において、表面の照射入射の光波長に対して反射防止特性を提示するコーティングが生成可能であり、また、超疎水性表面特性をベースとする表面構造も生成可能である。 （もっと読む）

【課題】 基材フィルムにＤＬＣ被膜が被覆されたガスバリア性フィルムにおいて、ガスバリア性を低下させることなく透明性を高める。
【解決手段】 基材フィルムの少なくとも一方の面に膜厚が５〜１００ｎｍの珪素含有ダイヤモンドライクカーボン膜が形成されたガスバリア性フィルムであって、該珪素含有ダイヤモンドライクカーボン膜の成膜用珪素原料として、少なくともテトラメチルシラン（ＴＭＳ）を用い、Ｘ線光電子分光分析による珪素含有ダイヤモンドライクカーボン膜の構成比（Ｃ１ｓ／（Ｃ１ｓ＋Ｓｉ２ｐ））が０．０１〜０．３の範囲であるとともに、上記ガスバリア性フィルムの黄色度（ＹＩ）が２．５〜５．０の範囲であることを特徴とするガスバリア性フィルム。 （もっと読む）

【課題】膜質が良好な膜を、高い稼働率で連続的に長尺な基板に形成することができる成膜装置、ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置は、長尺の基板を搬送する第１の搬送手段と、チャンバと、チャンバ内を所定の真空度にする真空排気部と、基板の搬送方向と直交する方向に回転軸を有し、かつ基板の幅方向における基板の長さよりも長く、第１の搬送手段により搬送された基板が表面に巻き掛けられる回転可能なドラムと、ドラムに巻き掛けられた基板を搬送する第２の搬送手段と、ドラムに巻き掛けられた基板の表面に気相成膜法により、成膜物質を堆積させて膜を形成する成膜部と、ドラムに対向して設けられたマスクとを有する。マスクは、ドラムで基板が巻き掛けられていない第１の領域と、ドラムに巻き掛けられた基板のうち、ドラムの回転方向の最下流側の第２の領域とを遮るものである。 （もっと読む）

【課題】内外圧差によって容易に変形が生じてしまう非耐圧性プラスチック容器であって、内面の実質上全体にわたってマイクロ波プラズマＣＶＤ法によって成膜された蒸着膜を有する容器を提供する。
【解決手段】マイクロ波導入チャンバー内にプラスチック容器を配置し、該プラスチック容器内に反応ガスを導入しながら該チャンバー内にマイクロ波を導入することにより、マイクロ波プラズマＣＶＤ法によって容器内面に蒸着膜が形成されている非耐圧性プラスチック容器。 （もっと読む）

【課題】基材上に酸化シリコン膜を形成するに際し、大気圧プラズマを利用することにより、減圧装置などの複雑化による装置全体の大型化や装置コストの上昇を招くことなく、かつ、焼付け処理や乾燥処理が不要な簡易な方法で大型の基材の成膜を行うことができるようにした、酸化シリコン膜の製造方法を得ること。
【解決手段】表面にハイドロジェン変性シリコーンが塗布された基材を、互いに対向する電極間に配置し、大気圧雰囲気下において前記電極間に高周波電力又は直流電力を印加して発生させたグロー放電プラズマにより前記基材表面におけるハイドロジェン変性シリコーンを分解し、前記基材上に酸化シリコン膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 設置スペースを取ることなく、簡易な構成で、プラズマ放電を確実に行わせる。
【解決手段】 外部電極１２と内部電極（原料ガス供給管）１３との間でプラズマを発生させて、プラスチック容器に所定の処理を行う高周波プラズマ処理方法１０ａであって、高周波電極１２とアース電極１３との間に、プラスチック容器が介在しない対向部分を設けるための対向部形成部材２０を備えた。 （もっと読む）

【課題】基板に樹脂フィルムを用いた場合、この樹脂フィルムに変質、変形などが生じることなく、無機膜を熱処理することができる熱処理方法、およびバリアフィルムを提供する。
【解決手段】本発明の熱処理方法は、樹脂フィルム製の基板の表面に無機膜が形成されたシート材に、無機膜に加熱処理を行う工程を有し、無機膜の加熱処理に、無機膜よりも基板の方が吸収されにくい波長の赤外線を用いる。 （もっと読む）

【課題】基板に樹脂フィルムを用いた場合、この樹脂フィルムに変質、変形などが生じることなく、無機膜を熱処理することができる熱処理方法、成膜装置およびバリアフィルムを提供する。
【解決手段】本発明の熱処理方法は、樹脂フィルム製の基板の表面に無機膜が形成されたシート材の無機膜に熱処理を行う工程を有し、無機膜に熱処理を行う際に、樹脂フィルム製の基板をガラス転移温度未満の温度に保持する。 （もっと読む）

【課題】基板に樹脂フィルムを用いた場合、この樹脂フィルムに変質、変形などが生じることなく、無機膜を熱処理することができる熱処理方法およびバリアフィルムを提供する。
【解決手段】本発明の熱処理方法は、樹脂フィルム製の基板の表面に、基板に赤外線が到達することを抑制する赤外線カット層が形成され、赤外線カット層の表面に無機膜が形成されており、この無機膜に赤外線を照射し熱処理を行う工程を有する。 （もっと読む）

【課題】 アンチモン系触媒を使用せずに製造された蒸着フィルムであって、且つ、優れたガスバリア性を示し、包装用途及び光学用途に好適な物性を備えた蒸着フィルム。
【解決手段】 重縮合触媒としてチタン系触媒を使用して製造したポリエステルからなる基材フィルムの一方の面に、酸化物蒸着膜を積層したガスバリア性蒸着フィルム。 （もっと読む）