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Fターム[4K030LA24]の内容

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Fターム[4K030LA24]に分類される特許

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【課題】金属空洞筐体内に発生するプラズマの強さの偏りによる中空容器への成膜処理の不均一を解決し、膜厚や膜質のばらつき少ない成膜処理を行うプラズマCVDによる容器処理装置を得る。
【解決手段】マイクロ波を供給する導波管の側面に、導波管の軸方向に直交する軸を有する筒状の金属空洞筐体の側面が接合され、導波管と金属空洞筐体の接合面に導波管の軸方向のスリットを形成することにより導波管内の空間と金属空洞筐体内の空間を結合し、金属空洞筐体側から前記スリットに平行で前記スリットを塞ぎ金属空洞筐体内を内壁に添って一周する誘電体リングによるマイクロ波の導波路を設置し、導電性を有するガス導入管を金属空洞筐体の筒の軸に平行に設置し、ガス導入管に垂直な平面状の導電性を有する電気接点部を中空容器の下部に設置しガス導入管と金属空洞筐体に電気接続し、中空容器を開口部からガス導入管を差し込んで設置する。 (もっと読む)


【課題】 諸物性に優れ、特に、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するバリア性に優れていると共に静電防止性に優れ、更に、透明性等を有し、例えば、鰹節、ふりかけ、その他等の乾燥食品を充填包装するに有用である乾燥食品用包材を提供することである。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜の面に、ゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を設けて、ガスバリア性積層フィルムを構成し、更に、該ガスバリア性積層フィルムの基材フィルムの面に、帯電防止層を設け、また、上記のガスバリア性積層フィルムのガスバリア性塗布膜の面に、ヒ−トシ−ル性樹脂フィルムを介在させて、ヒ−トシ−ル性樹脂層を設けたことを特徴とする乾燥食品用包材に関するものである。 (もっと読む)


【課題】マイクロ波の導波管の金属空洞筐体への導入口でのマイクロ波の反射量を小さくしたプラズマCVDによる容器処理装置を得る。
【解決手段】導波管に、その軸方向に直交する方向に軸を有する筒状の金属空洞筐体の側面が接合され、その導波管と金属空洞筐体の接合面に金属空洞筐体の軸に直交する方向のスリットにより導波管と金属空洞筐体を結合し、金属空洞筐体の内壁に添って金属空洞筐体の軸の周りを一周する誘電体リングでスリットを塞ぎ、導電性を有するガス導入管を金属空洞筐体の筒の軸に平行に設置し、ガス導入管に垂直な平面状の導電性を有する電気接点部を中空容器の下部に設置し、電気接点部をガス導入管と金属空洞筐体に電気接続し、スリットの電気接点部からの高さをλ/2の整数倍±λ/8の高さに形成し、金属空洞筐体内に中空容器を、開口部から前記ガス導入管を差し込んで設置する。 (もっと読む)


【課題】金属空洞筐体内に発生するプラズマの強さの偏りによる中空容器への成膜処理の不均一を解決し、膜厚や膜質のばらつき少ない成膜処理を行うプラズマCVDによる容器処理装置を得る。
【解決手段】マイクロ波を供給する導波管の側面に、前記導波管の軸方向に直交する方向に軸を有する筒状の金属空洞筐体の側面が接続され、前記導波管と前記金属空洞筐体の接合面に前記導波管の軸方向のスリットを形成することにより前記導波管内の空間と前記金属空洞筐体内の空間を結合し、前記金属空洞筐体側から前記スリットに平行で前記スリットを塞ぎ前記金属空洞筐体内を内壁に添って一周する誘電体リングによるマイクロ波の導波路を設置し、前記金属空洞筐体内に設置する中空容器内にプラズマ用の原料ガスを導入するガス導入管を設置する。 (もっと読む)


プラズマによる容器(3)の処理用装置(1)であり、同装置は、処理すべき容器(3)を受け入れるのに適切な囲い(5)、同囲い(5)の延長部内にノズル(9)を画定する覆い8、同ノズル(9)内に通じていて、同ノズルを減圧源(15)に連結する、容器(3)の減圧用導管(14)を含んでおり、第1の電磁弁(19)が閉鎖位置において減圧用導管(14)を閉鎖し、開放位置でノズル(9)と減圧源(15)を連絡させる、減圧用導管(14)とは別個である、容器(3)の与圧用導管(27)、減圧用導管(14)の先でノズル(9)内に通じていて、ノズル(9)を圧力源(28)に連結する与圧用導管(27)、閉鎖位置で与圧用導管(27)を閉鎖し、開放位置でノズル(9)と圧力源28を連結させる第2の電磁弁(29)を含んでいる装置(1)である。 (もっと読む)


【課題】ガスバリア性、低吸着性、リサイクル性に優れ、かつ中性又は水素イオン濃度(pH)が高い液体の内容物を収容した場合にでも耐内容物性に優れるプラスチック容器を提供すること。
【解決手段】プラスチック容器であって、前記容器のプラスチック基材の内側表面に、1つ以上の酸化ケイ素膜の層と、それぞれの酸化ケイ素膜の層を挟み、炭素原子を20%以上70%未満含む有機ケイ素膜の層とを有し、前記各層の組成が前記各層間で連続的に変化している皮膜を形成したことを特徴とするプラスチック容器。 (もっと読む)


【課題】 マイクロ波プラズマを用いて、熱可塑性容器をバリアで迅速に被膜するための装置を提供する。
【解決手段】複数の処理機を備え、各処理機は、処理容器2と真空ポンピングチャンバを有するカバー3とを備える。上記容器に密閉接続するための接続手段は、上記カバー内に、上記容器の首部と同軸のスリーブを備え、この各カバーは、容器内に反応性流体を注入するための、上記スリーブに同軸な注入器も支持している。隣接した複数の処理機のうち、上記スリーブ6及び/又は上記注入器8は、処理機のカバー上に橋状に延設された1つの支持板に固定され、上記支持板と処理機のスリーブ及び/又は注入器とが、一部品として操作される単一アセンブリ16、21を構成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ガスバリア性、低吸着性、リサイクル性に優れ、かつ水素イオン濃度(pH)が高い液体の内容物を収容した場合においても薄膜とプラスチック基材との密着性が十分であるプラスチック容器を提供することである。
【解決手段】プラズマCVD法により、容器表面に薄膜が形成されたプラスチック容器において、プラスチック基材(4)表面に第1層として炭素膜(1)が形成され、その上に第2層として酸化ケイ素膜(2)が形成されていることを特徴とする薄膜被覆されたプラスチック容器である。 (もっと読む)


【課題】処理ステーションがすべての圧力を同じ態様で受容可能な圧力分配器を提供する。
【解決手段】回転ラック式中空ボディ処理装置のための回転式圧力分配器は、いくつかの処理ステーションを含み、この分配器は密封して接触している2つの同軸のリングを含み、該リングの1つは少なくとも1つの処理ステーションに接続された連通開口部を含んだ回転リング、他の1つは静止リングであって、装置の圧力源に接続されたいくつかのスロットを含んでおり、これらの開口部およびスロットは異なった直径の同心円上に分配され、異なった直径上に配置された開口部および/またはスロットは、前記開口部が前記静止リング内の個々のスロットを横切るような方法で形成された前部端と後部端とを備え、それぞれの前記開口部とそれに関連したスロットとで形成された通路の、開くときに増加し閉じるときに減少する面領域での速度は、全ての前記円周に関してほぼ同一である。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、ガスバリア性プラスチック容器の製造装置において、排気室又はそれ以降の排気経路での定期的な異物除去作業と容器形状換えに伴う外部電極の交換作業を低減し、ガスバリア性プラスチック容器の生産性を高めることである。
【解決手段】本発明は、プラスチック容器の内壁面にプラズマCVD法によってガスバリア性を有する薄膜を形成する装置であり、外部電極の内壁面とプラスチック容器の外壁面とに挟まれた隙間空間に誘電体からなるスペーサーを配置し、かつ、プラスチック容器自体の静電容量とその内部空間の静電容量との合成静電容量をCとし、真空チャンバの内部空間と排気室の内部空間とを含む成膜ユニットの内部空間のうちプラスチック容器の外側空間の合成静電容量をCとしたとき、C>Cの関係が成立し、かつ、周波数400kHz〜4MHzの低周波電力を外部電極に供給する。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、ガスバリア性プラスチック容器を製造するに際して、真空チャンバ以外でのプラズマの発生を抑制し、さらには原料ガス由来の異物の発生を抑制することである。
【解決手段】本発明は、プラスチック容器の内壁面にガスバリア性を有する薄膜を形成する装置であり、外部電極1の上端を容器8の天頂Yよりも下方に位置させ、外部電極1の上方かつ容器8の外側周囲に誘電体からなる環状部材2を配置し、外部電極1と環状部材2とは真空チャンバ3を構成し、容器自体の静電容量とその内部空間の静電容量との合成静電容量をCとし、真空チャンバの内部空間と排気室の内部空間とを含む成膜ユニットの内部空間のうち容器の外側空間の合成静電容量をCとしたとき、C>Cの関係が成立し、電源27は周波数400kHz〜4MHzの低周波電力を供給する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、酸化珪素皮膜が生成されたことを簡便に、しかも個々について確認できるプラスチック容器を提供することにある。
【解決手段】少なくとも、基材フィルム(4)とシーラント層(5)とがラミネートされた積層材料(S)から成るプラスチック容器であって、プラズマCVD法で該容器(1)内面に酸化珪素皮膜が形成され、頭頂部に注出口(10)を、底部に内容物充填口(20)を有し、且つ該内容物充填口(20)をエンドシールするプラスチック容器(1)において、成膜前にエンドシール部分(3)の一部に変形部(2)を形成し、該変形部(2)を除いたエンドシール部分(3)は酸化珪素皮膜が付着しないように処置をして成膜したことを特徴とするプラスチック容器である。 (もっと読む)


【課題】圧力が100Paから0.5Paの真空領域で、プラスチック容器に、障害なく成膜することができるようにすること。
【解決手段】1つの筐体からなるサブチャンバーに複数のメインチャンバーが整列し、各メインチャンバー内部上部に開口を有するプラスチック容器を倒立して収納し、該プラスチック容器に全数同時にプラズマCVD法で薄膜を形成する装置であって、
各メインチャンバー内部でプラスチック容器下部を保持し、該容器を倒立して収納する容器保持手段を有することを特徴とする成膜装置。 (もっと読む)


【課題】 高度なガスバリア性を有するガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜の上に、一般式R1 n M(OR2 m (ただし、式中、R1 、R2 、M、n、m、n+mの意味は略す。)で表される少なくとも1種以上のアルコキシドと、鱗片形状二酸化ケイ素粒子と、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを含有し、更に、ゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を設けたことを特徴とするガスバリア性積層フィルムに関するものである。 (もっと読む)


【課題】高度なガスバリア性を有するガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材フィルム1の一方の面に、第1の無機酸化物の蒸着膜2を設け、更に、該第1の無機酸化物の蒸着膜の上に、一般式R1 n M(OR2 m (ただし、式中、R1 、R2 、M、n、m、n+mの意味は略す。)で表される少なくとも1種以上のアルコキシドと、鱗片形状二酸化ケイ素粒子と、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを含有し、更に、ゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物による第1のガスバリア性塗布膜を設け、更にまた、上記と同様にして、該第1のガスバリア性塗布膜3の上に、第2の無機酸化物の蒸着膜4と第2ガスバリア性塗布膜5とを順次に設けたことを特徴とするガスバリア性積層フィルムA。 (もっと読む)


【課題】熱的影響をポリ乳酸基材に与えることなく、しかも水分の影響による膜剥離の問題を生じることなく、密着性に優れ、しかもガスバリア性に優れ、水分透過性も低い蒸着膜が表面に形成されたポリ乳酸成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】脂肪族不飽和基を有し且つ分子中に酸素を有していない有機ケイ素化合物(例えばトリメチルビニルシラン)と、脂肪族不飽和炭化水素(例えばエチレン或いはアセチレン)との混合ガスを反応性ガスとして使用し、該反応性ガスをポリ乳酸基材上に供給してのプラズマCVDにより、ポリ乳酸基材上に蒸着膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】 水蒸気バリア性に優れかつ高透明性を合わせ持つ、ガスバリアフィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】 高分子フィルム基材の少なくとも一方の面に、炭素を含む酸化珪素(SiO)膜が積層されたガスバリアフィルムにおいて、前記SiO膜のxが1.7〜2.1であり、前記SiO膜中の炭素元素の濃度が10%以下であり、前記炭素元素の濃度が前記高分子フィルム基材側から前記SiO膜表面側に向かって減少しているガスバリアフィルムを用いる。 (もっと読む)


一端に放出口をもつ液体供給導管を有するアトマイザの提供、放出口の上流で液体供給導管のポートに開口するガス供給導管、及び、アトマイザに振動エネルギーを与えるための手段を含む、液体を噴霧化する方法。1つの実施形態において、液体供給導管及びガス供給導管は、互いに関して同軸になるように配置される。本方法は、更に、ガスをガス供給導管を通して流すのと同時に、液体を液体供給導管を通って放出口に流すことと、放出口から出てる液体を噴霧化するために振動エネルギーをアトマイザに与えることを含む。ポートでガスを導入することによって、液滴スプレーの寸法特性が改善される結果を得る。
(もっと読む)


【課題】ボトルの内側に褐色のまだら模様を形成することなく、見栄えの良いアモルファスカーボン被膜を成膜する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、合成樹脂製ボトル1の口部2の内側に形成した注出路6に、この注出路6との間に隙間tを空けて筒状部材12を配置し、この筒状部材12を通して口部2に繋がる肩部3、胴部4及び底部5の内面で形作られる充填空間Rに、C2H2ガスを供給して、このC2H2ガスを用いたプラズマCVD法によってボトル1の内側にアモルファスカーボン被膜を形成する方法である。本発明では、アモルファスカーボン被膜を形成するにあたり、筒状部材12を、当該筒状部材12の先端が注出路6から充填空間Rに露出するように位置決めする。 (もっと読む)


【課題】表面に褐色のまだら模様を形成することなく、見栄えの良いアモルファスカーボン被膜を成膜した合成樹脂製ボトルを提供する。
【解決手段】本発明は、口部2、肩部3、胴部4及び底部5からなり、口部2、肩部3、胴部4及び底部5の内面f1〜f5に、C2H2ガスを供給して、アモルファスカーボン被膜7を成膜したボトル1である。アモルファスカーボン被膜7は、肩部3の内径が最大となる部分X2からボトル軸線Oに沿って口部2に向かう肩部3の高さ位置Δlが、ボトル軸線Oに沿った肩部3の高さ寸法lの70%となる高さ位置までの範囲において、当該高さ位置までの範囲の肩部3に形成されるアモルファスカーボン被膜7が、肩部内径最大部分X2での膜厚Toを基準に、当該膜厚Toに対して0.9倍以上、且つ、1.1倍以下の膜厚で成膜されてなる。 (もっと読む)


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