【課題】ステンレス鋼からなる装飾品で、耐食性が高く、長期にわたって錆発生が極めて起こりにくく、その上、耐傷付き性に優れた耐食性被膜を有する装飾品を提供すること。
【解決手段】ステンレス鋼からなる装飾品用基材と、該基材表面に湿式メッキ法で形成された耐食性被膜層と、該耐食性被膜層の表面に乾式メッキ法により形成された下地層と、該下地層の表面に乾式メッキ法により形成された硬質被膜層と、該硬質被膜層の表面に乾式メッキ法により形成された貴金属被膜層とから構成されていることを特徴とする。
、耐食性が向上し、長期にわたって錆発生が極めて起こりにくくなり、その上、耐傷付き性に優れ、傷等による外観品質の劣化も起きにくい。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題は、プラズマＣＶＤ法によりプラスチック製容器の内面にガスバリア性を保持する蒸着膜を成膜する際に、原料ガス導入管への成膜を無くした成膜容器の製造方法およびその製造装置を提供するものである。
【解決手段】
容器を収容する空所を取り囲む様に電極を形成した成膜装置の、前記空所内に前記容器を収容し、該容器の開口部が接する絶縁部材により前記電極を絶縁し、前記容器の内側に該容器の開口部から原料ガス導入管を挿入し、前記容器内を排気し、該容器の内側に前記原料ガス導入管から原料ガスを供給した後に排気と前記原料ガスの供給を止め、前記原料ガス導入管を前記容器外に出した後、前記電極に高周波を印加することを特徴とする成膜容器の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ法により、長時間にわたって安定して酸化バナジウム膜を大きな成膜速度で形成する調光ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】塩素を含むバナジウム化合物と水蒸気とを含む原料ガスを基体上に供給し、バナジウム化合物（例えば塩化バナジウム、オキシ塩化バナジウム）と水蒸気とを反応させ、基体上に酸化バナジウムを主成分とする薄膜１を形成するに際し、原料ガスに塩化水素を添加する。塩化水素は、バナジウム化合物と水蒸気との反応を抑制する。基体は、例えば、ガラス板７と、ガラス板上に形成した酸化錫を主成分とする薄膜２とから構成するとよい。 （もっと読む）

【課題】任意形状の容器にガスバリア膜を容易にしかも均質に形成することができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置１０Ａは、媒質ガス１１を供給してプラズマ処理により被処理容器１２の表面にバリア膜を形成するプラズマ処理装置において、ガス供給部１４とガス排出部１５とを有する真空容器本体１６と、前記真空容器本体１６内に配設された被処理容器１２と、前記被処理容器１２の外部に設けられた放電用アンテナ１７と、前記放電用アンテナ１７に接続した第１の整合器１８−１及び第１の高周波電源１９−１とを具備する。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム部品（１０）の表面を処理する方法及びこの種のアルミニウム部品（１０）を提供する。
【解決手段】本方法は、アルミニウム部品（１０）の表面に酸化ケイ素層（１４）を適用することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性及び基体に対する密着性に優れ、さらには耐熱性にも優れたプラズマＣＶＤ法による蒸着膜を提供する。
【解決手段】有機金属化合物と酸化性ガスとを用いてのプラズマＣＶＤ法による蒸着膜において、該蒸着膜は、基体側に位置する有機無機複合領域Ｙと、有機無機複合領域Ｙの上に形成された無機性領域Ｘとを有し、有機金属化合物に由来する金属元素（Ｍ）、酸素（Ｏ）及び炭素（Ｃ）の元素基準で表して、有機無機複合領域Ｙは、元素比（Ｃ／Ｍ）及び元素比（Ｏ／Ｍ）が、０．２＜Ｃ／Ｍ＜１．８、及び１．５≦Ｏ／Ｍを満足し、且つ該金属元素（Ｍ）の結合エネルギーが無機性領域中で炭素濃度が５％未満の金属元素（Ｍ）の平均値よりも０．１ｅＶ〜０．７ｅＶ低い範囲にあり、無機性領域Ｘは、元素比（Ｃ／Ｍ）が、Ｃ／Ｍ≦０．２を満足している。 （もっと読む）

【課題】合成樹脂製容器にプラズマ蒸着を用いて被膜を形成することにより生じる様々な問題を解決する。
【解決手段】本発明装置10は、加熱体16を備えボトル1の本体を構成する壁部2の口部2aからその内部への挿入及び当該内部からの引き出しが可能なパイプ15と、このパイプ15に原料ガスＧを供給する原料ガス供給手段と、加熱体16の発熱を生起させる発熱手段とを備え、壁部2の内部に挿入したパイプ15を介して供給した原料ガスＧを加熱体16により加熱して原料ガスＧから生成した分解種を壁部2の内側表面に蒸着させて被膜3を成膜する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、安定して成膜できる３次元中空容器の薄膜成膜装置を提供する。
【解決手段】円筒型金属製容器内の中心軸上に中空容器を固定する手段と、原料ガスを注入する金属製原料ガス導入管が中心軸上に配置され、前記金属製容器内を真空状態にする排気する手段と、方形導波管を介してマイクロ波エネルギー注入手段を具備し、円筒型金属製容器の内面と金属製原料ガス導入管で形成される半同軸共振器モードで封じ込められたマイクロ波エネルギーによって得られるプラズマを用いてＣＶＤ法により薄膜を成膜する装置において、半同軸共振器モードの中心導体である前記金属製原料ガス導入管先端部と円筒型金属製容器の天面部との間に、マイクロ波の伝搬モードである導波管モードから半同軸共振器モードに変換するために円筒型空洞器における最適な導波管モードが存在する空間部を設けたことを特徴とする３次元中空容器の薄膜成膜装置である。 （もっと読む）

【課題】酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するより高度のバリア性を有し、各種の包装用容器を製造するに有用なバリア性フィルムおよびその製造法を提供することである。
【解決手段】無機酸化物の蒸着膜を設けた基材フィルムからなり、更に、それにアニ−リング処理を施して、その水蒸気透過度を、２．０ｇ／ｍ² ・ｄａｙ〜０．０００００１ｇ／ｍ² ・ｄａｙの範囲内、また、酸素透過度を、２．０ｃｃ／ｍ² ・ｄａｙ〜０．０００００１ｃｃ／ｍ² ・ｄａｙの範囲内に構成したことを特徴とするバリア性フィルムおよびその製造法に関するものである。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波の表面波によるプラズマＣＶＤによって蒸着膜を形成するために使用され、特に磨耗などの不都合が有効に抑制され、長尺フィルムの表面に連続して均一な厚みの蒸着膜を形成することが可能なマイクロ波供給装置を提供する。
【解決手段】外面に少なくとも曲率面を有する中空支持体と、該中空支持体に支持されたマイクロ波による表面波発生装置とから成り、前記表面波発生装置は、マイクロ波供給源に連なり且つ前記中空支持体の内部を延びている導波管と、該導波管のシールド壁に組み込まれたスロットアンテナと、該スロットアンテナを覆うように設けられた誘電体電極板とから構成され、該誘電体電極板を、その外面が露出するように前記中空支持体の壁に固定することにより、該表面波発生装置が該中空支持体に支持されているとともに、前記誘電体電極板の外面は、前記中空支持体の外面と滑らかに連なる曲率面となっていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】食肉業界等から多量に排出され、廃棄物として焼却処理されていた動物骨の有効利用法の提供。
【解決手段】動物骨に多く含まれている炭素成分を分離した。この分離し、得られた炭素成分をマイクロ波や高周波加熱により気化・プラズマ化して水素原子のエッチング硬化を利用して基材表面にダイヤモンド様炭素膜を形成させ、美麗装飾品とする。 （もっと読む）

【課題】特に非炭酸飲料用に適した高密度ポリエチレンをベースとするプラスチック容器、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ブロー成形または押出成形された容器は、バリア特性を有しており、また開口１３を有する上壁部、上壁部１２の下に位置した中間側壁部１４、容器を支持するために中間側壁部の下に位置した基部１６を含んでいる。容器は、内面２２および外面を有し且つ高密度ポリエチレンから形成された成形された第１の層、および第１の層の内面上に形成されると共にこれに接着され且つ第１の層と実質的に同じ広がりを有する炭素被覆を含んでおり、炭素被覆は約１０ミクロンより小さい厚みを有する。 （もっと読む）

【課題】外部電極と内部電極をボトル形プラスチック容器と相似形に成形しなくとも、該容器の内面に全体的に均一なＤＬＣ膜を形成することができ、外部電極内の空気を高速排気する際にボトル形プラスチック容器の口の付近で乱流が生じてコーティング効果が損なわれないようにする。
【解決手段】外部電極１がボトル形プラスチック容器２を該容器の底部側から収容可能な形状に成形され、該容器の軸方向と略平行に磁界Ｍを印加する磁界印加手段１７が容器の縮径部１８に対して集中的に磁界を印加するように構成され、外部電極１と排気管１１との間に、複数の貫通孔１２を通じて外部電極１の内部に連通せられる排気流緩和用真空チャンバ１３が介装されている。 （もっと読む）

【課題】室温より高温の環境下でも優れたガスバリア性を保持できる炭酸飲料用プラスチックボトルを提供する。
【解決手段】プラズマＣＶＤにより形成されたガスバリア被膜を内面側に備え、室温より高温の環境下における体積増加率が８．０％以下である。前記室温より高温の環境下における体積増加率は、ガスボリューム４．２の炭酸水を充填して４０℃の温度で２週間保存後の値、またはガスボリューム２．８の炭酸水を充填して容器中心部を６５℃の温度に１０分間以上保持する加熱処理を施した後の値である。前記ガスバリア被膜は、炭素原子を含む出発原料からプラズマＣＶＤにより形成された炭素を主要構成元素とするアモルファスカーボン被膜、または有機珪素化合物を含む出発原料からプラズマＣＶＤにより形成されたＳｉ／Ｏ比が原子比で１／１．５〜１／２．２の範囲にあるケイ素酸化物含有被膜である。前記プラスチックボトルは、ポリエステルボトルである。 （もっと読む）

【課題】多層構造を有する蒸着膜を、フィルム基材表面、特に長尺フィルムの表面に形成することが可能な蒸着膜の形成方法及び装置を提供する。
【解決手段】真空領域内にマイクロ波による表面波発生装置を配置し、該表面波発生装置に対面する位置に、フィルム基材を連続的に流し、該フィルム基材と表面波発生装置との間の空間に、少なくとも有機金属化合物を含む反応ガスを連続的に供給し、該表面波発生装置からのマイクロ波の表面波によってプラズマ反応を実行することにより前記フィルム基材表面に連続的に蒸着膜を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

薄層の積重ねで被覆された透明ガラスタイプの支持体が記載され、それは少なくとも一つの酸化チタンベースのアンダー層及び酸化錫ベースの主層を含み、被覆された支持体は低い放射率又は好ましい電気伝導性を示しながら極めて低い曇り度を有する。熱分解によって付着された層で被覆された支持体の製造方法もまた記載される。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性などの性能を有する酸化ケイ素薄膜をばらつきなく安定に形成でき、さらには薄膜に柔軟性を付与することも可能な薄膜成膜方法および成膜装置の提供。
【解決手段】モノマーガスと、酸化性の反応ガスとを含有する混合ガスをプラズマ化し、プラスチック製容器の表面に酸化ケイ素からなる薄膜を形成する薄膜成膜方法において、前記反応ガスに対する前記モノマーガスの供給流量比が０．０５以下の範囲の少なくとも一部を含むように、前記供給流量比を連続的に減少させながら混合ガスをプラズマ化する。この際、複数の成膜チャンバ２０に対して、１つの高周波電源部３０から高周波電力が供給される成膜装置１０を使用することにより、より一層ばらつきなく成膜できる。 （もっと読む）

【課題】プラスチック容器の内壁面に成膜をする場合において、（１）形状の異なる容器ごとに外部電極を準備する必要をなくし、（２）誘導結合型プラズマ又はマイクロ波プラズマのいずれの方式によっても、容器の内部空間と外部空間との圧力差制御機構を設けることなく、前記隙間空間でのプラズマ発生を抑制すること。
【解決手段】本発明に係るプラズマＣＶＤ成膜装置は、プラスチック容器を収容する真空チャンバと、真空チャンバの内壁面とプラスチック容器の外壁面とに挟まれた隙間空間に配置された絶縁体からなるスペーサーと、プラスチック容器の内部に挿脱可能に配置され、プラスチック容器へ原料ガスを供給する原料ガス供給管と、真空チャンバの内部ガスを排気する排気手段と、プラスチック容器の内部に供給された原料ガスをプラズマ化させるプラズマ発生手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、チャンバを交換することなく異なる容量の容器に対して、容器高さ方向に対して均一な膜質の成膜をすることができるプラズマＣＶＤ成膜装置を提供すること。異なる容量の容器に対して、容器高さ方向に対して均一な膜質の成膜が為されたガスバリア性を有するプラスチック容器の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明に係るプラズマＣＶＤ成膜装置は、プラスチック容器を収容する真空チャンバと、該真空チャンバの側壁に沿って螺旋状に巻きつけられたリボン状コイルと、前記プラスチック容器の内部に挿脱可能に配置され、該プラスチック容器へ原料ガスを供給する原料ガス供給管と、前記真空チャンバの内部ガスを排気する排気手段と、前記リボン状コイルに高周波電力を印加する高周波供給手段と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アモルファスカーボン膜中のダングリングボンドを水素以外の元素により積極的に終端させ、ガスバリア性を向上させたアモルファスカーボン膜及び該膜を有する容器を提供する。
【解決手段】第１のアモルファスカーボン膜は、基材上の少なくとも片面に形成され、ガスバリア性を有するアモルファスカーボン膜であって、膜中の窒素濃度が０．５原子％以上５．０原子％以下とする。又は第２のアモルファスカーボン膜は、基材上の少なくとも片面に形成され、ガスバリア性を有するアモルファスカーボン膜であって、膜中の酸素濃度が０．１原子％以上２．０原子％以下とする。 （もっと読む）