【課題】最表面の硬度が高く耐磨耗性に優れると共に、反射率が低い反射防止膜、及び透光部材、並びに反射防止膜の形成方法を提供する。
【解決手段】反射防止膜は、可視光が透過可能な部材の表面に形成された反射防止膜であって、反射防止膜の最表面を構成する膜が、Ｈを添加したＤＬＣであるＨ−ＤＬＣ膜である。反射防止膜の形成方法は、可視光が透過する部材の表面に反射防止膜を形成する反射防止膜の形成方法であって、反射防止膜の最表面を構成する膜として、Ｈを添加したＤＬＣであるＨ−ＤＬＣ膜を形成する最表面形成工程を有し、当該最表面形成工程において、Ｈ−ＤＬＣ膜を、ＥＣＲプラズマ励起方式を用いたＥＣＲプラズマＣＶＤによって形成する。 （もっと読む）

【課題】低圧力下においても、高い成膜レートを引き出し、高いガスバリア性を有する高分子フィルム積層体を製造するための真空成膜装置ならびに最適な高分子フィルム積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁場を用いなくても高密度プラズマを容易に形成できる表面波プラズマの原理を応用し、マイクロ波プラズマの密度を成膜条件に併せてコントロールすることで、低圧力下においても、高い成膜レートを引き出し、高いガスバリア性を有する高分子フィルム積層体を製造する。ここで、プラズマ密度を増加するため、プラズマ発生用の印加周波数に工業用周波数として幅広く用いられているＲＦ（１３．５６ＭＨｚ）を用いず、より周波数の高いマイクロ波を用いて真空成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】 プラスチック製容器本体の内面の全面にプラズマを加速度を持って衝突させて、全面に十分なガスバリア性の薄膜を有するプラスチック製容器の製造法を提供する。
【解決手段】 外部電極と内部電極を備え、該外部電極は、プラスチック製容器本体の主要部よりやや大きめの相似形の空間を有する反応室を備え、また、該内部電極は、反応室内に配置され、かつ、内部電極は、複数の原料ガス吹き出し孔を備え、また、内部電極には原料ガス供給管が連設され、更に、反応室には真空源が排気管を介して接続され、外部電極には整合器を介して高周波電源が接続され、内部電極には原料ガス供給管を介して接地され、外部電極の周りには磁石が配置されている高周波ブラズマＣＶＤ装置を用いてプラスチック製容器本体の内面に十分なガスバリア性の薄膜を有するプラスチック製容器の製造法に関するものである。 （もっと読む）

履物のような１またはそれ以上の大型物品に、望ましい表面特性を付与するために、処理チャンバ（１４）へ物質を運搬する運搬システム（１０）は、液体が充填される第１コンテナ（１６）と、第１コンテナ（１６）から液体を受ける第２コンテナ（１８）と、第１コンテナから第２コンテナ（１８）に流れる液体の量を制御する第１流量制御手段（２０）と、第２コンテナ内の液体を気化させる気化手段（３０）と、第２コンテナ（１８）から処理チャンバ（１４）に流れる気化した物質の流量を制御する第２流量制御手段（３８）と、を具える。 （もっと読む）

【課題】十分なガスバリア性の薄膜を有するプラスチック製容器の製造法を提供する。
【解決手段】高周波プラズマＣＶＤ装置を用い、外部電極１２内に薄膜を被着させるべきプラスチック容器本体１を配置し、プラスチック容器本体１内に内部電極１６を配置し、電極間に高周波電圧を印加し、且つ磁力線、内部電極１６の回転等によりプラズマを加速度を持ってプラスチック容器本体１の内面に衝突させ、減圧下で、反応室Ｃ内の反応性ガスの高周波グロー放電分解によりプラスチック容器本体１の内面にガスバリア性薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】水蒸気バリア性に優れかつフレキシブル性及び透明性を合わせ持つガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】透明プラスチックフィルム（１）の少なくとも一方の面に金属酸化物からなる第一バリア層（２）、ガスバリア性被膜層（３）、金属酸化物からなる第二バリア層（４）を順次積層したガスバリアフィルムにおいて、前記第一バリア層（２）表面における赤外吸収スペクトルによるＳｉ−Ｏ−Ｓｉの伸縮振動に帰属される吸収ピークの位置が１０５５−１０７５ｃｍ^−１の範囲であり、前記第一バリア層（２）表面における純水の接触角が２０°以下であることを特徴とするガスバリアフィルム。 （もっと読む）

本装置は、被加工物のプラズマ処理に利用されるものである。前記被加工物は、少なくとも部分的に真空引きを行うことができる処理ステーションのチャンバ内に差し込まれる。前記プラズマチャンバは、チャンバフロア、チャンバカバー、ならびにチャンバ側壁により限定され、位置調節が可能なガス吹込み用ランスを有している。前記ガス吹込み用ランスは、少なくともところどころ誘電体から構成される。
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【課題】高い耐久性と十分な本物感とが有利に表現され得る加飾樹脂成形品を提供する。
【解決手段】基材１２の意匠面１８に、物理蒸着法又は化学蒸着法により金属薄膜２０を直接に形成して、金属調の加飾を施すと共に、該金属薄膜２０に対して、該基材１２と該金属薄膜２０の両方に付着する特性を備えた透明な塗膜からなるトップコート層２２を１０〜４０μｍの厚さで形成して、構成した。 （もっと読む）

【課題】原子層堆積法によるガスバリア性に優れたガスバリア膜の作製を効率的で安価に行うことができるガスバリア膜の作製方法及び作製装置を提供する。
【解決手段】例えば図１の装置１０を用い、長尺の基材フィルム２を連続して移動させながら、その基材フィルム２上に原子層堆積法による単原子層積層体からなるガスバリア膜１を作製する。この方法は、基材フィルム２の移動方向に、単原子層形成用の第１原料ガスを供給する第１原料ガス供給ステップ（第１原料ガス供給室６２）と、単原子層形成用の第２原料ガスを供給する第２原料ガス供給ステップ（第２原料ガス供給室６３）と、第１原料ガス及び第２原料ガスが混入するのを防ぐために第１原料ガス供給ステップと第２原料ガス供給ステップとの間に設けられた緩衝ステップ（緩衝室６４）と、を有する少なくとも３種のステップ（処理室）を連続して多数配置してなる原子層堆積工程（原子層堆積装置５３）を有する。 （もっと読む）

【課題】成膜チャンバー内における成膜ガス等の偏在を防ぎ、かつ成膜時において成膜対象であるプラスチック容器の内部圧力を適正に保てるようにすることにより、容器の熱変形や容器を構成するプラスチックの炭化等の成膜障害を起こさずに、高効率の成膜加工が行えるようにした成膜装置の提供を目的とする。
【解決手段】１つの筐体からなるサブチャンバーに複数のメインチャンバーが整列して配置されていて、開口を有するプラスチック容器を各メインチャンバー内の上部に倒立させて支持、収納し、各プラスチック容器に対して同時にプラズマＣＶＤ法で薄膜を成膜する装置であって、各メインチャンバー内に収納されているプラスチック容器の内部で成膜に供されてから排出されてくる成膜排気ガスとプラスチック容器の外部にある残留ガスがそれぞれ別系統の排気手段により排気されるようにする。 （もっと読む）

【課題】プラズマの発生エネルギーを損なう事無く、成膜対象となる３次元中空容器及び誘電体冶具に発生する不意の損傷を防げるようにする。
【解決手段】プラズマ処理を行う処理槽と、プラズマを発生させる為の高周波電源と、プロセスガス供給装置と、真空排気装置とを備えた３次元中空容器（８）に成膜を行うプラズマ処理装置において、
前記３次元中空容器（８）が収納出来る空隙を設けた誘電体で構成されている冶具（７，９，１０，１４）の、高周波電力のホット側（１）とアース側（５）のいずれからも電気的に絶縁された箇所に、導電性を有する部品（１２，１３）を配置した事を特徴とする成膜装置。 （もっと読む）

【課題】高いガスバリア性が必要とされる場合に好適に用いることができる透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材層１両面上に、ガスバリア層２と被膜層３を順次積層してなり、前記ガスバリア層２は酸化珪素からなり、かつ、各々の膜厚（厚さＸａおよびＸｂ）が０．００５μｍ以上０．２μｍ以下であり、前記被膜層３は、フラッシュ蒸着法を用いて重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物を成膜し、紫外線または電子線を照射して硬化させてなり、かつ、各々の膜厚（厚さＹａおよびＹｂ）が０．１μｍ以上２０μｍ以下であり、下記３つの式を満たすことを特徴とするガスバリア性積層フィルム。０．００２≦ＸａＹａ、０．００２≦ＸｂＹｂ、（Ｘａ＋Ｘｂ）（Ｙａ＋Ｙｂ）≦０．５。 （もっと読む）

【課題】フィルムの両面に均一かつ高品質な薄膜を安定して形成できる薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】搬送室３には成膜室５ａおよび５ｂが連接し、それぞれ真空ポンプ９ａないし９ｃにて減圧される。搬送室３内には巻出しドラム１３から巻取りドラム３１までのフィルム１５の搬送系が作られている。巻出しドラム１３から巻取りドラム３１の間には、フィルム１５を加熱する加熱手段１７ａないし１７ｆと、フィルム１５の片面に薄膜を形成する第１の成膜手段２５ａと、フィルム１５の他面に薄膜を形成する第２の成膜手段２５ｂが設けられている。巻出しドラム１３で巻き出され、両面に薄膜が形成されて、巻取りドラム３１で巻取られるまで、フィルム１５は減圧条件化におかれ、大気に触れることは無い。 （もっと読む）

本発明は、低圧プラズマを使用して、前記プラズマが電磁場の影響下での処理ゾーン内に低圧で注入された反応流体の部分的電離によって形成される種類の遮蔽コーティングを基材上に堆積する方法に関する。この方法は、少なくとも１つの有機シリコン化合物および１つの他の化合物を含む混合物を伴うプラズマ状態で得られる第１の層が基材上に堆積される少なくとも１つのステップと、式ＳｉＯ_ｘを有する酸化ケイ素から本質的になる第２の層が第１の層上に堆積されるステップと、少なくとも１つの有機シリコン化合物および１つの他の化合物を含む混合物を伴うプラズマ状態で得られる第３の層が第２の層上に堆積され、前記上述の他の化合物は両方とも窒素ガスなどの窒素化合物の形態をとる少なくとも１つのステップとを含む。
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【課題】対象物を加熱することなく樹脂フィルムなどの絶縁体膜上に炭素系膜を成膜し、透明性を保つ形成法の提供。
【解決手段】炭素を含むガスと不活性ガスとの混合ガスをプラズマ生成部によりプラズマ化し、このプラズマから引出電極によりイオンビームを引き出して加速し酸化シリコンをコーティングした対象物に照射することにより炭素原子と酸化シリコン原子が結合する事により、透明性の高いダイヤモンドライクカーボン膜の形成を行う。 （もっと読む）

【課題】１内に導入されたガスを発熱体７で加熱して活性種を形成し、該活性種を用いて、収容された基体１０の表面を処理する真空処理装置において、表面又は全体が耐熱性の乏しい基体１０についても処理が行えるようにする。
【解決手段】発熱体７と基体１０の位置関係が、発熱体７からの輻射熱が直接基体１０に当たらない位置関係となった真空処理装置とする。 （もっと読む）

【課題】高分子フィルムを基材とし、有機ＥＬ等に向けたハイバリア化を可能とする真空成膜装置、高分子フィルム積層体の製造方法ならびに高分子フィルム積層体を提案する。
【解決手段】成膜時のフィルム表面の温度をコントロールし、表面に膜を形成するための温調入りメインロール３４と、マグネトロンを備えホロカソード放電が可能な電極３６と、原料導入パイプ３８を備える真空成膜装置によりなる。 （もっと読む）

【課題】成膜装置における内部電極の絶縁部材の落下を防止し、常に安定して容器のバリア膜を成膜することができるバリア膜形成用内部電極を提供する。
【解決手段】本発明にかかるバリア膜形成用内部電極は、口部を有するプラスチック容器の内部に挿入され、該プラスチック容器内に媒質ガスを供給し、前記プラスチック容器の外部に設けた外部電極に高周波電力を供給することで、プラスチック容器内面に放電プラズマを発生させプラスチック容器の内面にバリア膜を形成するバリア膜形成用内部電極であって、媒質ガスＧを供給するガス流路１０１ａを有するガス供給管１０１と、前記ガス供給管１０１の端部に面一に螺合してなり、前記ガス流路１０１ａと連通するガス吹出し口１０２を有する絶縁部材１０３とを具備する。 （もっと読む）

【課題】プラスチック基材としてＰＥＴやポリオレフィンを用いた場合には勿論のこと、ポリ乳酸を用いた場合においても、酸化劣化のみならず、熱変形や熱劣化などを生じることなく成膜が可能であり、しかも酸素や水分に対するバリア性も高く、密着性に優れ、且つ水分による膜剥離も有効に防止された蒸着膜を備えたプラスチック成形品を提供する。
【解決手段】プラスチック基板１と、該基板表面にプラズマＣＶＤ法によって形成された蒸着膜３とからなり、蒸着膜３は、元素比Ｃ／Ｍ（Ｍは金属元素である）が２．５乃至１３であり且つ元素比Ｏ／Ｍが０．５以下の範囲にある有機金属系蒸着層３ａと炭化水素系蒸着層３ｂとを含み、炭化水素系蒸着層３ｂは、厚みが４０乃至１８０ｎｍの範囲にあり、且つＦＴ−ＩＲ測定で波数３２００〜２６００ｃｍ^−１の領域にＣＨ、ＣＨ_２及びＣＨ_３に由来するピークを示し、ＣＨ_２比が３５％以下及びＣＨ_３比が４０％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大気プラズマを用いて、基材表面に改質層を形成し、前記改質層とバリア膜との二層構造からなる比較的簡単で、かつ高いガスバリア性・密着性を得ることが可能であるバリア膜被覆基材及びバリア膜の成膜方法を提供する。
【解決手段】バリア膜被覆基材１００は、例えばポリプロピレン（ＰＰ）等のように反応性の官能基を持たない炭化水素製基材１０１の表面に、減圧下で放電プラズマによりバリア膜１０２を成膜してなるバリア膜被覆基材であって、前記反応性の官能基を持たない炭化水素製基材１０１に大気プラズマを照射し、前記反応性の官能基を持たない炭化水素製基材１０１表面に、酸素、窒素の何れか一方又は両方を含有する改質層１０３を形成する改質工程と、改質層１０３の上にバリア膜１０２を成膜する成膜工程とから、前記反応性の官能基を持たない炭化水素製基材１０１とバリア膜１０２との間に改質層１０３を形成してなる。 （もっと読む）