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Fターム[4K030LA24]の内容

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Fターム[4K030LA24]に分類される特許

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【課題】無機層の間に有機層が形成されているバリア性積層体であって、有機層と上下の無機層との密着性が良好であり、且つ曲げ耐性も良好で水蒸気透過率も低いバリア性積層体およびその製造方法の提供。
【解決手段】(A)重合性酸性化合物またはオリゴマーもしくはポリマーである酸性化合物、(B)重合性化合物および(C)シランカップリング剤を含む第1の有機層用組成物を第1の無機層の上に適用し、硬化させる第1の有機層形成工程と、前記第1の有機層の上、または前記第1の有機層の上に設けた1層もしくは2層以上の有機層の上に、(D)重合性化合物および(E)シランカップリング剤を含む第2の有機層用組成物を適用し、硬化させる第2の有機層形成工程と、前記第2の有機層の上にプラズマ製膜法によって第2の無機層を形成する工程とを含むことを特徴とするバリア性積層体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、プラスチックまたはガラス基板と原子層蒸着によって製造された大気透過バリアとを含んでなる物品を提供することを課題とする。
【解決手段】
本発明は、a)上面および下面を有する可撓性ポリマー基板と、
b)原子層蒸着によって前記基板の上面および下面の一方または両面上に蒸着された厚さ2nm〜100nmを有する気体透過バリアとを含むこと特徴とする物品である。 (もっと読む)


【課題】バリアフィルムの製造中であってもバリアフィルムのバリア性能の異常をリアルタイムに把握することができるので、異常に対する対応を迅速に取ることができるバリアフィルムの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】真空な成膜装置内で長尺な可撓性フィルムWを搬送しながらバリア膜を形成すると共に、可撓性フィルムWの搬送に段付きローラRを用いるバリアフィルムの製造装置において、成膜装置内であって、バリア膜を形成した後に少なくとも配置された段付きローラに設けられ、可撓性フィルムが段差ローラの中央部52側へ変形する変形距離を非接触で検出する変形距離検出手段72と、検出した検出値と変形距離Lの設定基準値とを比較する比較手段74と、比較した結果、検出値が設定基準値よりも大きいときに、変形を生じたバリアフィルム部分のバリア性能が不合格であると判定する判定手段76と、を備える。 (もっと読む)


【課題】長尺な基板を長手方向に搬送しつつ、容量結合型プラズマCVDによって、基板に窒化珪素膜を成膜する場合において、基板を搬送する際の基板の変形を低減して、ガスバリア性に優れた窒化珪素膜を、高い生産性で製造することができる、ガスバリアフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】原料ガスとして、少なくともシランガスとアンモニアガスとを用い、シランガスの流量をQ[sccm]、プラズマを生成するために投入する電力をP[W]とした際におけるP/Q[W/sccm]が1以上で、かつ、少なくとも基板に成膜を行なう際の電極対を挟む2つの搬送手段の間で、搬送される基板にかかる張力を100[N/m]以下とすることにより、前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】高いガスバリア性が必要とされる場合に好適に用いることができる透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材層1の少なくとも片面に、アンカー層2と、SiOxCy(xは1.5以上2.0以下、yは0以上0.5以下)で表される酸化珪素からなるガスバリア層3と、オーバーコート層4とが順次形成され、基材層1の屈折率n1、アンカー層2の屈折率n2、ガスバリア層3の屈折率n3、オーバーコート層4の屈折率n4が、n1>n2>n3>n4で表され、それぞれ1.4≦n2≦1.7、1.3≦n3≦1.6、1.2≦n4≦1.5であり、アンカー層2の厚みが10nm以上100nm以下であり、ガスバリア層3の厚みが10nm以上100nm以下であり、オーバーコート層4の厚みが10nm以上100nm以下であるガスバリア性積層フィルム。 (もっと読む)



【課題】光デバイス若しくは素子中に、又は光デバイス若しくは素子として、使用するのに適したCVD単結晶ダイヤモンド材料を提供する。
【解決手段】低く均一な複屈折性、均一で高い屈折率、歪みの関数としての低い誘起複屈折性又は屈折率変動、低く均一な光吸収、低く均一な光散乱、高い光(レーザ)損傷閾値、高い熱伝導率、高度な平行度及び平坦度を有しながら高度の表面研磨を示す加工性、機械的強度、磨耗抵抗性、化学的不活性等の特性の少なくとも1つを示すCVD単結晶ダイヤモンド材料であって、前記CVD単結晶ダイヤモンド材料の製造方法は実質上結晶欠陥のない基板を提供するステップと、原料ガスを提供するステップと、原料ガスを解離して、分子状窒素として計算して300ppb〜5ppmの窒素を含む合成雰囲気を作るステップと、実質上結晶欠陥のない前記表面上にホモエピタキシャルダイヤモンドを成長させるステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】過酷な環境下で保存されても密着性に優れ、かつ良好な透明性、ガスバリア耐性を備えた透明ガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】基材上に少なくとも低密度層及び高密度層から構成されるガスバリア層を有する透明ガスバリア性フィルムにおいて、該低密度層と該高密度層との間に、1層以上の中密度層を有することを特徴とする透明ガスバリア性フィルム。 (もっと読む)


合成環境内にて基板上でダイヤモンド材料を合成するための化学蒸着(CVD)方法であって、以下の工程:基板を供給する工程;原料ガスを供給する工程;原料ガスを溶解させる工程;及び基板上でホモエピタキシャルダイヤモンド合成させる工程を含み;ここで、合成環境は約0.4ppm〜約50ppmの原子濃度で窒素を含み;かつ原料ガスは以下:a)約0.40〜約0.75の水素原子分率Hf;b)約0.15〜約0.30の炭素原子分率Cf;c)約0.13〜約0.40の酸素原子分率Ofを含み;ここで、Hf+Cf+Of=1;炭素原子分率と酸素原子分率の比Cf:Ofは、約0.45:1<Cf:Of<約1.25:1の比を満たし;原料ガスは、存在する水素、酸素及び炭素原子の総数の原子分率が0.05〜0.40で水素分子H2として添加された水素原子を含み;かつ原子分率Hf、Cf及びOfは、原料ガス中に存在する水素、酸素及び炭素原子の総数の分率である、方法。 (もっと読む)


【課題】 複数本のボトルの処理を可能とするとともに、ボトルの内面全体に良質な薄膜を形成可能とする。
【解決手段】 チャンバ11aにマイクロ波を供給する同軸導波管23aと、チャンバ11aの内部に原料ガスを供給するガスノズル12と、チャンバ11aが載置された基台13aとを備え、同軸導波管23aが、内部導体23a−2を有し、ガスノズル12が、内部導体23a−2の中心軸からずれた位置に配置された。 (もっと読む)


【課題】容器の膨張を抑制してガスバリア被膜が容器の膨張により損傷を受けることを防止することができる安価な炭酸飲料用ポリエステル樹脂製容器を提供する。
【解決手段】炭酸飲料用ポリエステル樹脂製容器1は、少なくとも胴部5を含む容器外面側の領域を被覆する熱収縮ラベル9を備える。熱収縮ラベル9は、37℃の温度下、引張速度1mm/分で測定した、0〜2%の伸張範囲における横方向引張弾性率E(MPa)とラベルの膜厚d(mm)との積E×dで表される復元定数F(N/mm)が、F>1150−4000t(tは容器の胴部平均肉厚)の範囲にある。 (もっと読む)


【課題】PVD法やプラズマCVD法などによりシート状の基材表面に皮膜を形成するためのシート成膜装置において、水冷構造による構造複雑化を招来することなく、成膜処理等で生ずる熱による膨張変形での各ロールの平行度の狂いを防止できるようになる。
【解決手段】本発明に係るシート成膜装置は、表面に成膜が行われるシート状の基材が巻き付けられる成膜ロール5と、成膜ロール5が内部に配備された真空チャンバ3とを有すると共に、成膜ロール5の両端を内側壁で支持する一対のベース板22と、少なくとも両側が開口30となっているチャンバ基体20とを有し、一対のベース板22の外側壁が大気開放状態となるように、チャンバ基体20の開口30に一対のベース板22の各々を組み付けることで、真空チャンバ3を構成している。 (もっと読む)


ALD薄膜堆積のシステム200,300および方法は、複数の分離された前駆体ゾーン214,216,314,316を含んだ移動を基本としたプロセスにおいて、過剰の化学吸着されていない前駆体を基板210,310の表面から除去する過剰の前駆体を除去する機構280,380を備える。過剰の前駆体を除去する機構280,380は、過剰の前駆体を、分離された前駆体ゾーンに達する前に遊離させるために、局所化された高温状態、高エネルギー状態または過剰の前駆体の共沸混合物を導入し、これにより、熱による基板の分解を生じさせることなく、CVD堆積の発生を防止する。 (もっと読む)


コーティング装置が非直交コータ・ジオメトリを含み、それによってガラス・リボンに対するコーティングを改善し、またコーティングの収率を改善する。コーティング装置は、リボンを、ガラス形成チャンバ内に設けたコーティング区間を通る第1の仮想的なストレートライン23に沿って移動させるための第1の装置を含む。コータは、コーティング・ノズル80及び排出孔83を有し、それぞれが長手方向の軸線を有する。コーティング・ノズル80は、コーティング蒸気をコーティング区間に向けて方向付け、排出孔82は、蒸気をコーティング区間から除去する。第2の装置によって、コーティング・ノズル80及び排出孔82がコーティング区間に面する状態で、コータが経路に対して間隔を置いた関係に取り付けられる。第2の仮想的なストレートライン94がコーティング・ノズル80の長手方向の軸線に垂直であり、第1の仮想的なライン23と第2の仮想的なライン94とは0度超から90度の範囲内の角度を定めている。
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【課題】食品、日用品、医薬品などの包装分野や電子機器関連部材などの分野において、包装材料としての通常の加工を施してもガスバリア性が劣化しない、特に高いガスバリア性が必要とされる場合に好適に用いることができる透明なガスバリア性積層フィルムを提供することにある。
【解決手段】プラスチックフィルムからなる基材層の少なくとも片面に、アンカー層と、SiOxCy(xは1.5以上2.0以下、yは0以上0.5以下の数を表す。)で表される酸化珪素からなるガスバリア層が順次形成されたガスバリア性積層フィルムにおいて、前記アンカー層がポリビニルアセタール、ポリエステルポリオール、イソシアネート化合物およびシランカップリング剤を含んでいることを特徴とするガスバリア性積層フィルムである。 (もっと読む)


【課題】高いガスバリア性のみならず、耐酸化性、透明性、および可撓性にも優れるガスバリア膜、および、このガスバリア膜の有するガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】窒化シリコンを主成分とし、N/Siの組成比が1〜1.4で、水素含有量が10〜30原子%であり、さらに、フーリエ変換赤外吸収スペクトルにおける、Si−Hの伸縮振動のピークが2170〜2200cm-1内に位置し、かつ、このSi−Hの伸縮振動のピーク強度I(Si−H)と、840cm-1付近のSi−Nの伸縮振動のピーク強度I(Si−N)との強度比である[I(Si−H)/I(Si−N)]が、0.03〜0.15であることにより、前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】高いガスバリア性が必要とされる場合に好適に用いられる透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材層1の一方の表面上に、ガスバリア層2、ガスバリア被膜層3、ガスバリア層4、ガスバリア被膜層5を順次積層してなり、ガスバリア層2、4は酸化珪素からなり、ガスバリア被膜層3、5は、一般式Si(OR…(1)で表される珪素化合物およびその加水分解物のうちの少なくとも1つ、一般式(RSi(OR…(2)で表される珪素化合物およびその加水分解物のうちの少なくとも1つ、(R、RはCH、C、またはCOCHを表し、Rは有機官能基を表し、nは1以上の数を表す)、および水酸基を有する水溶性高分子を含有する塗布液を塗布して乾燥させてなるガスバリア性積層フィルム。 (もっと読む)


【課題】ダイアモンドおよびダイアモンド含有材料と支持体の良好な接着力の確保が可能な被膜を提供する。
【解決手段】0.0004から0.3重量%の量のフッ素と一緒に合金を形成しているタングステンの層を含んで成る被膜および/または0.0004から0.3重量%の量のフッ素と一緒に合金を形成している一炭化タングステン(WC)の層を含んで成る被膜が単独に、あるいは多層にダイアモンドまたはダイアモンド含有材料の上に施される。 (もっと読む)


本発明は、第1有機物層(2)と第1無機物層(4)によってフレキシブル基板(1)をコーティングするための装置に関するものである。本発明による装置は、第1および第2チャンバ(10,20)と、雰囲気分離スロット(30)と、を備えている。第1チャンバ(10)内には、前駆体またはオリゴマーまたはポリマーネットワークと重合開始剤とを含有した混合物でフレキシブル基板をプリントするプリント設備(40)が配置されている。第1チャンバ(10)内には、成膜された混合物を硬化させて第1有機物層(2)を形成する硬化設備(50)が配置されている。第2チャンバ(20)内には、基板(1)上に第1無機物層(4)を成膜する気相蒸着設備(60)が配置されている。装置は、基板(1)を設備(40,50,60)に沿って案内するための設備(70)を備えている。
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【課題】有機層および無機層を有する積層型のガスバリアフィルムにおいて、ガスバリア性のみならず、生産性にも優れるガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】基板Zの表面に大気中で成膜された第1有機層12を有し、その上に、真空中で成膜された第2有機層14を有し、その上に、真空中で成膜された無機層16を有する。 (もっと読む)


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