【課題】 真空設備を用いずにＤＬＣ膜の成膜処理を行うものであって、製造装置の構成の簡略化、安全管理の容易さ及びＤＬＣ皮膜容器に係る生産効率の向上を実現するＤＬＣ皮膜容器の製造装置、ＤＬＣ皮膜容器及びＤＬＣ皮膜容器の製造方法を提供する。
【解決手段】 ＤＬＣ皮膜容器の製造装置は、プラスチック容器Ｂを収容し、そのプラスチック容器Ｂ表面にＤＬＣ膜を成膜するチャンバ１０と、そのチャンバ１０内に設けられた電極に電圧を印加する電源部２０と、上記チャンバ１０内に窒素ガスを給気してガス置換を行った後に、ＤＬＣ膜の原料となる原料ガスを供給するガス供給排出部３０とを有して構成される。 （もっと読む）

【課題】高分子フィルムと炭化酸化珪素膜との密着性を改善した従来よりもバリア性の高いガスバリアフィルムを高い生産効率で提供すること。
【解決手段】基材となる高分子フィルム１の片面もしくは両面に、炭化酸化珪素膜２が形成されたガスバリアフィルムであって、炭化酸化珪素膜２がモノマーガス、酸化用ガスおよび不活性ガスを含有する成膜原料ガスを用いた化学的気相成長法（ＣＶＤ法）によって形成され、不活性ガスとしてヘリウムを使用することを特徴とするガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】物理蒸着プロセスによって得られる領域、及び化学蒸着プロセスによって得られる領域を有する、光学干渉多層被膜を開示する。また、こうした被膜を作製する方法、並びに光透過性エンベロープを有するランプも開示する。
【解決手段】光透過性エンベロープの表面の少なくとも一部に、上記の光学干渉多層被膜を設ける。このような被膜をランプに使用すると、ランプのエネルギー効率が有利に改善される。
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【課題】 本発明は、長期間にわたって、基材フィルムと無機酸化物蒸着膜との間の高い密着性、及びそれに基く高いガスバリア性を維持することができる透明蒸着フィルム、並びにそれを使用した積層体を提供すること。
【解決手段】 プラスチック材料からなる基材フィルムの一方の面に、耐プラズマ保護層を設け、その上に、プラズマ化学気相成長法により無機酸化物蒸着膜を設けた透明蒸着フィルムであって、該耐プラズマ保護層が、特定の粒子径のアルミナゾルを特定量含む上記透明蒸着フィルムとする。 （もっと読む）

【課題】家電、家屋に好適に使用できる真空断熱材を提供する。
【解決手段】芯材が、ガスバリア層と熱融着性樹脂層とを積層してなる真空断熱材用ガスバリア性積層フィルムで減圧密封された真空断熱材であって、前記ガスバリア層は、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの両面に珪素含有蒸着膜が１５０〜４０００オングストロームの厚さで積層され、かつ前記蒸着膜にそれぞれに所定のガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜が設けられたガスバリア性フィルムである。得られる真空断熱材は、ガスバリア性および断熱性に優れる。 （もっと読む）

【課題】低圧力下においても、高い成膜レートを引き出し、高いガスバリア性を有する高分子フィルム積層体を製造するための真空成膜装置ならびに最適な高分子フィルム積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】高分子フィルム基材６にプラズマＣＶＤ法により薄膜を形成させる成膜室３と、成膜室に薄膜の原料を導入する原料噴出手段と、マイクロ波発生手段１２と、マイクロ波を受信するアンテナ機構の先端よりプラズマ噴出源のガスを噴出するガス噴射手段１３とを具備する真空成膜装置１を用いる。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性のみならず耐久性にも優れる、無機／有機のガスバリア積層体を提供する。
【解決手段】気相成膜法で無機化合物層を形成した後、逆スパッタリング等で粗面化処理を行い、粗面化処理を行なった無機化合物層の上に、フラッシュ蒸着によって有機化合物層を形成することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】層間の密着力が高く、ガスバリア性能が優れたガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のガスバリアフィルムは、基板上に、有機層と無機層とが順に形成されてなる積層体が、少なくとも２層以上積層されたものである。有機層のうち基板上に直接形成される第１の有機層はガラス転移温度が２００℃以上でモノマー中のＣ−Ｃ結合密度が０．１９以上の（メタ）アクリル化合物により構成され、厚さが３００ｎｍ以上１０００ｎｍ未満である。有機層のうち、第１の有機層以外の第２の有機層は、ガラス転移温度が１０５℃以上でモノマー中のＣ−Ｃ結合密度が０．１９以上の（メタ）アクリル化合物により構成され、厚さが５０ｎｍ以上３００ｎｍ未満である。また、無機層はプラズマを用いた成膜方法により形成されている。 （もっと読む）

【課題】ガスバリアフィルムに関し、バリア性の向上、製造の簡便と低コスト化を図る。
【解決手段】プラスティックフィルムの各主面に接するガスバリヤ層は触媒ＣＶＤによるＳｉＣＮＦＨ層で０．０１＜Ｉ（ＳｉＨ）／Ｉ（ＳｉＮ）＜０．０５、０．００＜Ｉ（ＣＨ）／Ｉ（ＳｉＮ）＜０．０７、０．０４＜Ｉ（ＮＨ）／Ｉ（ＳｉＮ）＜０．０８、および０．０５＜Ｉ（ＣＦ）／Ｉ（ＳｉＮ）＜０．３の条件、またはＳｉＯＣＮＨ層で０．１＜Ｉ（ＳｉＨ）／Ｉ（ＮＨ）＜０．９、０．０＜Ｉ（ＣＨ）／Ｉ（ＮＨ）＜０．３、８＜Ｉ（ＳｉＮ）／Ｉ（ＮＨ）＜２０、および２＜Ｉ（ＳｉＯ₂）／Ｉ（ＮＨ）＜８の条件、またはＳｉＣＮＨ層で０．０１＜Ｉ（ＳｉＨ）／Ｉ（ＳｉＮ）＜０．０５、０．００＜Ｉ（ＣＨ）／Ｉ（ＳｉＮ）＜０．０７、および０．０４＜Ｉ（ＮＨ）／Ｉ（ＳｉＮ）＜０．０８の条件を満たすガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】
基材との密着性の高い皮膜を形成することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】
大気圧及びその近傍の圧力下でプラズマＰを生成する。このプラズマＰを基材Ｆの表面に供給してその表面に成膜するための成膜部１を備えた成膜装置に関する。成膜部１でプラズマＰを供給する前の基材Ｆの表面にプライマー層を形成するためのプライマー層形成部２を備える。プライマー層形成部２で基材Ｆの表面にプライマー層を形成した後、成膜部１でプライマー層の表面に皮膜をプラズマＰにより成膜することができる。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性や耐化学特性などの機能に優れた被膜を、安価に大面積の基材に対して形成可能であり、とくに凹凸のある立体形状の基材に対しても適用可能な被膜形成方法および装置を提供する。
【解決手段】噴出口から基材に向けて噴出させた不活性ガスに、高周波電圧を常圧下で印加して、不活性ガスをプラズマ化させることにより発生させたプラズマ化不活性ガスに対し、プラズマ化不活性ガスの噴射方向と交差する方向に反応ガスを供給して該反応ガスとプラズマ化不活性ガスを合流させることにより、反応ガスの少なくとも一部がプラズマ化されてなるプラズマ化反応ガスを発生させ、該プラズマ化反応ガスを、プラズマ化不活性ガスとともに基材に向けて吹き付けることにより、基材表面に、非晶質素材からなる被膜を形成することを特徴とする基材の被膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】従来の蒸着方法では不十分であった無機酸化物蒸着層の密着強度を改善し、かつ高いガスバリア性能が得られるガスバリアフィルム、該ガスバリアフィルムを高い生産効率で製造可能な製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】基材となる高分子フィルム１の片面もしくは両面に、前記高分子フィルム１と同等もしくはそれ以上に平滑である下地層２、第一無機酸化物蒸着層３、前記高分子フィルム１と同等もしくはそれ以上に平滑である中間層４および第二無機酸化物蒸着層５をこの順で有するガスバリアフィルム、その製造方法および製造装置。 （もっと読む）

【課題】水蒸気バリア性に優れた、透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムからなり、表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以上となる基材層１の上に、重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物を含むアンカー層２と、ＳｉＯｘＣｙ（ｘは１．５以上２．０以下、ｙは０以上０．５以下）で表される酸化珪素からなり、厚さが１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下のガスバリア層３とを順次積層してなるガスバリア性積層フィルムにおいて、前記アンカー層２の厚みが０．１μｍ以上１０μｍ以下、かつ、前記アンカー層２の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が５ｎｍ以下であることを特徴とするガスバリア性積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】被処理物の表面の接着性を向上することができる表面処理方法を提供する。
【解決手段】大気圧近傍の圧力下で対向する電極間に発生させた放電プラズマに被処理物を曝す工程と、ケイ素を骨格に持ち水により加水分解されるケイ素化合物の蒸気と水蒸気とを４０℃以上の温度で３０分以上接触させる工程と、放電プラズマに曝された後の被処理物を接触後の蒸気に曝す工程とを含む表面処理方法である。 （もっと読む）

少なくとも２つの相対する電極（２、３）および処理空間（５）を含む、基材（６）を処理するためのプラズマ処理装置。少なくとも２つの電極（２、３）は、処理空間（５）において大気圧グロー放電プラズマを発生させるためのプラズマ制御ユニット（４）に接続されている。ガス供給機器（８）が、処理空間（５）にガス混合物を提供する。操作では、無機材料の第１層を、２％以下の濃度を有する酸素を含むガス組成物を用いてポリマー基材上に付着させ、その間に電源は３０Ｊ／ｃｍ^２以下のエネルギーを提供する。無機材料の第２層は、３％以上の濃度を有する酸素を含むガス組成物を用いて第１層上に付着させる。第２層の形成中、電源は４０Ｊ／ｃｍ^２以上のエネルギーを提供する。 （もっと読む）

本発明は、物品（１２）を真空処理するための装置（１０）に関する。装置は、物品を処理圧力において真空処理可能な処理領域（１４）と、周囲圧力において装置に物品を取付け可能な取付け領域（１８）とを含む。物品を真空処理できるように、密閉通路（２４）に沿って取付け領域から処理領域へ物品を運搬するために、複数の物品キャリア（２０）が設けられる。キャリア（２０）は、物品を通路に沿って運搬する際に通路の内面に対して封止を行うための個々の封止手段（２６）を含む。取付け領域において周囲圧力下で取付けられ、処理領域に運搬された物品が処理圧力下で真空処理されるように、封止手段（２６）は、取付け領域から処理領域まで通路に沿って封止手段を通過するガスまたは蒸気の流れに抵抗する。
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【課題】器壁の内面及び／又は外面に蒸着膜を形成することにより、著しくガスバリア性が向上したポリエステル容器を提供する。
【解決手段】器壁がポリエステル樹脂からなり、器壁の内面及び／又は外面にプラズマＣＶＤ法によって形成された蒸着膜が形成されているポリエステル容器において、蒸着膜は、ＦＴ−ＩＲ測定で、波数３２００〜２６００ｃｍ^−１の領域にＣＨ、ＣＨ_２及びＣＨ_３に由来する炭化水素系ピークを示し、これら炭化水素系ピークから算出されるＣＨ、ＣＨ_２及びＣＨ_３の合計当りのＣＨ_２比が３５％以下及びＣＨ_３比が４０％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

太陽光による劣化に対して高い耐性を有する、乾式蒸着法を用いて、ＴｉＯ_２またはＺｎＯの透明の薄膜にて被覆された石骨材から製造された石板状または敷石状の物品であって、これらは、低い光触媒作用を有するか、または光触媒作用を有さないＴｉＯ_２および／またはＺｎＯの透明の薄膜で被覆された石骨材から製造された石板状または敷石状の形態であり、上記膜は乾式蒸着法、物理気相成長法（ＰＶＤ）またはプラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）によって蒸着されている。上記の物品は、太陽光による劣化に対して高い耐性を有している。これは、得られた材料が外部環境に適していることを意味する。 （もっと読む）

【課題】内部への樹脂由来のガスの放散を抑制できる半導体用ケースを提供する。
【解決手段】少なくとも内側面が樹脂で構成され、レチクルまたはウェハを収容するケース本体と、内側面を被覆すると共に、内側面から樹脂に含まれる気化物質が放散することを防止するダイヤモンドライクカーボン膜とを備えた。 （もっと読む）

【課題】容量結合型のプラズマＣＶＤにおいて、熱および反応ガスイオンに起因する基板の損傷を抑制することができ、かつ、緻密で膜質の良好な膜を、高い被覆性で成膜することを可能にする。
【解決手段】基板を配置する第１電極にＨＦ〜ＶＨＦ帯の周波数を有する高周波電力を供給し、対向電極となる第２電極に、前記第１電極に供給する電力よりも低周波数で、かつ、１３．５６ＭＨｚ以下である周波数を有する電力もしくはパルス周波数のＤＣパルス電力を供給することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）