【課題】 耐熱性、耐圧性、耐水性等の諸物性に優れ、特に、酸素ガス等の透過を阻止するバリア性に優れ、かつ、レトルト処理等の加工に伴う熱処理に耐えるレトルト用パウチ。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、アクリルポリオ−ルとイソシアネ−ト系化合物とを含むアンカ−コ−ト剤によるアンカ−コ−ト剤層を設け、更に、該アンカ−コ−ト剤層の上に、無機酸化物の蒸着膜を設け、次に、該無機酸化物の蒸着膜の面上に、一般式Ｒ¹ _n Ｍ（ＯＲ² ）_m （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｍ、ｎ、ｍ、ｎ＋ｍの意味は略す。）で表される１種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを含有するゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を設けたバリア性フィルムと、ヒ−トシ−ル性樹脂層とを積層した積層材を使用し、これを製袋してなるレトルト用パウチに関するもの。 （もっと読む）

中空体の中において境界層の蒸着を行なうよう中空体の中にコールドプラズマを作り出すためのマグネトロン（１６）のための高電圧電力供給発電機を制御するための方法であって、当該方法は、複数の動作モード（モード１，モード２，モード３）から発電機動作モードを選択（Ｅ２）することと、マグネトロン（１６）の設定供給電力Ｐ_moyに従ってマグネトロン（１６）の供給電力の波形の最大電力Ｐ_maxを規定する少なくとも１つの係数（（ａ，ｂ，ｃ）；（ａ１，ｂ１，ｃ１））を変動させることにより発電機の動作モード（モード１，モード２，モード３）を修正することを含み、マグネトロン（１６）の供給波形が、設定平均電力Ｐ_moyおよび／または最大電力Ｐ_maxに依存して、周期通流率Ｔｈで再帰的に繰返されることを特徴とする。
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【課題】 コールドプラズマを用いた殺菌及びバリア層の堆積により短時間でプラスチックボトルを処理する方法を提供すること。
【解決手段】 非殺菌性ガスによるコールドプラズマ殺菌のための操作、及び／又は拡散バリアの堆積の操作を含むポリマーボトルを処理する方法において、コールドプラズマが調整可能な非熱エネルギーをボトルの全内面に放出し、このコールドプラズマは、ボトル表面の直近において最大強度を有する非パルス状マイクロ波のボトルの内面への分布された伝播により、又はパルス状ＤＣ又はラジオ波電圧が供給される、ボトルに適合された中空カソードシステムにより発生することを特徴とするプラスチックボトルを処理する方法。 （もっと読む）

【課題】容器の取出口の開封及び再封の度に生ずる、引っ張り等の物理的負荷を受けてもガスバリア性の低下が小さい、ガスバリア性が維持される粘着フィルムを提供する。
【解決手段】粘着フィルムは、粘着フィルム基材１とその上に設けた粘着剤層２とからなる。粘着フィルム基材１は、プラスチックフィルムからなる基材フィルム２とその少なくとも片面に形成した無機酸化物蒸着膜３と、無機酸化物蒸着膜３上に形成した、一般式Ｒ¹_nＭ（ＯＲ²）_m（但し、式中、Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜８の有機基、Ｍは金属原子を表し、ｎは０以上の整数を表し、ｍは１以上の整数を表わし、ｎ＋ｍは原子価を示す）で表される少なくとも１種以上のアルコキシド、ポリビニルアルコール系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコール共重合体を含有し、更にゾルゲル法によって重縮合して得られるバリア性組成物からなるコート材を塗布してなるバリア性被膜とからなる。 （もっと読む）

【課題】高分子樹脂基材上に、無機化合物層とその上の有機被覆物の層とを有する積層体であり、前記両層間の密着性に優れた積層体を提供する。
【解決手段】真空成膜装置１内に、高分子樹脂基材の巻きだしロ−ル４および巻き取りロ−ル５を備え、高分子樹脂基材１０１が巻きだしロール４から巻きだされ、成膜ドラム３に接触しながら進行して巻き取りロール５によって巻き取られる間に、高分子樹脂基材１０１上に少なくとも無機化合物層と活性エネルギー線硬化樹脂層とを順次形成して得られる積層体であって、高分子樹脂基材１０１の進行方向の上流から下流にかけて、無機化合物層形成手段６と、酸触媒およびアルコール供給手段９と、架橋密度の低い活性エネルギー線硬化樹脂層Ａ塗布手段１０と、架橋密度の高い活性エネルギー線硬化樹脂層Ｂ塗布手段１１と、活性エネルギー線照射手段１２とを備えてなる装置によって積層体を得る。 （もっと読む）

【課題】工業用接着テープや光学用粘着シートに好適な、水滴の付着や汚染を防止するための、高い撥水性を有する剥離フィルムの提供。
【解決手段】表面粗さが５〜２００ｎｍであり、かつＳ／Ｎ比が５〜５０の範囲内である微細な凹凸を有する高分子基材上に形成された、水との接触角が１００〜１６０°であり、かつ石鹸水との接触角が５０〜１００°の範囲である、自己組織化単分子膜からなる撥水層を非剥離面に有することを特徴とする、剥離フィルム。 （もっと読む）

本発明は、金属基板への気相における化学的蒸着による、金属クロムあるいは化学的特性がクロムの化学的特性に近い他の金属の硬質被覆の蒸着方法であって、主として、ａ）酸素原子がない溶媒中に、ｉ） 分解温度が３００℃から５５０℃の間に含まれビス（アレン）群の中から選択された、蒸着させる金属の前駆分子化合物と、ｉｉ）塩化添加剤とを含む溶液を用意するステップと、ｂ）エアロゾルの形態の前記溶液を、溶媒の沸騰温度と前駆体の分解温度との間に含まれる温度に熱せられた蒸発装置内に投入するステップと、ｃ）蒸発装置の中性ガス束により、気化エアロゾルを、被覆すべき基板を支持し前駆体の分解温度より高い温度であって最高でも５５０℃までの温度に熱せされたサセプタを備えるＣＶＤ反応装置側に移動させるステップとを含むことを特徴とする方法を対象とする。低温かつ大気圧で行われるＤＬＩ−ＣＶＤ手法によるこの蒸着方法により、鋼または合金製の大型金属プレートの量産条件による流れ処理を行うことができ、その結果、ナノ構造の単層または多層の硬質金属被覆を得ることができる。本発明の別の対象は前記方法の実施に特に好適な注入可能な溶液である。 （もっと読む）

【課題】 透明で可撓性にも優れたガスバリヤー性フィルムを低コストで提供する。
【解決手段】 本発明のガスバリヤーフィルムは、高分子フィルム上に炭素層が形成されたものである。前記炭素層が、燃焼または不完全燃焼により発生するスス（炭素）を高分子フィルムの上に付着させて形成されること、用いられる高分子フィルムは、透明性のあるものであること、が好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラスチック製品について、被膜で表面を被覆することで、優れたガスバリア性、耐摩耗性、耐衝撃性及び耐傷性に加えて、優れた耐変形性を付与することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る被覆プラスチック製品は、プラスチック成形体の表面上に炭素原子と水素原子とを主構成原子として含む被膜が形成された被覆プラスチック製品である。被膜は、例えば、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ法の陰イオン解析において、単原子炭素のピークに対する３原子炭素のピークの強度比率（Ｃ３／Ｃ１）が０．０７以上であり、かつ、ＤＳＣ法の解析において、１４０〜１５０℃の間に発熱ピークの頂点が出現し、７０〜８０℃の間に吸熱ピークの頂点が出現する。 （もっと読む）

【課題】成膜に際し、その製造効率を低下させることなく、樹脂容器が局所的に熱変形するのを防ぐ。
【解決手段】処理装置本体１１内には、この処理装置本体１１の内面のうち樹脂容器Ｗの胴部Ｗ２と対向する側面、および樹脂容器Ｗの胴部Ｗ２それぞれの間に隙間を設けた状態で、この樹脂容器Ｗの胴部Ｗ２を全周にわたって囲繞するマイクロ波透過管１５が設けられ、このマイクロ波透過管１５の外面に、その全周にわたって、高誘電率の材質からなるマイクロ波伝搬被覆１５ａが設けられている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラスチック容器、特にポリ乳酸からなる容器について、ガスバリア性を有する薄膜の密着性と容器のガスバリア性を共に良好とすることである。
【解決手段】本発明に係るガスバリア性プラスチック容器の製造方法は、プラスチック容器用のプリフォームの表面に窒素ガスによるプラズマ処理を施す工程と、プラズマ処理を施したプリフォームをブロー成形してプラスチック容器を得る工程と、ブロー成形によって得たプラスチック容器の表面のうち、プリフォームの段階でプラズマ処理を施した面にガスバリア性を有する薄膜を成膜する工程と、を有する。プラスチック容器に窒素ガスによるプラズマ処理を施してから、成膜を行なっても良い。 （もっと読む）

【課題】 プラスチック基材として、ナイロンフィルムを使用するも、透明性、酸素、水蒸気等に対するガスバリア性等に優れ、更に、バリア性膜としての蒸着膜の剥離を防止し、かつ、その熱的クラックの発生を阻止し、その劣化を防止してバリア性膜として優れた耐性を発揮し、飲食品、医薬品その他等の種々の物品の充填包装適性等に優れた透明バリア性ナイロンフィルムの製造法を提供する。
【解決手段】 ２軸延伸ナイロンフィルム基材の一方の面に、後述の第２の薄膜の第１の薄膜への密着性を向上させ、かつ、第２の薄膜を形成するプラズマ処理による２軸延伸ナイロンフィルムの黄変と劣化を防止する耐プラズマ保護層を構成する物理蒸着法による無機酸化物の蒸着膜からなる第１の薄膜を形成し、次いで、上記の第１の薄膜の上に、プラズマ化学蒸着法による無機酸化物の蒸着膜からなる第２の薄膜を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

一対のプラズマビーム源は、交流電源の両端に接続されて、基板上に材料を析出させるためのプラズマイオンビームを交互に生成する。各プラズマビーム源は、第１の幅を有する放電キャビティと、そこから外側に延びてイオンビームを放出するノズルを備える。ノズルの開口又は出口は第２の幅を有し、第２の幅は第１の幅よりも狭い。略互いに向き合う複数の磁石は、各放電キャビティに隣接して配置されて、放電キャビティ内に磁界ヌル領域を生成する。イオン化ガスは、各放電キャビティに注入される。交流電源は、各放電キャビティ内の電極に接続され、各プラズマビーム源は、交互に陽極又は陰極の役割をする。陰極としては、少なくとも１つのマグネトロン放電領域が、放電キャビティ内に維持される。動作においては、高密度の均一なプラズマビームが陰極源から放射し、イオンビームが陽極源から放射する。
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【課題】ＤＬＣ被膜により被覆される樹脂成形体において、ガスバリア性を低下させることなく透明性を高めることができる樹脂成形体を提供する。
【解決手段】本発明のガスバリア性樹脂成形体は、樹脂成形体の表面にプラズマエッチング処理を施すことにより二乗平均粗さ（Ｒｍｓ）を３ｎｍ以下にする工程、次にプラズマＣＶＤ法により樹脂成形体の表面に膜厚が５〜２０ｎｍのダイヤモンドライクカーボン膜を形成することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】
ガスバリア性に優れたガスバリアフィルムを提供すること。
【解決手段】
透明基材フィルム（Ａ）表面上に不飽和カルボン酸またはその誘導体からなるポリマーを含む透明樹脂層（Ｂ）を積層し、更に該樹脂層上に、透明無機薄膜層（Ｃ）を積層してなるガスバリアフィルム。透明基材フィルム（Ａ）と透明無機薄膜層（Ｃ）が、不飽和カルボン酸及び／またはその誘導体からなるポリマーを含む透明樹脂層（Ｂ）を介して／又は介することなく積層され、さらに透明無機薄膜層（Ｃ）の表面に、透明性樹脂層（Ｄ）が積層されていることを特徴とするガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】高輝度でかつ安定的に蛍光発光する劣化防止保護膜を被覆した発光輝度の持続性に優れたナノシリコン粒子と、その製造方法を提供する。
【解決手段】紫外光線又は可視光線を照射することにより蛍光発光する粒子サイズ３．５ｎｍ以下のナノシリコン粒子を劣化防止保護膜で被覆したことを特徴とする発光輝度の持続性に優れたナノシリコン粒子であり、基板上に塗布したナノシリコン粒子の表面に、高周波プラズマＣＶＤ法により、劣化防止保護膜を被覆して製造する。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性を有するプラスチック容器に関する。詳しくはプラズマＣＶＤ法でプラスチック容器の内面のうち注出口近傍を除いて形成されているガスバリア膜に疎水性を有する保護膜が積層されているプラスチック容器に関する。
【解決手段】
プラスチック容器の内面のうち注出口先端近傍を除いてガスバリア膜が形成されているプラスチック容器であって、前記注出口先端近傍のガスバリア膜先端面を含めて疎水性を有する保護膜がガスバリア膜に積層されていることを特徴としたプラスチック容器。 （もっと読む）

【課題】本発明は、２次平面あるいは３次曲面に成膜をする真空装置のうち圧力が１００Ｐａから０．１Ｐａの中真空と呼ばれる領域で成膜する装置において、成膜安定性を向上させる成膜圧力を調整可能な成膜方法を提供することを目的とする。
【解決手段】プラズマＣＶＤ法でプラスチック容器内面に酸化珪素皮膜を形成する真空成膜技術において、成膜ガスとは別種のガスを、成膜ガスの流量変化に応じて流量を調整しながら容器外部に放出することを特徴とする成膜圧力を調整可能な成膜方法である。 （もっと読む）

【課題】プラスチックや紙を原料としたプラスチックボトルや紙容器等の３次元中空容器の表面にマイクロ波プラズマＣＶＤコーティングを行うプラズマを使用した容器処理装置に関する。
【解決手段】
マイクロ波を供給する導波管（１）の導体面に１つ以上のプラズマ処理を行うための金属空洞筐体（２）を有し、その側面が電気的に接合され、接合面に空けられたスリット（３）により金属空洞筐体（２）と導波管（１）の電磁界エネルギーが結合するプラズマを使用した容器処理装置であって、金属空洞筐体（２）の内部円筒空間中心軸上に導電性を有する材料からなるプロセスガス導入管（４）が電気的に接続された状態で配置され、電気接続点を基準とした場合のガス導入管（４）の長さが、λをマイクロ波の波長、ｎを１以上の整数、αが０＜α≦１５ｍｍとしたときに、１／２λ×ｎ＋ αとなる事を特徴とするプラズマを使用した容器処理装置である。 （もっと読む）

【課題】 優れた透明性と高いバリア性を有し、耐衝撃性にも優れた透明バリアフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 化学気相蒸着法（ＣＶＤ法）による酸化珪素を主体とする薄膜の成膜条件を、波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．４５〜１．５５の範囲内となり、かつ、赤外分光法による分光スペクトルでの珪素原子と酸素原子からなる伸縮振動吸収（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮モード）のピークが１０６０〜１０９０ｃｍ^-1の範囲内となるように設定し、この成膜条件で基材フィルム上に化学気相蒸着法（ＣＶＤ法）により酸化珪素を主体とする薄膜を形成してバリア層とする。 （もっと読む）