【課題】凹凸面が存在する容器や非常に均一性が必要な高いバリア性を必要とする容器に対して均一な成膜を行なうことが可能なバリア膜形成装置、バリア膜形成方法及びバリア膜被覆容器を提供する。
【解決手段】凹凸部１２ａを有する容器１２を被処理物とし、内面にバリア膜を成膜するバリア膜形成装置であって、前記容器１２を取り囲む大きさの空洞を有する誘電体部材５０と、該誘電体部材５０の外周側を覆う外部電極１３と、前記容器１２の口部１１が位置する側の前記外部電極１３の端面に絶縁部材２６を介して取り付けられ、前記容器１２の内部を、排気管１４を介して減圧する排気手段と、前記排気管１４側から挿入され、前記容器１２内にバリア膜生成用の媒質ガス１９を吹き出すためのガス吹出し部を兼用する内部電極１７と、前記外部電極１３と接地電極間に放電を発生させるための電界を付与するための電界付与手段とを具備する。 （もっと読む）

【課題】
透明性、ガスバリア性の優れたガスバリア性のある薄膜を触媒ＣＶＤなどによる製造方法において、薄膜を構成するＳｉＮ、及びＳｉＯＮの組成比率等を効率よく制御する方法、及びその方法によって得られる薄膜を提供することを目的とする。
【解決手段】
複数の種類の原料ガスを減圧下において反応させ、その反応物からなる薄膜を減圧系に配置された基材上に形成する薄膜製造方法において、第１の原料ガス導入口から窒素含有ガス、及び水素が系内に保持され、かつ加熱された金属体の近傍に供給されること、及び当該減圧系に第２の原料ガス導入口からシラン系ガスが導入されること、前記基材上の第１の原料ガス導入口から最近傍部、及び前記最近傍部を挟んだ両側部の何れか一以上に第３の原料ガス導入口からの酸素ガスが供給されること等を特徴とする薄膜製造方法、及びその製造方法から得られる薄膜。 （もっと読む）

【課題】内部電極、排気通路への炭素膜が付着するのを防止し、時間的ロスが低減可能となるバリヤ膜形成装置を提供する。
【解決手段】本実施形態に係るバリヤ膜形成装置１０Ａは、プラスチック容器１２の内部に内部電極１７を挿入し、プラスチック容器１２内に原料ガスＧを供給し、プラスチック容器１２の外部に外部電極１３を設け、プラスチック容器１２内面に放電プラズマを発生させ、プラスチック容器１２内面にバリヤ膜を形成するバリヤ膜形成装置であって、プラスチック容器１２内面へのバリヤ膜の成膜中に、排気通路１５内にバリヤ膜形成を抑制する希釈ガス３１を導入する希釈ガス供給手段３０Ａを設け、希釈ガス３１によって原料ガスＧを希釈することで、プラスチック容器１２内のプラズマ雰囲気とは異なるプラズマ雰囲気を排気通路１５内に発生させることにより、排気通路１５内面、内部電極１７へのバリヤ膜の形成を抑制する。 （もっと読む）

【課題】
透明性、ガスバリア性の優れたガスバリア性のある薄膜を触媒ＣＶＤなどの方法において、効率よく製造する方法、及びその方法によって得られる薄膜を提供することを目的とする。
【解決手段】
触媒ＣＶＤにより基材の表面に窒化珪素（ＳｉＮ）膜等の無機薄膜を形成する方法であって、触媒ＣＶＤを行う減圧系に供給される原料ガス中のシラン系ガスの流量に対する水素ガスの流量の比率を３〜１５とすることを特徴とする窒化珪素又は酸窒化珪素の薄膜の製造方法。原料ガスを触媒ＣＶＤの減圧系に供給し、かつ加熱された金属体の近傍の減圧下において反応させ、その反応物からなる薄膜をその減圧系に配置された基材上に形成する。 （もっと読む）

【課題】透明性、ガスバリア性の優れたガスバリア性のある薄膜を触媒ＣＶＤなどの方法において、効率よく製造する方法、及びその方法によって得られる安定した膜厚を有する薄膜を提供する。
【解決手段】複数の種類の原料ガスを減圧下において反応させ、その反応物からなる薄膜を減圧系に配置された基材上に形成する薄膜製造方法において、第１の原料ガス導入口４から窒素含有ガス、及び水素が、原料ガス混合手段によって混合された後、系内に保持され、かつ加熱された金属体３の近傍に供給されること、及び当該減圧系に第２の原料ガス導入口５からシラン系ガスが導入される等の薄膜製造方法、及びその製造方法から得られる薄膜を提案する。 （もっと読む）

【課題】 透明性、柔軟性、延展性、可撓性等を有すると共に優れたガスバリア性を備え、かつ、引き裂き性が良好で直線カット性を有し、更に、耐衝撃性、屈曲性等の諸物性に優れた直線カット性を有するバリア性フィルムを提供。
【解決手段】 ナイロン樹脂とナイロンＭＸＤ６樹脂との混合樹脂からなる二軸延伸ポリアミドフィルム１と、該二軸延伸ポリアミドフィルムの一方の面に設けた炭素含有量が異なる炭素含有酸化珪素膜２ａ、２ｂ、２ｃからなるバリア性層２とからなることを特徴とする直線カット性を有するバリア性フィルムＡに関するものである。 （もっと読む）

【課題】成膜対象物たる中空体の内面に均一にＤＬＣ膜を形成することのできる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】チャンバー内を減圧する減圧手段と、中空体内に原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、中空体を囲む空間を形成し、この空間内で発生した放電によって中空体内の原料ガスをプラズマ状態とする電極と、電極の外側に配置され、中間体を囲む空間内に磁場を発生させる磁場発生手段と、を備え、磁場発生手段が発生した磁場を用いて、プラズマ状態の原料ガスによって中空体の内面に膜厚が均一なダイアモンドライクカーボン膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】水蒸気や酸素の透過を防止して種々の物品を保護し得るガスバリヤフィルムを簡便かつ効率的に低コストで提供する。
【解決手段】 ガスバリヤフィルムは、プラスティックフィルム（１）の一方の主面上に順に積層された第１、第２、および第３の有機・無機ハイブリッド層（２、３、４）を含み、これらのいずれの有機・無機ハイブリッド層も意図的に導入された炭素シリコン窒素および水素を含み、第１と第３の有機・無機ハイブリッド層（２、４）は第２の有機・無機ハイブリッド層（３）に比べて大きな炭素組成比を有し、第２の有機・無機ハイブリッド層（３）においては第１と第３の有機・無機ハイブリッド（２、４）に比べてシリコンと窒素の合計組成比が大きく設定されていることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】フィールドエミッションランプに用いる陰極の量産性を向上すること。
【解決手段】本成膜方法は、大気に開放してある反応炉１２内に基板２０を配置し、基板２０に直流電源２６から直流負バイアスを印加し、反応炉１２内に炭化水素系ガスと酸素系ガスとを導入し、反応炉１２内に設置した触媒金属材を含む放電電極対１８によりスパーク放電を発生させることにより、基板２０の表面に電界電子放出用の炭素膜３６を成膜する。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性、機械的強度、引裂き性に優れる液体用小袋および液体小袋包装体を提供する。
【解決手段】基材フィルム、炭素含有酸化珪素の蒸着膜の薄膜およびコーティング層からなるガスバリア性積層フィルムの前記コーティング層に、アンカーコート剤によるアンカーコート層および／またはラミネート用接着剤によるラミネート用接着剤層、およびヒートシール性樹脂層を順次積層させた積層材からなる液体用小袋である。引裂き性、機械的強度、ガスバリア性に優れ、かつ透明性が確保される。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性、巻き取り外観に優れるガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】動摩擦係数０．４以下、ヘイズ６．０％以下、アッシュテスト性能１５ｍｍ以下であり、少なくも一方の表面の表面粗さが２０００ｎｍ以下の２軸延伸ポリアミドフィルムを基材フィルム１０とし、前記表面粗さが２０００ｎｍ以下の前記基材フィルム面に無機酸化物の蒸着膜２０を設け、該無機酸化物の蒸着膜の面上に所定のガスバリア性塗布膜３０を設けたガスバリア性積層フィルムである。該ガスバリア性積層フィルムは、ガスバリア性、透明性に優れると共に、滑り性、巻き取り外観に優れる。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性フィルム基材端部の曲折を防ぎ、生産性を向上させたガスバリア性フィルムの製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】グラビアロールの彫刻の版深を、中央部近傍から両端部近傍に向けて左右対称、かつ段階的に浅くなるように設け、無機酸化物の蒸着膜上に塗布するガスバリア性組成物の端部の塗布量を減少させる。加えて、彫刻の版深は、グラビアロールの中央部近傍から両端部近傍に向けて左右対称、かつ三段階に順次浅く設ける。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性、ラミネート強度に優れるガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】基材フィルム１０、無機酸化物の蒸着膜２０、ガスバリア性塗布膜３０、アンカーコート層４０およびヒートシール層５０とをこの順序に有するガスバリア性積層フィルムであり、ガスバリア性塗布膜３０が、アルコキシドと、ポリビニルアルコール系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコール共重合体を含有し、更に、ゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物であり、アンカーコート層４０としてポリエチレンイミンを含むアンカーコート組成物からなることを特徴とする。更にはアンカーコート層４０とヒートシール層５０との間に、接着性樹脂層を含むこと、ヒートシール層５０が、熱融着性ポリオレフィン系樹脂からなることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】透明性、ガスバリア性、耐久性及び信頼性に優れたガスバリア積層体を提供すること。
【解決手段】 ガスバリア積層体は、ポリビニルアルコール系樹脂よりなる基板の少なくとも片面に、または光硬化性樹脂よりなる基板の少なくとも片面に、酸化シリコンを主成分とする膜Ａと、窒化シリコンを主成分とする膜Ｂとがこの順で形成された構造を有する。 （もっと読む）

【課題】真空中でプラスチック容器に真空蒸着法、化学蒸着法（ＣＶＤ）等の方法により薄膜を形成するプラスチック容器の成膜装置に関する。
【解決手段】
外部電極の内側に配設したプラスチック製の容器内に内部電極を挿入配置し、前記容器内を真空にする手段と、内部電極から原料ガスを該容器内に供給する手段と、外部電極と内部電極間にプラズマを発生させる手段とを有し、前記容器内壁面にプラズマ化学気相析出法により薄膜を形成する成膜装置において、前記内部電極の先端にスリット状のガス供給孔を有する部材を設け、その部材の出口側面に短辺寸法が０．５ｍｍ以下、奥行き寸法が前記短辺寸法の１０倍以上有することを特徴とするプラスチック容器の成膜装置。 （もっと読む）

【課題】プラスチック容器内で液体の高い保管寿命を実現するために耐ｐＨ性の障壁被覆を提供すること。
【解決手段】本発明は、基体（２）および基体（２）上の被覆（３）を備える複合材料（１）、それから作製される容器、および複合材料（１）を作製するための方法に関し、被覆（３）が、基体（２）に面する少なくとも１つの第１の領域（３１）および基体（２）に離れて面する少なくとも１つの第２の領域（３２）をもたらし、第１の領域（３１）が障壁層（４）を備え、第２の領域（３２）が不活性化層（５）を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ガスバリア薄膜コーティングプラスチック容器の製造方法において、低価格な原料を使用し、安全かつ高速でガスバリア性を有する薄膜を成膜することが可能であって、高価な機材を必要としない製造装置で稼動しうる安価な製法を提供することである。
【解決手段】本発明の製造方法は、プラスチック容器１１を収容した真空チャンバ６の内部を大気圧以下の所定圧力とする工程と、真空チャンバの内部に配置されているワイヤー１８に通電して所定温度以上に発熱させてホットワイヤーとする工程と、真空チャンバの内部に供給された、ケイ素若しくは金属元素を構成元素として含む非自然発火性原料及びオゾンガスを、ホットワイヤーで加熱し、その後、プラスチック容器の内表面又は外表面の少なくともいずれか一方に接触させて、非自然発火性原料由来の酸化物薄膜を形成させる工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、安全かつ高速で、プラズマによる損傷が無いガスバリア薄膜を立体形状のプラスチック容器に低温で成膜することを可能とし、しかもプラズマＣＶＤ成膜装置と比較して高価な機材を必要としない製造装置で稼動しうる安価な被膜プラスチック容器の製法を提供することである。
【解決手段】本発明に係るバリア膜被覆プラスチック容器の製造方法は、プラスチック容器を収容した真空チャンバの内部に炭素源原料ガスを供給し、炭素源原料ガスを熱触媒体に吹き付けて炭素源原料ガスを分解して化学種を生成させ、かつ、ホットワイヤーから金属種を揮発させ、容器の内表面又は外表面の少なくともいずれか一方に化学種及び金属種を到達させることによって金属種含有ＤＬＣ薄膜を形成する。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、プラスチック基板またはプラスチック包装材の１つ以上の表面にダイヤモンド様炭素コーティングまたはドープ処理されたダイヤモンド様炭素コーティングを含む物品に関する。ＤＬＣまたはドープ処理されたＤＬＣコーティングの実施形態は、プラスチック単独の浸透率と比較して、被覆されたプラスチックまたは熱可塑性材料の水素またはヘリウムに対するガス浸透を低下させる。ＤＬＣまたはドープ処理されたＤＬＣコーティングは、約１０^７から約１０^１４オーム／スクエアの表面抵抗率を与え、約３００ｎｍから約１１００ｎｍの範囲の基礎プラスチック基板の透過率よりも約０％から約７０％低い範囲の透過率を有する。ＤＬＣが被覆されたプラスチックは、半導体ウエハおよびレチクルなどの環境感受性基板を保護するための環境包装材に使用することができる。
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【課題】ＩＣＰプラズマ方式によって、小型かつ簡易な構成で、大面積の基板に高速処理が可能なプラズマ処理を実現する。
【解決手段】コイルによって誘導電界を生成する電界形成手段、電界手段が形成した電界を透過する誘電体窓、ガスを供給するガス導入手段を長尺にして長手方向を一致して配置し、この長手方向と直交する方向に基板を搬送しつつＣＶＤによる成膜等のプラズマ処理を行なうことにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）