【課題】連続焼鈍炉用ハースロール周面の表面粗度の評価指標として適切な指標を用いることで、ロール周面に対する異物の付着を抑制する。
【解決手段】本発明の連続焼鈍炉用ハースロール１０は、ロール周面の周方向の表面粗度が、Ｒｓｋで０未満であることを特徴とする。これにより、ハースロール１０のロール周面の表面粗度の評価指標としてＲｓｋを用い、ロール周面の表面粗度をＲｓｋで０未満として、適切な粗度に調整できるので、ロール周面に対する異物の付着を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】過大なクラックの発生を防止しつつ、十分な効果が得られる緻密化層を形成し、それ共にコストアップを招かない溶射皮膜における緻密化層の形成方法、及び溶射皮膜被覆部材を提供する。
【解決手段】Ａｌ_２Ｏ_３溶射皮膜５の表層６の皮膜組成物を再溶融、再凝固させる高エネルギービームを、Ａｌ_２Ｏ_３溶射皮膜５の表面５ａへ走査する際に、走査方向へ向けて先行して走査させる先行レーザービーム２０と、この先行レーザービーム２０と同一軌跡上で追従して走査させる追従レーザービーム２１とで構成し、先行レーザービーム２０をＡｌ_２Ｏ_３溶射皮膜５の表面５ａへ走査させながら照射すると共に、追従レーザービーム２１を当該先行レーザービーム２０で走査した被照射領域２２へ走査させながら重ねて照射し、当該被照射領域２２の表層６を緻密化する。 （もっと読む）

【課題】成分汚染が生じ難く、それと共に半導体製造装置におけるパーティクルの発生を十分に減少させることのできる半導体製造装置用部材を提供する。
【解決手段】搬送アーム１の載置部材１６にセラミックを溶射して溶射皮膜を形成し、この溶射皮膜にレーザービームを照射して、セラミック組成物を再溶融、再凝固させて変成させたセラミック再結晶物からなる高強度セラミック層５を形成し、半導体製造装置５０における外的要因により、載置部材１６から脱落する粒子を、半導体製造プロセスに影響を与えない程度に低減させる。 （もっと読む）

【課題】耐焼付性に優れた転動体、その製造方法及び耐焼付性に優れた転動体を備えた動力伝達装置を提供する。
【解決手段】転動体は、基材と、該基材の表面に形成される皮膜とを備える。この転動体における皮膜は、上記基材の硬度より高い硬度及び上記基材の融点より高い融点を有する少なくとも１種の硬質粒子と金属単体及び合金の少なくとも一方からなる金属材とを少なくとも表面構成要素として含む。
転動体の製造方法は、上記転動体を製造する方法であって、基材の表面への皮膜の形成を、溶射材を用いた溶射法によって行う方法である。この転動体の製造方法における溶射材は、上記基材の硬度より高い硬度及び上記基材の融点より高い融点を有する少なくとも１種の硬質粒子と金属単体及び合金の少なくとも一方からなる金属材とを含む。 （もっと読む）

【課題】高温用途材の表面に耐熱性や耐高温摩耗性に優れる溶射皮膜を形成するときに有効な、サーメットからなる溶射粉末材料を得ること。
【解決手段】セラミック粒子と、その表面に被覆されている０．５〜１０ｍａｓｓ％のＷを含有し、かつ残部がＮｉであるＮｉ−Ｗ合金あるいはさらにＰやＢを含む耐熱合金の無電解めっき膜とからなるサーメット溶射粉末材料であって、粒径が６〜７０μｍの大きさである高温用途材被覆用サーメット溶射粉末材料およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】溶射効率のよい溶射用粉末を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、セラミックス粒子を含む溶射用粉末であって、セラミックス粒子のフラクタル次元の値が１．０８以下であることを特徴とする溶射用粉末である。セラミックス粒子は造粒−焼結粒子であることが好ましく、セラミックス粒子の平均アスペクト比は１．３０以下であることが好ましい。また、溶射用粉末が追加セラミックス粒子を含んでもよく、追加セラミックス粒子のフラクタル次元の値が１．０８以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ロール周面の溝底の表面粗度の評価指標として適切な指標を用いることで、溝底に対する異物の付着を低減する方法を提供する。
【解決手段】ロール周面に複数の溝１０が形成され、前記溝１０の底部１２の表面粗度の評価指標として、従来一般的なＲａやＲｚではなく、粗さ曲線のスキューネスＲｓｋを用いる。Ｒｓｋは、溝底１２の粗さの評価指標として適切であり、Ｒｓｋで０未満である溶融金属めっき浴中ロールとすることにより、溝底１２に対する異物の付着を低減できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、溶融材料をスリットから外部に吐出させるためのガイド部材を提供する。
【解決手段】本発明のガイド部材は、外部に溶融材料が吐出する境界のエッジ部に溶射法を用いて金属基材の表面に形成した超硬合金層に摩擦攪拌プロセスを施し、該超硬合金層に含まれる結合相の結晶粒を微細化することで改質された超硬合金改質層で形成される。このガイド部材は、溶融材料の押し出し成形に使用するＴダイに適しており、超硬合金改質層が形成されるエッジ部は、溶融材料を外部まで案内するＴダイのスリットの開口端側の内壁である。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐高温摩耗性、潤滑性、離型性等に優れた皮膜を被覆形成した溶融ガラス塊を成形するための成形用金型。
【解決手段】溶融ガラス塊と接触する成形用金型内表面に、直接またはアンダーコートを介して、粒径５〜６０μｍの、金属硼化物と残部がＮｉおよびＷを必須成分とするＮｉ基耐熱合金とからなる金属硼化物サーメット溶射材料を、大気プラズマ溶射法、減圧プラズマ溶射法、高速フレーム溶射法、爆発溶射法のうちから選ばれるいずれかの溶射法によって溶射し、膜厚５０〜１０００μｍの金属硼化物サーメット溶射皮膜を被覆形成する溶融ガラス塊成形用金型の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐高温摩耗性、潤滑性、離型性等に優れた皮膜を被覆形成した溶融ガラス塊を成形するための成形用金型。
【解決手段】金属硼化物（２０〜９０ｍａｓｓ％）と残部がＮｉもしくはＮｉ―Ｃｒ基合金とからなる金属硼化物サーメット溶射皮膜を、各種溶射法によって、金型基材の表面に直接またはアンダーコートを介して、膜厚５０〜１０００μｍに被覆形成してなり、表面がＲａで２μｍ以下、Ｒｚで４μｍ以下の平滑面となるように表面仕上げされている成形用金型とその製法。 （もっと読む）

【課題】構成部材の摩耗や当接による消耗を有意に抑制することが可能なスクリューの製造方法。
【解決手段】（ｉ）重量比で、５〜９％のＢ（ホウ素）、９〜１１％のＣｒ（クロム）、４〜５％のＳｉ（ケイ素）、およびＮｉ（ニッケル）を含む第１の粉末を準備する工程と、（ｉｉ）金属元素Ｍを含む第２の粉末を準備する工程であって、第２の粉末は、Ｗ（タングステン）および／またはＭｏ（モリブデン）である、工程と、（ｉｉｉ）前記第１および第２の粉末を混合して、溶射粉末を得る工程であって、前記第２の粉末は、前記第１の粉末に対して、Ｍ：Ｂ（ホウ素）がモル比で、０．７５：１〜１：１となるように混合される、工程と、（ｉｖ）構成部材の表面に溶射膜を形成する工程と、（ｖ）前記溶射膜を熱処理して、ホウ化物Ｎｉ（Ｍ_ｘＢ_ｙ）を形成する工程と、を有することを特徴とするスクリューの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明では、良好な耐摩耗性を有するとともに、さらに良好なじん性を有する溶射合金を提供することを目的とする。
【解決手段】Ｎｉ（ニッケル）−Ｂ（ホウ素）系合金と、金属元素Ｍとを有する溶射合金であって、前記Ｎｉ−Ｂ系合金は、重量比で、５〜７％のＢ（ホウ素）、９〜１１％のＣｒ（クロム）、および４〜５％のＳｉ（ケイ素）を含み、前記金属元素Ｍは、Ｍ：Ｂ（ホウ素）がモル比で、０．７５：１〜１：１となるように含まれ、前記金属元素Ｍは、Ｗ（タングステン）および／またはＭｏ（モリブデン）であることを特徴とする溶射合金。 （もっと読む）

【課題】 高硬度で耐摩耗性、耐食性、耐熱性に優れ、耐熱衝撃性および靭性よりも、メッキ浴として使用される亜鉛やアルミニウム等の溶融金属に対する耐食性をさらに向上させたサーメット溶射被膜を形成しうる溶射用粉末を提供する。
【解決手段】 重量比にて、Ｂ：８．０〜１０．０％、Ｃｏ：８．０〜１２．０％、Ｃｒ：２．０〜１０．０％、Ｗ：０．５〜７．０％を含み、残部Ｍｏと不可避的不純物から構成され、かつ、ＭｏとＢとの合計量が重量比にて７５．０〜８５．０％、ＣｏとＣｒとＷとの合計量が重量比にて１０.５〜２５．０％である複合粉末組成物からなることを特徴とする硼化物系サーメット溶射用粉末。 （もっと読む）

【課題】溶射工程では材料が高温下で酸化状態に晒され材料が酸化されてしまうので、材料が本来有している機能が低下したり、気泡を内包したりする問題がある。本発明の課題は、（１）溶射皮膜の接合強度や性能を低下させない、（２）溶射後、封孔処理のための加熱や塗装処理を不要にする、（３）残留フラックスの除去工程を不要にすることにある。
【解決手段】アーク溶射ノズルに圧縮空気を吹き込むアーク溶射もしくはガス溶射ノズルに燃焼ガスを吹き込むガス溶射などの溶射方法において、気化装置に電解質を溶媒に溶解した液体フラックスを充填し、前記気化装置に前記圧縮空気もしくは前記燃焼ガスを吹き込んで前記液体フラックスを気化せしめて気化フラックスを生成し、該気化フラックスを前記アーク溶射ノズルもしくは前記ガス溶射ノズルに吹き込んで溶射する溶射方法である。 （もっと読む）

【課題】基材表面に、耐食性と耐摩耗性に優れた緻密表面層をもつサーメット皮膜を形成する方法と、この方法によって得られるサーメット皮膜被覆部材とを提案すること。
【解決手段】導電性基材の表面に形成した非導電性セラミック溶射皮膜を電気亜鉛めっき液中に浸漬して、電気亜鉛めっき処理を行うことによって、前記セラミック溶射皮膜の気孔中にめっき析出亜鉛を充填することにより、めっき析出亜鉛を充填したサーメット皮膜を形成し、次いで、高エネルギー照射処理を施して、皮膜表面を再溶融して緻密表面層を生成させる方法と、このようにして得られる皮膜被覆部材。 （もっと読む）

【課題】高温に曝される物品に対して耐摩耗性及び低摩擦特性のコーティングための組成物を提供する。
【解決手段】該コーティングのための組成物は、炭化物、ホウ化物、又は、タングステン、アルミニウム、クロム、タンタル、モリブデン、バナジウム、ジルコニウム、ニオブ若しくはこれらの組合せからなる選択される少なくとも１種の元素の酸化物を含む硬いセラミック相、ニッケル、コバルト、鉄、銅、クロム、銀及びこれらの組合せからなる少なくとも１種の金属を含む金属のバインダー相、及び潤滑相を含む。 （もっと読む）

【課題】セラミックス粉末を使用して衝撃焼結被覆によりセラミックス皮膜を製造する場合、プラズマ溶射は、フレーム温度が15000℃から30000℃にもなる。また従来のフレーム溶射はフレーム温度が2200℃から3400℃になり粉末が容易に溶融し、また昇華、分解することにより、溶射粉末と異なる変態した皮膜、組成が変わる皮膜となる。低温で衝撃焼結被覆をすることにより要求を満足する機能性を有する優れた皮膜を得る安価な方法を提供する。
【解決手段】従来のフレーム溶射と異なり、ガンの燃焼室の後に、粉末と燃焼ガスを供給ノズルからフレームの軸に向けて燃焼ガスとスラリー状微粉末を噴射し、燃焼室に導入の酸素量と供給ノズルから導入する燃焼ガスとの容量を調整してフレーム中に存在するセラミックス微粉末の温度を制御し、また燃焼生成ガスにより加速して、衝撃焼結被覆をし、要求機能特性と密着性を有する皮膜を形成したことを特徴とする。 （もっと読む）

第２の成分Ｂと機械的に混合された第１の成分Ａを有する溶射粉末であって、第１の成分Ａが、金属若しくは金属複合材料、好ましくは、Ｎｉ−Ｃｒ−Ａｌで被覆されたＡＢＮ、Ｎｉ−Ｃｒ−Ａｌで被覆されたＨＢＮ、有機結合剤を含むＮｉ−Ｃｒ−Ａｌで被覆された凝集六方晶系窒化ホウ素粉末、無機結合剤を含むＮｉ−Ｃｒ−Ａｌ凝集六方晶系窒化ホウ素粉末、ＭがＮｉ、Ｃｏ、Ｆｅのうちの少なくとも１つであるＭＣｒＡｌＹ型粉末のうちの少なくとも１つであり、成分Ｂが、ニッケル、ニッケル合金、ニッケルクロム合金、ニッケルクロムアルミニウム合金、ニッケルアルミニウム合金、コバルト及びコバルト合金のうちの少なくとも１つで被覆されたポリマーである、溶射粉末。その結果は、４相混合物とする４つのはっきりと異なる相の溶射粉末である。
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部材を製造するための方法が提供される。この方法は、形成される部材の内部寸法に対応するフォーマを製造するステップと、フォーマの少なくとも１つの表面上に第２の材料の層を設けるステップと、フォーマを閉じ込め容器内に配置し、閉じ込め容器を第１の材料で満たすステップと、閉じ込め容器を熱間静水圧圧縮成形にかけ、第２の材料が第１の材料に拡散させるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】長時間の使用によってもドロス等の異物の付着がなく、安定して高品質のめっき製品を製造することができる溶融金属めっき浴用ロールを提供する。
【解決手段】溶融金属メッキ浴に浸漬して用いる溶射皮膜が被覆されたドロス排出溝を有するめっき浴用ロールにおいて、上記溶射皮膜被覆後のドロス排出溝の断面形状は、基材頂部が上に凸の曲線からなり、溝部断面積Ｓと基材部断面積Ｂとの比（Ｓ／Ｂ）が１．０以上である、好ましくは、溝部断面積Ｓ（ｍｍ^２）と溝ピッチＰ（ｍｍ）との比（Ｓ／Ｐ）が０．１以上であることを特徴とする溶融金属めっき浴用ロール。 （もっと読む）