【課題】ＦＰＤ用の基板をプラズマ処理する際に異常放電やパーティクルの問題が生じ難いプラズマ生成用電極を提供すること。
【解決手段】プラズマ生成用電極２０は、チャンバ２内に配置されたフラットパネルディスプレイ用の基板Ｇとの対向面Ｆを有し、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基材２０ａの表面に陽極酸化処理されて陽極酸化皮膜２０ｂを有する本体と、本体の対向面Ｆに開口した複数のガス吐出孔２２と、対向面Ｆにおいて、少なくともガス吐出孔２２の開口部２２ｃに形成されたセラミックス溶射皮膜２３とを有し、対向面Ｆにおいてセラミックス溶射皮膜２３の間の部分は、本体の面が露出している。 （もっと読む）

【課題】セラミックス基材に対する電極の剥離を抑制可能で、小型化が可能な電極構造などを提供すること。
【解決手段】セラミックス基材１２上に設けられる導電層３０と、導電層３０に固定される電極４０とを有する電極構造２０において、導電層３０は、少なくとも一部が多孔質であって、電極４０と接触する表面に微細な凹凸を有し、電極４０は、導電層３０の凹凸の凹部３１に入り込んだアンカー部４６を有する。 （もっと読む）

【課題】基材に溶射皮膜を設けた真空装置用部品において、膜剥がれ、微小パーティクルの発生を低減した真空装置用部品を溶射皮膜溶射皮膜提供する。
【解決手段】基材１と前記基材の上に設けられた溶射皮膜３とを有する真空装置用部品において、前記溶射皮膜は、高融点金属粒子またはセラミック粒子の少なくとも一種と、アルミニウム粒子を用いて形成し、前記溶射皮膜が、金属溶融膜膜片５と、粒子６と、空隙７とを有し、空隙率が１２％以上４０％以下である。 （もっと読む）

【課題】溶射工程では材料が高温下で酸化状態に晒され材料が酸化されてしまうので、材料が本来有している機能が低下したり、気泡を内包したりする問題がある。本発明の課題は、（１）溶射皮膜の接合強度や性能を低下させない、（２）溶射後、封孔処理のための加熱や塗装処理を不要にする、（３）残留フラックスの除去工程を不要にすることにある。
【解決手段】アーク溶射ノズルに圧縮空気を吹き込むアーク溶射もしくはガス溶射ノズルに燃焼ガスを吹き込むガス溶射などの溶射方法において、気化装置に電解質を溶媒に溶解した液体フラックスを充填し、前記気化装置に前記圧縮空気もしくは前記燃焼ガスを吹き込んで前記液体フラックスを気化せしめて気化フラックスを生成し、該気化フラックスを前記アーク溶射ノズルもしくは前記ガス溶射ノズルに吹き込んで溶射する溶射方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、簡素な構造と製造方法でありながら、基材に発生する応力を緩和させ、基材の破壊を防止するとともに、高温使用環境下での十分な耐性を有する電極構造体及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】セラミックス基材１０と、
Ｎｉ又はＣｏ系の金属材料を含む溶射電極層３０と、
Ｎｉ、Ｃｒ及びＣｏの少なくとも１つの金属材料を含む多孔体からなり、前記セラミックス基材と前記溶射電極層の間に挿入された中間溶射層２０と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れたろう付け性能を実現し得るフラックスからなる溶射皮膜を、良好なる密着性及び溶射効率をもって形成することが可能な、ろう付け用アルミニウム材の有利な製造方法を提供すること。
【解決手段】アルミニウム材１０として、表面粗さ（Ｒａ）が２μｍ以下とされたものを用い、このアルミニウム材１０を１００〜６００℃の温度に保持した状態下において、フレーム溶射法にて、その表面１２に、フッ化物系フラックス粉末４０を溶射して、かかるフラックスからなる溶射皮膜１６を形成せしめた。 （もっと読む）

【課題】溶射時における溶融性に優れ、溶射後における炉壁れんがとの熱膨張率の一致性、圧縮強度、耐熱性に優れる溶射補修材料を提供する。
【解決手段】本発明に係る溶射補修材料は、ＳｉＯ_２成分が８５質量％以上、Ｌｉ_２Ｏ成分が０．２質量％〜２質量％、Ａｌ_２Ｏ_３成分が１質量％〜３質量％、全鉄成分が１質量％〜５質量％、ＣａＯ成分が０．１質量％〜１０質量％であることを特徴とするものである。 （もっと読む）

少なくとも１つの金属成分を有する金属マトリックス（２０１，２１１）と、該金属マトリックス（２０１，２１１）内に配置される少なくとも１つの補強成分（２０２）とを含んだ金属マトリックス複合材（２００，２１０）の製造方法において、前記成分の少なくとも１つを熱噴射方法により基板（５）上に噴射し、その際少なくとも１つの補強成分として、ナノチューブ（２０２）、ナノファイバー、グラフェン、フラーレン、フレーク、またはダイヤモンドの形態の炭素を使用することを提案する。さらに、対応する材料、特に被膜の形態の材料、および、この種の材料の使用方法を提案する。
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【課題】酸化物、窒化物、炭化物、ホウ化物セラミックス、或いはフッ化物粉末を使用して衝撃焼結被覆によりセラミックス皮膜を製造する場合、従来のフレーム溶射ではフレーム温度が2200℃から3400℃になり粉末が容易に溶融、変態、分解、昇華、蒸発するため、被覆粉末と異なる変態した皮膜、異なる組成の皮膜となる。被覆粉末の変態、分解、昇華、蒸発する温度以下で衝撃焼結被覆をすることにより要求を満足する機能性を有する優れた皮膜を得る安価な方法を提供する。
【解決手段】ガンの燃焼室の後に、粉末と燃焼ガスを供給ノズルからフレームの軸に向けて燃焼ガスとスラリー状微粉末を噴射し、燃焼室に導入の酸素当量を下げ、粉末供給ノズルから導入する燃焼ガスの容量を調整してフレーム中に存在する微粉末の温度を制御し、また燃焼生成ガスにより加速して、衝撃焼結被覆をし、要求機能特性と密着性を有する皮膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】アブレイダブル皮膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】皮膜を形成する本方法は、第１の皮膜層を基材の表面上に堆積させるステップを含み、皮膜は、セラミック又は金属、滑剤及び散逸性材料を含む。散逸性材料の少なくとも一部分は、局所熱源で第１の皮膜層を加熱することによって分解される、変質される又は揮発される。 （もっと読む）

【課題】窯炉を補修する際に、溶射補修に適用される溶射材料とその製造方法、及び溶射施工体において、溶射材料の化学組成を従来にはない構成とすることにより、溶射材料及び溶射施工体の耐用性を従来よりもさらに向上させ、窯炉の寿命延長を図る。
【解決手段】２５質量％以上４０質量％以下の黒鉛原料と、６０質量％以上７５質量％以下の酸化物原料とを、外掛けで１質量％以上３質量％以下のフェノール樹脂を結合材として用いて混合後、当該混合物を非酸化性雰囲気において９００℃以上の温度で３時間以上熱処理して得られた熱処理体を粉砕することにより得られ、１０μｍ以上１４０μｍ以下の粒度を有する溶射材料を用いる。 （もっと読む）

【課題】大気中プラズマ溶射及び溶線式アーク溶射において、溶射皮膜への酸化物の影響をなくすため、改良された合金粒子及び線材の原料を提供する。
【解決手段】溶射雰囲気の高温度下で発揮性の高い酸化物を形成する合金元素を原料に添加し、溶射中にこれらの元素が雰囲気中の酸素と優先的に反応して蒸発することによって達成される。添加する元素の条件として、酸素との親和性が皮膜構成元素よりも高く、酸化物の沸点が低く蒸発し易いことが挙げられる。これらの元素はB、Si、Cである。 （もっと読む）

【課題】基材に溶射皮膜が形成された溶射部材の製造に際し、密着性に優れた溶射皮膜を形成することができる溶射部材の製造方法を提供する。
【解決手段】基材に溶射皮膜が形成された溶射部材の製造に際し、主粉末２１の表面に硬質材料からなるラミネート層２４を形成した第１の溶射粉末２５と、前記ラミネート層の融点を低下させる材料からなる第２の溶射粉末２７とを同時に溶射し、前記第２の溶射粉末を前記第１の溶射粉末に付着させることにより、前記第１の溶射粉末の前記第２の溶射粉末との付着部において前記主粉末を露出させ、前記主粉末の露出した露出部を介して前記第１の溶射粉末と前記基材側とを結合させる、及び／又は、前記主粉末の露出した露出部を介して前記第１の溶射粉末どうしを結合させるようにする。 （もっと読む）

【課題】半導体等の製造における静電チャック、ヒーター、プラズマ処理チャンバーなどの部材やパワーデバイスの放熱絶縁基板に使用する部材に優れた熱伝導率と絶縁性持つ窒化アルミニウムの溶射膜を形成することが望まれているため、気孔率が低く、窒化アルミニウムの含有量の高い溶射膜を提供する。
【解決手段】基材上の少なくとも一部が溶射膜を形成してなり、当該溶射膜を構成する粒子は平均的な直径が１μｍ以上１０μｍ以下の略球状をした窒化アルミニウム微粒子から構成されており、また、窒化アルミニウム粒子の隙間がＩＩＩＡ族及び／又はＩＩＡ族化合物で埋められて、気孔率が１５％以下であることを特徴とする窒化アルミニウム溶射部材に関し、このような部材は平均粒径が１〜１０μｍの窒化アルミニウム粉末、または同様の窒化アルミニウム粉末にＩＩＩＡ族及び／又はＩＩＡ族化合物を含有させた混合粉末を用いて溶射を行うことにより製造することができる。 （もっと読む）

微粒子発生は、腐食性の高いプラズマ環境における半導体デバイス処理において問題であった。この問題は、プラズマが還元プラズマの場合に深刻なものとなる。実験データは、酸化イットリウム、Ｙ_２Ｏ_３−ＺｒＯ_２固溶体、ＹＡＧ及びＹＦ_３等のプラズマ溶射被覆されたイットリウム含有セラミックの形成によって、約２２μｍ〜約０．１μｍの平均有効粒径を有する粉末原料からこのようなセラミックを溶射被覆すると、滑らかで緻密な表面を備えた低多孔率のコーティングが得られることを示した。これらの溶射被覆された材料によって、腐食性の還元プラズマ環境における微粒子の発生が減少する。
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【解決手段】カーボン基材上に、（ｉｉ）Ｗ金属の中間被覆層、又は（ｉｉｉ）Ｗ金属と、ＺｒＯ₂，Ｙ₂Ｏ₃，Ａｌ₂Ｏ₃もしくはランタノイド酸化物とを含有する中間被覆層が形成され、この中間被覆層上に、上層被覆層として、
（ｉｖ）ランタノイド元素と３Ｂ族元素との複合酸化物を含む被覆層、
（ｖ）Ｙ元素と３Ｂ族元素との複合酸化物を含む被覆層、
（ｖｉ）Ｙ元素とランタノイド元素と３Ｂ族元素との複合酸化物を含む被覆層、
（ｖｉｉ）Ａｌ酸化物又はランタノイド酸化物被覆層、又は
（ｖｉｉｉ）Ｙ酸化物とランタノイド酸化物の混合被覆層
が形成されてなる耐熱性被覆部材。
【効果】本発明の耐熱性被覆部材は、耐熱性、耐蝕性、非反応性が良好で、熱サイクルによる皮膜の剥がれが起りにくく、耐久性の優れた、真空、不活性雰囲気又は還元雰囲気下での金属又はセラミックスを焼結又は熱処理するのに有効に用いられるものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、タービンブレードなどの金属部品用の断熱皮膜上の薄い不透過性上塗り層に関する。
【解決手段】かかる薄い複合上塗り層は、多孔質、不活性、無犠牲、不透過性セラミック層であり、金属部品操作中の断熱皮膜への環境汚染物質の浸透を排除し、それにより、上塗り層の下部にある断熱皮膜と金属部品の寿命を延ばす。 （もっと読む）

【課題】粒径が小さく高表面積であり、かつ均一で付着性の良好な触媒の皮膜を有する基板を提供する。
【解決手段】金属水酸化物、炭酸塩、または硝酸塩などの組成物の、１０マクロメートルより大である大きな粒子を直接基板上に溶射し、それにより５マイクロメートルより小、より具体的には３μmより小の小さな粒子皮膜を基板上に形成することにより基板の表面を処理して得られた金属酸化物表面を有する基板。 （もっと読む）

【課題】砂により損傷されないコーティングシステムを提供する。
【解決手段】サーマルバリアコーティング１４にナトリウム含有化合物を、ドーパントの形、第２相の形、または不連続層として含有させる。サーマルバリアコーティング１４は、ジルコン酸塩、ハフニウム酸塩、チタン酸塩およびそれらの混合物からなる群より選択される１つまたは複数の層のセラミック材料層１６を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、セラミック摩耗性材料、特に、熱溶射可能なセラミック摩耗性粉末材料、及び、ジスプロシア（Ｄｙ_２Ｏ_３）とジルコニア（ＺｒＯ_２）とを含む材料を熱溶射することによって形成される摩耗性シールを提供する。
【解決手段】本発明における摩耗性被覆に使用されるセラミックシール材料は、ジスプロシア（Ｄｙ_２Ｏ_３）とジルコニア（ＺｒＯ_２）とを含む。被覆は多孔性であり、その多孔部は、プラスチック層または一過性の相によってある程度導入される。ジスプロシアとジルコニアとを含む摩耗性シール被覆は、改善された耐熱衝撃性及び難焼結性を示し、少なくとも相対ブレード速度と被覆多孔度のある状況で処理されていない剥き出しのタービンブレードによって許容範囲まで磨耗されることができる。ジスプロシアとジルコニアとを含むセラミック摩耗性シール被覆は、１２００℃まで使用されることができる。 （もっと読む）