【課題】溶射材料として、金属などの導電性ワイヤーと、セラミックなどの粉体とを使用できるようにする。
【解決手段】陰極２を有する陰極ノズル３の軸上に、放出口１１ａ，１５ａ，１９ａを有する複数の外套１１，１５，１９を、絶縁物４，１２，１６を介して直列に連設し、その先頭の外套１９を、金属などの導電性ワイヤーが供給される導電性ワイヤー溶射外套とし、その他の外套を粉体溶射用外套とし、前記粉体溶射用外套と前記導電性ワイヤー溶射用外套を着脱可能に連結するとともに、セラミックスなどの粉体を供給する粉体供給手段２８を設ける。 （もっと読む）

【課題】溶射プロセスにおいて処理すべき基材を動的に位置決めするためのコンポーネント・マニピュレータの提供。
【解決手段】熱処理プロセスにおいて処理すべき基材２を動的に位置決めするためのコンポーネント・マニピュレータ１。このコンポーネント・マニピュレータ１は、主要回転軸線３を中心として回転可能な主要駆動軸３０と、連結要素４と、連結要素４に連結可能な基材ホルダ５とを備える。連結要素４は、セラミック連結要素４であり、基材ホルダ５の連結セグメント５１が、プラグ／回転連結部により、プラグ／回転連結部の連結軸Ｖに対して引き抜き抵抗性を有し回転可能に固定された態様で、連結要素４に連結可能であり、基材ホルダ５は、連結軸Ｖを中心として回転自在に配置される。本発明は、被覆方法、被覆装置、及びコンポーネント・マニピュレータ１の使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】構成要素をコーティングするためのスプレーガンの動作経路の生成の改良された方法を提供する。
【解決手段】コーティング経路生成の方法は、表面形状の不確かなデータを分析する能力、ＣＡＤデータに基づくドラフトロボット経路の作成、実際的なロボット動作を伴うオフラインのコーティング厚さシミュレーション、シミュレートされた厚さ分布の分析、およびそれに続く構成要素全体が所望の厚さ許容差を達するための初期経路の反復調整に基づく。 （もっと読む）

【課題】溶滴となった粒子表面の酸化を低減することで、酸化物が少ない溶射皮膜を形成することが可能なプラズマ溶射装置の提供。
【解決手段】陰極４０の外周に一次ガス通路１１を形成して陰極４０の先端部を覆う一次ガスノズル１０と、一次ガスノズル１０の外側に配置されて二次ガス通路２１を形成する二次ガスノズル２０と、一次ガスノズル１０と二次ガスノズル２０との間に、プラズマフレームＦの外周部にプラズマフレームＦの熱を受けて高温のガス噴射とするための三次ガスを噴射する三次ガス通路３１を形成する三次ガスノズル３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】非常に薄い樹脂基材を破壊することなく、その表面に金属ガラスの溶射被膜層を貫通孔なしで強固に密着形成する溶射方法を提供すること。
【解決手段】厚みが３０μｍ〜１ｍｍである樹脂基材の表面へ金属ガラスを貫通孔なしに溶射する方法であって、フレーム溶射またはプラズマ溶射によって、金属ガラス粉体の少なくとも一部を過冷却液体状態まで加熱して、該金属ガラス粉体を３００ｍ／ｓ以上の粒子速度で樹脂基材表面に衝突させて、扁平した金属ガラス粉体を厚みが１０μｍ〜５００μｍとなるまで積層することにより、アモルファス相の溶射被膜を形成する溶射工程を備え、前記溶射被膜は樹脂基材に対する高い密着性を有し、かつ、その表面粗さＲａが１０μｍ以下であることを特徴とする薄い樹脂へ金属ガラスを溶射する方法。 （もっと読む）

【課題】
上記のような課題を解決するためになされたものであり、比較的コストを低く抑えて溶射することが可能であり、金属の酸化や金属酸化物の変質を抑え、基材との密着性に優れた、緻密な溶射皮膜を形成することができるＨＶＡＦ溶射装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
金属、セラミックス又は樹脂が不活性ガス及び圧縮空気とともに粉末供給路に供給されると、ラバルノズルを通過する燃焼ガスの流路の略中心軸上に排出される。金属、セラミックス又は樹脂は比較的低温で、超音速でバレルを通過することにより、酸化や変質が抑えられ、緻密な溶射皮膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】冷却空気孔の目詰まりを防ぐ溶射法を提供する。
【解決手段】入口５１及び出口５２を有する少なくとも１つの貫通孔５を有する本体１の表面１０を被覆する方法であって、出口５２が被覆すべき表面１０に設けられ、被覆を溶射によって行なう方法において、溶射の際に、貫通孔５に流体を流し、この流体を、貫通孔５の出口５２を通じて流出させ、被覆によって生じる貫通孔５の狭搾を実質的に防止する方法が提案される。 （もっと読む）

【課題】熱溶射方式と運動溶射方式を同時に適用可能にした二重ノズルキャップを提供すること。
【解決手段】
ノズルの中央に形成され、前記溶射ガンの先端が挿入されるガン挿入孔と、前記ノズルの一面に、高圧の気体を供給する気体連結具が連結される連結孔と、を含み、内、外側ノズル間の空間に、前記連結孔を通じて流入した高圧の気体を均一に分布させる気体収集部と、前記気体収集部に収容された高圧の気体を加圧、加速させるネック部と、前記ネック部で加圧、加速した気体が、前記溶射ガンの噴射体と一緒に噴射される気体噴射口と、を有する、溶射ガンの先端に装着されるノズルキャップが提供される。 （もっと読む）

【課題】簡単な方法で且つ短時間で膜厚予測計算式を作成することができ、溶射用成膜プログラム作成の効率化と設備稼働率を向上させることができる。
【解決手段】溶射ガン１とワークＷとの溶射角度φ毎に溶射膜厚を測定する第１工程と、溶射ガン１とワークＷとの溶射距離ｄ毎に溶射膜厚を測定する第２工程と、溶射ガン１とワークＷとの相対移動速度ｖ毎に溶射膜厚を測定する第３工程と、溶射ガン１とワークＷとの向き（ガン回転角度）毎に溶射膜厚を測定する第４工程と、第１工程から第４工程までのそれぞれの工程によって得られた測定値に基づいて重回帰分析により膜厚を予測する膜厚予測計算式を求める第５工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】原子炉圧力容器の内部に水が残っている状態でも施工することができて、しかも短時間で作業を完了することができるようにすること。
【解決手段】粉末材料を燃焼炎または不活性ガスとともに高速で吹き出させて、施工面１８に皮膜を形成させるガンと、このガンの周囲を取り囲むようにして配置された隔壁１２とを備えた原子炉圧力容器の残留応力改善装置であって、第１の空間２４に、皮膜１９の形成に寄与しなかった粉末材料の大部分が流れ込み、第２の空間２６に、第２の隔壁２２の先端２２ｃから第３の隔壁２３の側に漏れ出した、皮膜１９の形成に寄与しなかった粉末材料が流れ込むように、第３の隔壁２３の先端２３ｃにシール部材２８が設けられているとともに、第２の排気排水回収系統２７の吸引力が設定されている。 （もっと読む）

【課題】補修現場において、製膜に寄与しなかった粉末材料（原料粉末）を回収し、製膜に寄与しなかった粉末材料が大気中に拡散するのを防止すること。
【解決手段】粉末材料を燃焼炎または不活性ガスとともに高速で吹き出させて、基板７の表面２に皮膜１８を形成させるガンと、このガンの周囲を取り囲むようにして配置された隔壁１２とを備えたフランジシート面補修装置であって、第１の空間２４に、皮膜１８の形成に寄与しなかった粉末材料の大部分が流れ込み、第２の空間２６に、第２の隔壁２２の先端２２ｃから第３の隔壁２３の側に漏れ出した、皮膜１８の形成に寄与しなかった粉末材料、および第３の隔壁２３の外側に存する大気が流れ込むように構成した。 （もっと読む）

【課題】未溶着の溶射粒子を高濃度に回収でき、容易に選別・再利用でき、溶射粒子の利用率を向上させ得る溶射装置を提供する。
【解決手段】溶射ガン３から発射される溶射粒子を通過させるように被溶射体５の周囲を囲う第一内部空間１１を形成する第一包囲体９と、第一内部空間１１の雰囲気を吸引排気する第一排気系１３と、第一排気系１３に介装され、溶射粒子を選別するサイクロン２７と、第一包囲体９の周囲を囲う第二内部空間４５を形成する第二包囲体４３と、第二内部空間４５の雰囲気を吸引排気する第二排気系４７と、を備え、第二内部空間４５の雰囲気は、第一内部空間１１の雰囲気よりも低圧とされている。 （もっと読む）

【課題】費用のかかる真空及び機器要件なしで、ＥＢＰＶＤによって生じるコーティングと構造的に類似したコーティングを作製することができる製造法を提供する。
【解決手段】大気圧でのレーザ補助プラズマコーティング方法は、プラズマ、少なくとも１つのターゲット、少なくとも１つのレーザ、及び超合金基板を提供するステップと、ターゲットに向けてレーザを操作可能に指向させてターゲットから原子粒子を遊離させ、原子粒子をプラズマに投入するステップと、プラズマを用いて超合金基板上に原子粒子を堆積させて、約０．５ミクロン〜約６０ミクロンのカラム幅と、約０％〜約９％のカラム内多孔率とを有するサーマルバリアコーティングを作製するステップとを含む。
（もっと読む）

【課題】ワークの形状に関わらず、被溶射面に対して常に均一な溶射を行うことが可能な溶射ガンの制御装置、制御方法および制御プログラムを提供する。
【解決手段】コントローラ１４は、予め入力された円筒部５１〜５３等の基材の内周面（被溶射面）の形状を認識する。次に、内周面の形状に従って、被溶射面に対して一定の距離を維持するための溶射ガン１０の移動軌跡を示すティーチング座標を作成する。次に、作成された円弧状のティーチング座標における３点を設定し、この３点の真ん中の点における円弧に対する接線に対する垂直方向を溶射方向として設定する。次に、溶射ガン１０全体をティーチング座標に沿って公転移動させながら、アーク発生点３５を中心としてガス噴射ノズル３５を回転（自転）移動させる。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン系腐食性ガス及びこれらのプラズマに対する耐食性と導電性とを兼ね備えた溶射膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の溶射膜は、酸化イットリウムと、導電性物質とを含有し、この導電性物質の含有率は４．０体積％以上かつ１２．０体積％以下であり、この導電性物質は、イットリウム、ケイ素、アルミニウムの群から選択された１種または２種以上であり、粒界に偏析して網目状構造を形成している。 （もっと読む）

基材のコーティングのための方法が提供される。この方法においては、プロセス・ジェット（２）をデフォーカスするプラズマ中へ出発材料（Ｐ）を注入し、その中において、最大２０，０００Ｐａの低いプロセス圧力で、出発材料（Ｐ）を液相（２１）へ部分的に又は完全に溶融して、出発材料（Ｐ）をプラズマ溶射によってプロセス・ジェット（２）の形で基材（１０；５０）へ溶射し、液相（２１）からの堆積によって、基材（１０；５０）が、プロセス・ジェット（２）に対して幾何学的な死角に位置する少なくとも１つの領域（１０１）においてコーティングされるように、プロセス・ジェット（２）用のガス流を設定する。
（もっと読む）

【課題】供給される金属性ワイヤ等のねじれを生じさせることなく、均一な溶射を行うことが可能な溶射ガンを提供する。
【解決手段】円筒部５１の内径部５１ａに対して溶射被膜Ｌ１を形成する場合、円筒部５１の内周面側に溶射ガン１０の先端部分を差し込む。この状態で、サーボモータＭを駆動してガン本体部２０を中心にガス導管３４を回転させながら、ガン本体部２０において、電圧が印加された２本のワイヤＷ１，Ｗ２をアーク発生点Ｐ１において接触させてアークを発生させる。 （もっと読む）

本発明は、排気することができ、基材３を配置することができる加工室２を含み、且つプロセス・ガスを加熱することによってプラズマ・ビーム５を生成するためのプラズマ・バーナ４を含む、基材３を表面被覆又は表面処理するためのプラズマ被覆システムに関する。プラズマ・バーナ４は、プラズマ・ビーム５がプラズマ・バーナ４から出て行くことができ、加工室２の長手方向軸線Ａに沿って延びるノズル４１を有している。ノズル４１の下流には、機械的制限装置１２が、加工室２内に備えられ、長手方向軸線Ａに沿って延在して、好ましくない粒子の側方浸入からプラズマ・ビーム５を保護している。本発明は、さらに、これに対応する方法に関する。
（もっと読む）

【課題】溶射層を薄く形成するとともに、密着性を向上できる非金属部材からなるシート材を提供するとともに、その溶射方法を提供する。
【解決手段】シート材１０に、プラズマ溶射機で加熱・溶融した粉末状の銅の粒子１３を吹き付ける。シート材１０が、布材の場合、銅の粒子１３の大きさを約０．０５Φｍｍ程度にするとともに、プラズマ溶射ガン２の先端からシート材１０との距離を、２００〜５００ｍｍの範囲に設定し、プラズマ溶射ガン２のトラバーススピードを毎秒５００〜９００ｍｍとする。一方、シート材１０の溶射面には冷却空気２９を吹き付けて、銅の粒子１３がシート材１０に付着する際のシート材１０の温度を、シート材１０が布材や紙材の場合に１５０℃以下、シート材１０が樹脂材の場合に、１００℃以下となるようにする。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスにエッチング等の処理を施す処理室の内壁からの溶射材料に起因する異物の飛散を抑制する。
【解決手段】真空処理室内部に導入された処理ガスに高周波エネルギを供給してプラズマを生成し、前記真空処理室内部に配置した試料にプラズマエッチングを施すプラズマエッチング装置における前記真空処理室のプラズマと接触する部品に溶射機を用いて溶射膜を形成する溶射膜の形成方法において、前記溶射機は、溶射フレームにより溶射材料を加熱溶融して被覆対象面に吹き付ける溶射機本体１０７および該本体と前記被覆対象面１１１間に配置した遮蔽板１０９を備え、該遮蔽板により溶射フレーム外周部の流れに沿って前記被覆対象面に飛来する溶射粒子を遮蔽する。 （もっと読む）