【課題】条件の異なる複数ゾーンからなる連続乾燥炉における乾燥工程を、正確に模擬することができるバッチ炉及びバッチ炉による連続乾燥炉の模擬方法を提供する。
【解決手段】赤外線加熱装置８と熱風乾燥装置９とを備え、塗膜が形成された平面状のワークを乾燥するバッチ炉である。熱風乾燥装置９は温度条件の異なる複数の加熱手段２４〜２６を備え、赤外線加熱装置８の出力と使用する加熱手段とを、ワークが連続乾燥炉の各ゾーンを通過するに要する時間が経過するごとに瞬時に切り替えることにより、バッチ炉において連続乾燥炉における乾燥条件を模擬する。 （もっと読む）

【課題】燃料ガス及び保護ガスによって動作する、原材料を熱処理するための工業炉におけるエネルギー効率を上昇させる。
【解決手段】加熱のために、第１の燃焼器３．１が、第２の燃焼器３．２よりも前に優先的に動作され、第２の燃焼器３．２は、第１の燃焼器３．１の出力が工業炉１の温度−要求値に達するために必要とされる出力を下回ると、スイッチオンされると共に動作し、第２の燃焼器３．２は、温度−要求値に達すると、スイッチオフされると共に動作を停止する。 （もっと読む）

【課題】従来の開放型焼成炉において不可避であった脱炭現象を抑制することができる開放型焼成炉を提供する。
【解決手段】予熱室１、加熱室、徐冷室及び冷却室がこの順に設けられ、金型潤滑剤を含む金属粉末を加圧成形した粉末成形体９を焼結する開放型焼成炉。前記予熱室１の上部空間に燃焼ガスを供給する燃焼ガス供給部１６と、前記予熱室１内に配設されており、供給された燃焼ガスを、当該予熱室内に搬送された粉末成形体に向けて分散して供給する分散板２０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】匣鉢を利用した粉体焼成に際し、粉体焼成プラントを大型化することなく各種の焼成条件での粉体焼成に対応可能とする粉体焼成プラントの運転方法を提供すること。
【解決手段】粉体を収納した匣鉢を順次炉内の一端から他端へと移動させながら焼成を行う連続焼成工程と、連続焼成炉から取り出された匣鉢内の粉体を回収する粉体回収工程と、粉体回収工程で粉体を回収され空になった空匣鉢を次工程に搬送する空匣鉢搬送工程を有する粉体焼成プラントの匣鉢搬送方法であって、粉体回収工程において、長辺が匣鉢の一辺と略同一長さであるヘラ状の吸引口を有する粉体吸引ノズルから、匣鉢内の粉体を層状に吸引して回収する。 （もっと読む）

【課題】大ロットの被処理材から小ロットの被処理材にいたるまで、多種多様の被処理材を効率的且つ経済的に、また安全に連続して熱処理することができる連続熱処理装置を提供する。
【解決手段】被処理材の移動方向に沿って、被処理材を真空雰囲気下に加熱して脱脂する脱脂室と、脱脂した被処理材を真空雰囲気下に加熱する加熱帯と、加熱した被処理材を真空雰囲気下に油焼入する油焼入室とを備え、加熱帯を、真空容器内の断熱材で囲まれた空間にて、被処理材の移動方向に沿い、開閉可能な断熱扉で複数の加熱室に仕切り、各加熱室に独立して制御可能なヒータを取付けた。 （もっと読む）

【課題】ガス焼入れおよび油焼入れを任意に選択することができる連続式ガス浸炭炉であって、設置スペースが狭く、設備費が嵩張ることもなく、生産性が高く、シンプルな構成からなり、設備全体としての信頼性の高い連続式ガス浸炭炉を提供することを課題とする。
【解決手段】被処理物５０にガス浸炭処理を行うガス浸炭処理室（予熱室２、加熱室３、浸炭室４、拡散室５、および降温室６）と、被処理物５０に油焼入れを行う油焼入れ室８と、被処理物５０にガス焼入れを行うガス焼入れ室７と、を備え、前記ガス浸炭処理室は、ガス浸炭処理によって熱せられた被処理物５０の温度を下げる降温室６を備え、前記降温室６、ガス焼入れ室７、および油焼入れ室８は、前記被処理物５０の搬送方向の上流側から下流側に向かって順に配設されるとともに、互いに隣接して配設される。 （もっと読む）

【課題】ワークピースを熱処理するための炉を提供すること。
【解決手段】ワークピースを熱処理するための炉であって、前記炉内のワークピースに加熱流体媒質を導くことができる、少なくとも１つの流体衝突装置を含む、少なくとも１つの高圧加熱区間を備え、前記流体衝突装置は、前記ワークピースから約６インチ未満にあり、および／または少なくとも４，０００フィート／分で、前記ワークピースに前記加熱流体媒質を導くことができる、炉を提供する。前記炉は、前記ワークピースを回転させるための回転機構、前記ワークピースを反転させるための握持機構、および／または前記高圧加熱区間から下流に空気循環システムをさらに備えることが可能である。前記システムは、プロセス制御温度ステーションおよび／または砂再生システムを更に備えることが可能である。 （もっと読む）

本発明は、ワークピースを熱処理するための方法及び装置に関し、該装置は、冷却室及び、ワークピースが加熱装置の直接熱放射により９５０から１２００℃に加熱される２つ以上の浸炭室を備える。
（もっと読む）

【課題】炉内のＣＰを安定させることができる熱処理方法及び熱処理装置を提供する。
【解決手段】炉内に変成ガス及びエンリッチガスを供給し、前記炉内で被処理体を熱処理する熱処理方法において、炉内のカーボンポテンシャルに基づいて前記エンリッチガスの供給流量を操作することにより、カーボンポテンシャルをフィードバック制御し、炉の開口を開ける前に、前記フィードバック制御を停止させ、前記変成ガス及び前記エンリッチガスの供給流量を、前記フィードバック制御を停止させる直前における供給流量よりそれぞれ増加させ、炉の開口を閉じた後、前記変成ガスの供給流量を、前記フィードバック制御を停止させる直前における供給流量に戻し、かつ、前記フィードバック制御を再開させるようにした。 （もっと読む）

【課題】加熱室内の雰囲気汚染や部材の損耗を防止して水冷媒による好適な焼入処理を可能とした焼入装置を提供する。
【解決手段】被処理材を加熱処理する加熱室２と加熱処理した被処理材を浸漬して焼入れ処理する水槽部４１を設けた焼入室４とを備え、加熱室２と焼入室４の間に冷媒遮断室３を設けるとともに、当該冷媒遮断室３を仕切扉５３および仕切扉５４によってそれぞれ加熱室２および焼入室４と遮断可能となし、かつ冷媒遮断室３を加熱するヒータ３１と、冷媒遮断室３を排気する排気用ポンプユニット６５を設ける。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板上に形成した、構成物の前駆体材料を焼成し固化する際に、焼成むらの発生を防止し得る、プラズマディスプレイパネル用熱処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】プラズマディスプレイパネルを構成するガラス基板を熱処理装置内に投入する際に使用するガラス基板を載せるガラス基板支持板２３であって、ガラス基板支持板２３は、ガラス基板支持板基台２３ａとガラス基板支持板分割片２３ｂとが組み合わされ、嵌合することで、ガラス基板を載置する面がフラットな状態に一体化する構造となっており、ガラス基板支持板分割片２３ｂが、突き上げ機構により上下動することで、ガラス基板支持板２３に対するガラス基板の載置および切り離しが行われることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用熱処理装置である。 （もっと読む）

【課題】 多区画ガラス溶解炉を利用したガラスの製造方法および装置を提供する。
【解決手段】 ガラスメルト１８を第１の溶融炉１２に提供する。ガラスメルト１８を、接続管２０を通して、第１の溶融炉１２から第２の溶融炉１４に流す。接続管２０の第１の領域内３０のガラスメルト１８を、第１の加熱装置により加熱する。接続管２０の第２の領域４０内のガラスメルト１８を、第２の加熱装置により加熱する。第１の溶融炉１２と、第２の溶融炉１４と、第１および第２の溶融炉を接続する接続管２０とを備えた、ガラスを製造する装置１０も提供される。接続管２０の第１の領域内のガラスメルト１８を加熱するよう構成された第１の加熱装置と、接続管２０の第２の領域内のガラスメルト１８を加熱するよう構成された第２の加熱装置とを含む。 （もっと読む）

【課題】高温の浸炭炉の熱効率を向上させるとともに，その廃熱を利用することにより設備全体を省エネルギーなものとすることのできる熱処理炉を提供すること。
【解決手段】本発明の熱処理炉の浸炭炉１は，対象物に対して第１の加熱温度（例えば９５０℃）で浸炭処理を施す浸炭拡散ゾーン１１と，対象物に対して第１の加熱温度より低い第２の加熱温度（例えば１５０℃）で焼き戻し処理を施す第２炉と，第１炉と第２炉との間を仕切る炉間壁１５と，第２炉と外部との間を仕切る外壁１６とを有し，第１炉と第２炉とが，炉間壁１５を介して隣接して配置されているものである。 （もっと読む）

【課題】複数個のワークピース間の予熱工程で生じた温度差が、昇温工程で縮小出来ず、ろう付け工程でロウ溶融滞留時間の過長で発生するろう付け欠陥や、ろう付け工程に昇温工程の雰囲気ガスの混入によるろう付け欠陥の起きないアルミニウム、銅、鉄、ステンレス等の金属製ワークピースの対流熱兼輻射熱併用式ろう付け方法とろう付け炉を提供する。
【解決手段】複数個のワークピースが同じ受熱量になるように、対流熱と輻射熱の作用効果を有効利用し、昇温工程では、対流熱で作業空間を均熱化し、ワークピース間の温度差を短時間に縮小する操作を、ろう付け工程では輻射熱と対流熱で、更に温度差を縮め、過長なロウ溶融滞留時間で発生するロウの浸蝕欠陥を防止し、昇温工程室とろう付け工程室の間に、昇温工程室の雰囲気が、ろう付け工程室への流入を阻止する中間工程室を置く方法で、作業環境の劣化によるロウ接合不良と潰蝕の発生を防止する。 （もっと読む）

【課題】スチールベルトからなるリングの時効処理および窒化処理を連続的に実施して生産性にも優れた熱処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理用治具にワークを保持した状態で時効処理とフッ化処理を行う時効処理室と、上記フッ化処理が行われたワークを窒化処理する窒化処理室と、上記時効処理室と窒化処理室との間に配置され、時効処理室と窒化処理室のガスが混入するのを防止するための中間室と、上記熱処理用治具へのリングの保持状態を維持したまま時効処理室から中間室、窒化処理室への搬送を行なう搬送手段とを備えたことにより、安定性および生産性を大幅に高めた熱処理が可能となる。 （もっと読む）

【課題】処理品表面が無酸化の状態で目的の熱処理を行うことが出来る熱処理設備とその方法を提供する。
【解決手段】扉によって区画された加熱炉１０と塩浴室２０を接するように構成した熱処理装置において、雰囲気ガスを加熱炉に集中的に導入し、加熱炉と塩浴室との間の扉１００にガス通路１１０を設け、加熱炉に導入した雰囲気ガスを塩浴室に流入させる。塩浴室は密閉構造とし外気と遮断する。加熱炉から流れ込んだ雰囲気ガスは塩浴室の雰囲気を無酸化雰囲気とし、余剰のガスは排気口３００を通じて燃焼排気される。このとき加熱炉の内圧は塩浴室の内圧より高く維持し、塩浴室より加熱炉に雰囲気ガスが逆流しないようにする。また、塩浴室の上部に圧力逃がし弁４００を設け塩浴室の内圧が加熱炉の内圧より高くなったときに開閉する。さらに扉の開閉や処理品が塩浴槽に浸漬した際に生じる炉内圧の急激な低下の際にはスーパーパージを行う安全回路を設ける。 （もっと読む）

【課題】搬送炉に収容した際の被処理品の変温を防止し、良質な被処理品を得ることができ、併せて多品種少ロットの被処理品の熱処理に良好な熱処理システムを提供する。
【解決手段】加熱炉と冷却炉とを含む複数の処理部と、これら各処理部間を移動可能とされる搬送炉１０とを備え、前記各処理部と搬送炉１０との間で被処理品Ｗの受け渡しが可能となるように構成された熱処理システムにおいて、搬送炉１０は、搬送炉１０の炉内の温度を昇温させる加熱装置１９と前記炉内の温度を降温させる冷却装置２０とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 処理品の移送装置の劣化や動作不良の発生を防止することができるとともに、炉長方向の設置スペースが小さくて済む連続真空熱処理炉を提供する。
【解決手段】 直列に配置した３室以上の処理室を有する連続真空熱処理炉において、各処理室間に仕切扉を介して搬送室６，７を設け、各処理室に処理品支持用の架台１７を設け、昇降駆動される基材部上に前後両方向に伸縮駆動されるテレスコピック型のアームをそなえた移送装置３０を搬送室６，７に設けるとともに、最前段の処理室の後側の搬送室６の側壁に開口部６ｂを設け、この開口部を開閉する蓋板をそなえた搬入台車２０Ａに前記移送装置３０を搭載して前記開口部を経て搬送室外へ引出自在とし、最後段の処理室の前側の搬送室７の側壁に開口部７ｂを設け、この開口部を開閉する蓋板をそなえた搬出台車２０Ｂに前記移送装置３０を搭載して前記開口部を経て搬送室外へ引出自在とした。 （もっと読む）

【課題】
連続搬送式誘導加熱装置で被加熱物を高温に加熱した際に生じる被加熱物どうしの凝着や、トラブル等で成形機が停止する場合に焼ざまし材が生じるのを防止するための誘導加熱装置及び該誘導加熱装置を用いた加熱方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
熱間鍛造用素材である被加熱物を加熱する誘導加熱装置において、複数の被加熱物を順次搬送しながら加熱を行う連続搬送式誘導加熱炉と、複数の加熱コイルを多列に備え、該連続搬送式誘導加熱炉で加熱した被加熱物を、個々に多行多列に収納し加熱する多数収納型誘導加熱炉と、該多数収納型誘導加熱炉の加熱コイルと同数・同位置の均熱保温室が設けられ、該多数収納型誘導加熱炉で加熱した被加熱物を、個々に多行多列に収納し均熱・保温することが可能な多数収納型均熱保温炉とを備える。 （もっと読む）

【課題】処理対象物を加熱室内で加熱処理し、次いで冷却室内に移動して、冷却室内で冷却処理することができ、加熱処理中及び冷却処理中の処理対象物の温度をリアルタイムで測定することができ、かつ巻き取りテンションが強い場合でも、加熱室に装填した処理対象物が移動するおそれがなく、かつ加熱室処理中に加熱室の断熱扉の放熱を抑え、かつ冷却室の真空シールド扉のシールを行うことができ、これにより加熱室と冷却室のガス雰囲気を独立に制御することができる多室型熱処理装置及び温度制御方法を提供する。
【解決手段】処理対象物Ｘに取付けられた温度センサ３１と、温度センサの検出信号を加熱室及び冷却室の外部まで伝送する信号伝送装置３０と、加熱室及び冷却室の外部に配置され、信号伝送装置３０から伝送される温度センサの検出信号から処理対象物の温度を測定する温度測定装置４０を備える。 （もっと読む）