【課題】Ａ２０００系アルミニウム合金の低コストで有効な艶消し方法と、この艶消し方法を施したアルミニウム合金から製作した光学素子保持用光学部品、光学機器の光路周辺の構成部品、反射防止部材を提供する。
【解決手段】リン酸をベース組成に含む処理液を満たしたエッチング槽にＡ２０００系アルミニウム合金を浸漬して化学エッチングを行う。これにより、アルミニウム合金の表面について、表面粗さＲａ＝２．０〜４．０μｍとなる。ここで、エッチング後のアルミニウム合金表面の光沢度を光沢計で計測すると、およそＧ３を示しており、十分な艶消し効果が得られている。レンズ保持枠などの光学素子保持用光学部品は、フレアの抑制など、光学性能を維持するために反射防止処理を施す必要があることから、Ａ２０００系アルミニウム合金にこの艶消し処理を施したものから製作することで、反射防止性能に加えて強度をもたせることができる。 （もっと読む）

【課題】 グラビア印刷法でレジストインキを印刷して、プリント配線板を製造する方法において、回路線端縁を鮮鋭にする方法を提供する。
【解決手段】 合成樹脂フィルムとアルミニウム箔とを貼合した積層体を準備する。一方、有機溶媒に樹脂が溶解されてなるレジストインキを準備する。このレジストインキには、シリカ微粉末が配合されている。このレジストインキを用い、積層体のアルミニウム箔面にグラビア印刷法で所定のパターンを印刷する。これによって、アルミニウム箔面に樹脂膜が付着したレジスト部と、樹脂膜の付着していない非レジスト部とを形成する。その後、エッチング処理を施して非レジスト部に露出しているアルミニウム箔を除去する。さらにその後、レジスト部に残存している樹脂膜を除去する。以上の方法を採用すると、シリカ微粉末の作用で、回路線端縁の鮮鋭なプリント配線板が得られる。 （もっと読む）

【課題】バルク金属と大きく異なる性質を持ち、物理分野や化学分野で注目すべき多くの機能を有すると期待されるナノ多孔質金属を提供する。
【解決手段】ナノ多孔質金属は、腐食作用を有する媒体に対して感受性を有する金属と、該腐食作用を有する媒体に対して抵抗性を有する金属と、の少なくとも二つの金属を含有する合金を、該腐食作用を有する媒体に接触せしめて、該合金を、低温条件下、ナノ多孔質金属を形成するに有効な時間の間、脱成分腐食せしめ、平均気孔サイズ約33nm以下〜約5nm以下を有しており、ローダミン６Ｇを表面に吸着せしめてのラマン散乱信号測定で著
しい表面増強ラマン散乱が観察されるものを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】有害性、刺激性の強いフッ素化合物を用いることなく、かつ、特別な装置を必要としない簡便な化学的処理により、アルミニウム又はアルミニウム合金を装飾性のある白色面にするための処理液および処理方法を提供する。
【解決手段】リン酸および硫酸を混合してなる基本液１ｋｇに対して、ビスマス化合物をビスマス元素として０．００１〜０．０２０モル添加してなることを特徴とし、好ましくは、更に含窒素ポリカルボン酸類を添加してなる白色処理液。この液を９０〜１１０℃に加温し、アルミニウム又はアルミニウム合金を６０〜１２０秒処理することにより、表面が白色化する。 （もっと読む）

【課題】 フッ化物フリーおよび過酸化水素フリーの環境にやさしく、且つ平滑に研磨できる化学研磨液及びそれを使用したリードフレームの化学研磨方法を提供する。
【解決手段】 モノ過硫酸水素塩濃度１５〜２５ｇ/Ｌ、硫酸濃度４０〜６０ｍｌ/Ｌの化研液を用いる。４２合金材のＦｅ、Ｎｉおよび介在物をほぼ均一に溶解することで、平滑且つ酸化物残渣（スマット）を発生させずに研磨することができる。また、リスクの高い物質を排除し環境に優しい研磨方法を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】より効率的に工業的規模でエッチド金属箔を提供する。
【解決手段】ポリエステル系樹脂及びイソシアネート系硬化剤を含むレジスト液によるレジスト層３ａが金属箔２の一部又は全部に形成されているエッチング用金属箔積層体１。 （もっと読む）

【課題】軽量化を図り強固で運搬を容易にした大型製品枠体の製造技術の提供。
【解決手段】押し出し材から所定形状に加工し、ヒドラジン、アンモニア、水溶性アミンのいずれか１つ以上を含む水溶液に浸漬する工程により、その表面を平均直径２０〜８０ｎｍの微細凹凸部形状としたアルミニウム合金押し出し材の枠状部材１の接合部に、２０〜５０％の繊維系フィラー入りの熱可塑性樹脂組成物を射出して大型の仮枠体を形成し、この仮枠体をアニ−ルしてから支持部材を固定し正確な枠状部材１にする。 （もっと読む）

【課題】銅を浸食（アタック）せずにパラジウム、スズ、銀、パラジウム合金、銀合金及びスズ合金等の除去性が高く、有害物質を含まないため取り扱い容易なパラジウム、スズ、銀、パラジウム合金、銀合金及びスズ合金を選択的に除去できる金属除去液及びこれを用いた除去方法を提供する。
【解決手段】本発明の金属除去液は、パラジウム、スズ、銀、パラジウム合金、銀合金及びスズ合金を除去する溶液であって、前記金属除去液には鎖状チオカルボニル化合物を含む。本発明のパラジウム、スズ、銀、パラジウム合金、銀合金及びスズ合金の除去方法は、鎖状チオカルボニル化合物を含む金属除去液を使用して、銅又は銅合金と、パラジウム、スズ、銀、パラジウム合金、銀合金及びスズ合金から選ばれる少なくとも１つの金属を含む系から銅又は銅合金以外の金属を選択的に除去する。 （もっと読む）

【解決手段】本発明のプリント配線基板は、絶縁フィルムの少なくとも一方の表面に形成された基材金属層および導電性金属層を、複数のエッチング工程で選択的にエッチングすることにより形成された配線パターンを有するプリント配線基板であって、該プリント配線基板におけるエッチング液由来の金属残留量が０．０５μg／cm²以下であることを特徴としている。
【効果】本発明によれば、エッチング液由来の金属残留量が少ないので配線間の電気抵抗値が高く、またマイグレーション等が生じにくい。 （もっと読む）

【課題】耐食性に優れた電気二重層コンデンサ用集電体を、無電解エッチングによる粗面化にて安価に供給する。
【解決手段】質量比で、Ｎｉを５０ｐｐｍ〜５００ｐｐｍ未満含有し、残部がアルミニウムと不可避不純物からなる箔を、塩酸単独、または該塩酸に加えて、燐酸、硫酸、硝酸、シュウ酸のうち、一種、または２種以上の酸を混合した溶液にて無電解エッチングを行う。Ｎｉを添加することで箔の表層付近にＡｌ−Ｎｉ系析出物が生成され、エッチングに際し無電解にて良好に粗面化される。また、Ａｌ−Ｎｉ系析出物はエッチング中に容易に欠落除去され、耐食性を阻害することはなく、電気二重層コンデンサ用集電体として用いた際にも電解液に対し良好な耐食性を示す。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板上に無電解めっきを行って、これからフォトマスクを得、このフォトマスクのめっき金属層と基板との密着性が良好であり、このフォトマスクを使用して、例えばＰＤＰ用の大型スクリーン版を、安価に得ることができるスクリーン印刷用スクリーン版の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の上に無電解めっきを行って金属膜を形成し、その上にフォトレジスト膜を形成し、パターンを露光・現像し、画像形成後にエッチングして、パターンを形成し、このパターンをフォトマスクとして使用してスクリーン印刷用スクリーン版を製造する。 （もっと読む）

【課題】単位体積当たりの表面積が大きく、かつ、基材としての強度を充分に備えたチタン金属製の基材を提供する。
【解決手段】厚さが３００μｍ以下のチタン薄片を５Ｎ以下のアルカリ水溶液に０．５〜１２時間浸漬することにより形成される深さが０．１〜２０μｍの網目状の侵食層を備えたチタン金属製の基材。このようなチタン薄片として、径が３００μｍ以下のチタン繊維、あるいは、厚さが３００μｍ以下のチタン薄板が挙げられる。 （もっと読む）

【課題】同一相内で結晶方位の異なる領域、即ちフェライト粒、マルテンサイトやベイナイト組織の旧γ粒、旧γ粒内の下部組織（パケット、ブロックなど）を結晶面方位に対応した色に着色し、高価な器機や熟練を必要とせずに、光学顕微鏡によって簡便に識別可能とする着色エッチング液とエッチング方法の提供。
【解決手段】水（Ｈ_２Ｏ）１ｍｏｌにチオ硫酸ナトリウム（Ｎａ_２Ｓ_２Ｏ_３）を８．７ｘ１０^−３〜１７．４ｘ１０^−３ｍｏｌ加え、更にピロ亜硫酸カリウム（Ｋ_２Ｓ_２Ｏ_５）とピロ亜硫酸ナトリウム（Ｎａ_２Ｓ_２Ｏ_５）のどちらか一方、又は両方を合計して、２．４ｘ１０^−３〜６．８ｘ１０^−３ｍｏｌ加えて溶解した水溶液からなることを特徴とする着色エッチング液に顕微鏡観察用試料を浸漬、水洗、乾燥する。 （もっと読む）

【課題】 モリブデン系金属とアルミニウム系金属を主成分とした金属積層膜を一括エッチング可能で各膜のサイドエッチング量を抑制し、テーパー角度を２０〜７０度に制御可能な優れたエッチング液を提供すること。
【解決手段】 絶縁膜基板上に形成されたアルミニウム系金属およびモリブデン系金属の積層膜をエッチングするエッチング液であって、硫酸、硫酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸水素アンモニウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸水素カリウム、硫酸カルシウム、硫酸セリウムアンモニウム、硫酸第二鉄、硫酸銅、硫酸マグネシウム、硫酸鉛、硫酸ヒドロキシルアンモニウム、アミド硫酸、アミド硫酸アンモニウム、ペルオキソ二硫酸アンモニウム、エチレンジアミン硫酸塩、アニリン硫酸塩およびアデニン硫酸塩からなる群から選択されるスルホン酸化合物、燐酸および硝酸を含有する、エッチング液。 （もっと読む）

【課題】耐熱性が要求される電子機器用途に使用されるアルミニウム材又はアルミニウム合金材の表面を樹脂との接着性、耐熱性が安定して得られる形状に粗化する方法を提供する。
【解決手段】遷移金属イオンを最適範囲の濃度で含有する溶液にアルミニウム材又はアルミニウム合金材を浸漬して表面に遷移金属被膜を置換析出させ、次いでこの遷移金属被膜の溶解反応時にアルミニウム材又はアルミニウム合金材表面にエッチング処理を施すことにより、表面から蛇行経路を持った（蟻の巣状の）マイクロポアにより形成された粗化面を有するアルミニウム材又はアルミニウム合金材を得る。 （もっと読む）

【課題】半導体素子及び電子素子の製造・検査用及び加速器等研究用の低真空から極高真空に到達する真空装置及び真空部品を製作するために最適なチタンまたはチタン合金、並びにその製造方法の提供。
【解決手段】チタンまたはチタン合金の表面を酸液により研磨並びに酸化処理し、その後水により洗浄処理して、当該金属の表面に１０ｎｍ未満の薄い均一かつ緻密な表面酸化層を形成させる。 （もっと読む）

本発明は、銅または銅合金の表面を、例えば多層プリント基板に見られるソルダーマスクの如き高分子基層に対する強固な結合のために処理する方法に関する。基層は、通常、半導体デバイス、リードフレームまたはプリント基板である。 （もっと読む）

【課題】 アルミニウム箔に無電解によってもエッチングピットを良好に形成することができるエッチング方法を得る。
【解決手段】 質量比で、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕの中から選択される１種又は２種以上を２０〜２００ｐｐｍ含有し、残部がＡｌと不可避不純物からなるアルミニウム合金箔に、塩素イオン濃度が１０００ｐｐｍ未満の溶液を接触させて、通電することなく、該アルミニウム合金箔表面の酸化皮膜を含む表層部を２０〜２００Å除去する表層部除去を行い、その後、エッチングピット発生工程を行ない、さらに、その後、エッチングピット孔径拡大工程を行う。無電解によってもエッチングピットを均一かつ高密度に生成させることができ、低コストでの処理が可能になる。 （もっと読む）

【課題】表面の表面処理ムラを有しない平版印刷版用支持体の提供。
【解決手段】Ｆｅ、Ｓｉ、ＴｉおよびＢを含有するアルミニウム合金溶湯から調製され、表面から２０μｍ以内の表層に、ＴｉＢ₂粒子が存在せず、またはＴｉＢ₂粒子が存在する場合には前記ＴｉＢ₂粒子のうち幅が１００μｍ未満のものが９５％以上であり、かつ、前記表層に存在する結晶粒の幅が、平均値２０〜２００μｍであり、最大値２０００μｍ以下であるアルミニウム合金板の表面に、少なくとも、アルカリエッチング処理とその後の電気化学的粗面化処理とを含む粗面化処理を施して得られる平版印刷版用支持体であって、前記粗面化処理後の表面から２０μｍ以内の表層におけるＦｅおよびＳｉのそれぞれの濃度について、低濃度部分の濃度の値に対する高濃度部分の濃度と低濃度部分の濃度の差の値の比が、いずれも２０％以下である、平版印刷版用支持体。 （もっと読む）

【課題】 化成処理ムラの発生が抑えられた、化成処理性に優れたアルミニウム合金材およびその洗浄方法を提供する。
【解決手段】 アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる化成処理後塗装されて用いられるアルミニウム合金材であって、酸またはアルカリに接触させてエッチング面を形成した後、ＣａおよびＳｉ濃度がそれぞれ５ｍｇ／ｌ以下の水を接触させて、エッチング面を洗浄し、前記アルミニウム合金材の表面から深さ方向に１μｍまでの表層部の元素濃度の最大値が、Ｃａ濃度において０．０４原子％以下であると共に、Ｓｉ濃度において２．５原子％以下とする。 （もっと読む）