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Fターム[4M109CA26]の内容

半導体又は固体装置の封緘、被覆構造と材料 (27,768) | 封止方法 (3,703) | 上記方法以外によるもの (112)

Fターム[4M109CA26]に分類される特許

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【課題】
保存安定性に優れ、かつフリップチップ接続をした際にボイドの発生が充分に抑制され、良好な接続信頼性を得ることができる半導体封止充てん用エポキシ樹脂組成物、並びにこれを用いた半導体装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
エポキシ樹脂、酸無水物、硬化促進剤、フラックス剤を必須成分とし、硬化促進剤が4級ホスホニウム塩である半導体封止充てん用エポキシ樹脂組成物、並びにこれを用いた半導体装置及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】フィルム状にしたときの埋込性に十分に優れるとともに、接続信頼性に優れる半導体装置の作製を可能なアンダーフィル形成用接着剤組成物を提供すること。
【解決手段】少なくとも、(A)熱可塑性樹脂と、(B)熱硬化性樹脂と、(C)潜在性硬化剤と、(D)無機フィラーと、を含有し、上記(A)熱可塑性樹脂がビスフェノールA、F共重合型フェノキシ樹脂を含む、アンダーフィル形成用接着剤組成物。 (もっと読む)


【課題】確実に電子部品をシールドすることができるとともに、低背化を伴う小型化を実現することができる電子部品モジュールの製造方法及び該製造方法を用いて製造した電子部品モジュールを提供する。
【解決手段】第1工程は、集合基板10を封止樹脂にて封止する。第2工程は、電子部品モジュール1の境界部分にて、封止樹脂の天面から、集合基板10に向かって切り込み部17を形成する。第3工程は、切り込み部17の開口部及び天面を覆うようにシート状の導電性樹脂18を載置する。第4工程は、所定の温度範囲で軟化し、加圧に対して導電性樹脂18よりも変形量の大きいシート状の絶縁性樹脂19を、導電性樹脂18上に載置する。第5工程は、圧力及び熱を加えることにより、集合基板10の少なくとも側面の一部及び天面を導電性樹脂18及び絶縁性樹脂19で被覆する。第6工程は、それぞれの電子部品モジュール1に個片化する。 (もっと読む)


【課題】半導体チップを基板にフリップチップ接続する際に、接着強度を良好にしつつ、アンダーフィル樹脂のフィレット形状が安定的に均等になるようにする。
【解決手段】半導体装置100は、基板102上にフリップチップ接続された半導体チップ130と、基板102と半導体チップ130との間に形成され、フィレット120aを含むアンダーフィル樹脂120とを含む。アンダーフィル樹脂120は、半導体チップ130と平面視で重なる領域の少なくとも一部において第1の樹脂層122と第2の樹脂層124とが積層された構成を有し、第1の樹脂層122と第2の樹脂層124の少なくとも一方は、半導体チップ130と平面視で重なる領域とフィレット120aとにわたって形成されている。 (もっと読む)


【課題】レーザビームの照射以外の手段で、補強材を含むプリプレグを硬化することで形成された絶縁膜に開口を形成した端子構造およびその作製方法、ならびに電子装置およびその作製方法を提供する。
【解決手段】端子部を構成する凸部120を有する導電体を形成する。補強材を有する未硬化のプリプレグ130をこの導電体に密着させ、プリプレグ130を硬化して、補強材131を含む絶縁膜140を形成する。プリプレグ130を密着させる際に、凸部120に密着している領域にプリプレグ130の厚さが他の領域よりも薄い部分を形成することができる。そして、この絶縁膜全体の厚さを薄くすることで、膜厚が薄い部分に開口143を形成することができる。この薄膜化はエッチングで行うことができる。また、この工程で補強材131を除去しないことが好ましい。開口143に補強材131を残すことで端子および電子装置の強度を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】レーザー光による熱的ダメージを半導体素子に与えないようにする。
【解決手段】基材41上に形成された絶縁膜11にレーザー光を照射することによってビアホール12を形成し、半導体素子3に形成された電極4をビアホール12に位置合わせして、半導体素子3及び電極4を接着剤層13によって絶縁膜11に接着し、基材41を絶縁膜11から除去し、ビアホール12に向けてレーザー光を照射することによって、電極4まで通じる第2ビアホール14を接着剤層13に形成し、絶縁膜11に配線15をパターニングして、配線15の一部をビアホール12及び第2ビアホール14に埋めて電極4に接触させる。 (もっと読む)


【課題】半導体チップと配線回路基板との接続部の絶縁信頼性を向上できる接着剤組成物を提供する。
【解決手段】半導体チップ及び配線回路基板のそれぞれの接続部が互いに電気的に接続された半導体装置、又は、複数の半導体チップのそれぞれの接続部が互いに電気的に接続された半導体装置において接続部を封止する接着剤組成物であって、重量平均分子量が10000以上の高分子成分、高分子成分とは異なるエポキシ樹脂、硬化剤及びカルボン酸を含有し、圧着温度が250℃、圧着圧力が0.5MPa、圧着時間がT秒間である熱圧着条件において、熱圧着を開始してからT/2秒までにおける平均フロー量が0.2mm以上であり、T/2秒からT秒までにおける平均フロー量が0.3mm以下である、接着剤組成物。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハへの貼付性、ウエハ裏面研削性及びフリップチップボンディング時の埋込性のすべてを高水準で満足する回路部材接続用接着剤シート、及び半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】 上記課題を解決する回路部材接続用接着剤シートは、支持基材と、該支持基材上に設けられた接着剤組成物からなる接着剤層と、を備え、前記接着剤組成物が、(A)重量平均分子量が10万以上である高分子量成分と、(B)エポキシ樹脂と、(C)フェノール系エポキシ樹脂硬化剤と、(D)放射線重合性化合物と、(E)光開始剤と、(F)硬化促進剤とを含む。 (もっと読む)


【課題】フィルム状にしたときの埋込性に十分に優れるとともに、接続信頼性に優れる半導体装置の作製を可能な接着剤組成物、それを用いた回路部材接続用接着剤シート、及び半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、(A)熱可塑性樹脂と、(B)熱硬化性樹脂と、(C)潜在性硬化剤と、(D)無機フィラーと、(E)有機微粒子と、(F)室温で固体であり、最大粒径が25μm以下である粉体化合物とを含み、(F)成分は、カルボキシル基を有する化合物、メチロール基を有する化合物及びヒドラジド化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物である接着剤組成物に関する。 (もっと読む)


【課題】剥離シートと封止樹脂層の凹凸形状が間隙なく嵌合し、かつ、該凹凸形状が封止加工後にも維持されて、光取り出し効率に優れる、光半導体封止用シート、及び該シートで封止してなる光半導体装置を提供すること。
【解決手段】剥離シートの上に封止樹脂層が積層されてなる光半導体封止用シートにおいて、前記剥離シートが封止樹脂層との界面に、凹形状及び/又は凸形状を有する凹凸部形成層を含み、かつ、前記封止樹脂層が剥離シートとの界面に、剥離シートの凹形状に嵌合する凸形状及び/又は剥離シートの凸形状に嵌合する凹形状を有する凹凸部形成層を含んでなる光半導体封止用シートであって、前記封止樹脂層が、さらに、光半導体素子を包埋しうる素子包埋層を含み、前記封止樹脂層の凹凸部形成層の20℃の貯蔵弾性率が6MPa〜1500MPaである、光半導体封止用シート。 (もっと読む)


【課題】樹脂ペーストを利用してシールド層を形成しながら、封止層の表面形状によらずに樹脂ペーストの塗布量を正確にコントロールできる、電子部品の製造方法の提供を図る。
【解決手段】本製造方法は、積層体形成工程(A1〜A4)、塗布体形成工程(A5)、貼着工程(A6)、およびシールド層形成工程(A7)を有する。積層体形成工程(A1〜A4)は積層体を形成する。積層体は、基板1の素子搭載面を封止層4で封止した構成である。塗布体形成工程(A5)は、塗布体10を形成する。塗布体10は、フィルムシート11に樹脂ペースト12を塗布した構成であり、樹脂ペーストは導電性を持つ。貼着工程(A6)は、積層体の封止層4に対して塗布体10を樹脂ペースト12で貼着させる。シールド層形成工程(A7)は、樹脂ペースト12を本硬化させる。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハのダイシング工程及びダイボンディング工程に用いられるフィルム状接着剤であって、チップをピックアップした後、チップのバンプと基板の端子との位置合わせを確実に行うことができるフィルム状接着剤を提供する。
【解決手段】フィルム状接着剤100は、第一のプラスチック層10上に、粘着剤層12、熱硬化性樹脂層30及び第二のプラスチック層20が、この順に積層されたものであって、粘着剤層の面積が熱硬化性樹脂層の面積より大きく、熱硬化性樹脂層は未硬化時の可視光並行透過率が15〜100%である。 (もっと読む)


【課題】光半導体素子の封止加工が可能な半硬化状態を形成でき、かつ、耐光性、耐熱性、及び接着性に優れるシリコーン樹脂組成物を提供できる熱硬化性シリコーン樹脂用組成物、該組成物の半硬化物であるシリコーン樹脂シート、該シートをさらに硬化させた樹脂硬化物、該シートにより封止されている光半導体装置、ならびに該組成物を成形したマイクロレンズアレイを提供すること。
【解決手段】(1)両末端シラノール型シリコーン樹脂、(2)アルケニル基含有ケイ素化合物、(3)エポキシ基含有ケイ素化合物、(4)オルガノハイドロジェンシロキサン、(5)縮合触媒、及び(6)ヒドロシリル化触媒を含有してなる、熱硬化性シリコーン樹脂用組成物。 (もっと読む)


【課題】
半導体素子に対してアンダーフィルの半導体素子裏面への回り込みを防止する機能を付与することができる半導体ウエハ加工用粘着フィルムを提供する。また、個片化された半導体素子を用いて半導体装置を作製する際、同様の機能を有するものとなる半導体ウエハを提供する。
【解決手段】
少なくとも粘着層と基材層とを有する半導体ウエハ加工用粘着フィルムであって、前記粘着層が撥脂剤を含むものである半導体加工用粘着フィルム。 (もっと読む)


【課題】基板剛性の確保と、リペアの容易性の両立を図る。
【解決手段】電子部品2・3・4・5が実装された基板1の製造方法であって、基板1の電子部品2・3・4・5が実装された面を覆うフィルム6を接着材により貼付するフィルム貼付ステップと、そのフィルム貼付ステップによって貼付されたフィルム6の上に補強用の樹脂7を形成する補強材形成ステップと、を含む。具体的には、基板1及び電子部品2・3・4・5にフィルム6を接着する接着材は、基板1に対する剥離強度において、樹脂7より低いものである。 (もっと読む)


【課題】封止樹脂の表面に密着強度の高い金属膜を有する信頼性の高い樹脂封止型電子部品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】受動素子15及び表面実装型IC16は封止樹脂18によって封止され、封止樹脂18の上面に銅箔20が固着されている。銅めっき層30は、銅箔20の上面から封止樹脂18の側面、さらに配線基板10の側面にまで延在し、銅箔20の上面と接合され、かつグランドライン11のうち配線基板10の外縁に露出した部分と接合されている。これにより、銅箔20の上面とグランドライン11のうち配線基板10の外縁に露出した部分とが銅めっき層30のアンカーとして機能することとなり、銅めっき層30を電気的・機械的に封止樹脂18に密着させることができる。 (もっと読む)


【課題】端面からの水分や酸素の浸入がより抑制された封止された素子を提供する。
【解決手段】素子と、該素子を狭持して、端部において互いに接している一対のフレキシブルなガスバリアフィルムと、バリア性部材とを有し、前記一対のガスバリアフィルムの互いに接している領域の少なくとも一部に、凹部が設けられており、前記バリア性部材は、少なくとも、前記ガスバリアフィルムの端面と、前記ガスバリアフィルムであって、凹部が設けられている部分とを覆っている、封止された素子。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハのダイシング工程〜半導体チップのフリップチップボンディング工程にかけて利用可能なダイシングテープ一体型ウエハ裏面保護フィルムを提供すること。
【解決手段】ダイシングテープ一体型ウエハ裏面保護フィルムは、基材、及び該基材上に形成された粘着剤層を有するダイシングテープと、該ダイシングテープの粘着剤層上に形成されたウエハ裏面保護フィルムとを有するダイシングテープ一体型ウエハ裏面保護フィルムであって、前記ウエハ裏面保護フィルムが、染料により着色されていることを特徴とする。前記着色されたウエハ裏面保護フィルムは、レーザーマーキング性を有していることが好ましい。ダイシングテープ一体型ウエハ裏面保護フィルムは、フリップチップ実装の半導体装置に好適に用いることができる。 (もっと読む)


【課題】光取り出し効率に優れる光半導体封止用シート、及び該シートで封止してなる光半導体装置を提供すること。
【解決手段】剥離シートの上に封止樹脂層が積層されてなる光半導体封止用シートであって、前記剥離シートが封止樹脂層との界面に、凹形状を有する凹部形成層又は凸形状を有する凸部形成層を含み、かつ、前記封止樹脂層が剥離シートとの界面に、剥離シートの凹形状に嵌合する凸形状又は剥離シートの凸形状に嵌合する凹形状を有してなる、光半導体封止用シート。 (もっと読む)


【課題】光透過性、耐熱性及び耐光性に優れるシリコーン樹脂を提供でき、かつ、光半導体の封止加工が可能な半硬化状態を形成できる熱硬化性シリコーン樹脂用組成物、該組成物の半硬化物であるシリコーン樹脂シート、該シートをさらに硬化させた樹脂硬化物、ならびに該組成物を含む光半導体素子封止材料、及び該封止材料により封止されている光半導体装置、を提供すること。
【解決手段】(1)両末端シラノール型シリコーンオイル、(2)アルケニル基含有ケイ素化合物、(3)オルガノハイドロジェンシロキサン、(4)縮合触媒、及び(5)ヒドロシリル化触媒を含有してなる熱硬化性シリコーン樹脂用組成物であって、前記ヒドロシリル化触媒が白金−1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体を含有してなる、熱硬化性シリコーン樹脂用組成物。 (もっと読む)


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