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【解決手段】(A)少なくとも1つのエポキシ基を含有したポリオルガノシロキサンと、(
B)炭素−炭素3重結合および水酸基を有する化合物とを含有することを特徴とする組成
物。
【効果】本発明の組成物を用いれば、はんだリフロー工程等の高温条件下でもLEDパッケージの基材や電極部分からの剥離等が発生しない硬化体を得ることができる。また本発明の組成物は、mm単位の膜厚を有する硬化体を形成した場合でも、その硬化体は十分な硬化性とクラック耐性とを併せ持つ。 (もっと読む)


【課題】分散安定性に優れる蛍光樹脂組成物、それを使用した信頼性に優れる封止材、及び発光性に優れる蓄光材料を提供すること。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂と、
下記一般式(1)で表されるアルコキシシラン化合物と、
を共加水分解縮合させて得られる樹脂組成物であって、


(式(1)中、n=0〜3であり、Rは水素原子又は有機基を示す。また、複数のRは、同一又は異なっていてもよく、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を示す。)
前記アルコキシシラン化合物は、
(B)n=1〜2であり、Rとして、少なくとも1つの環状エーテル基を有する、少なくとも1種のアルコキシシラン化合物と、
(C)n=1〜2であり、Rとして、少なくとも1つのアリール基を有する、少なくとも1種のアルコキシシラン化合物と、
を含み、かつ、下記式(2)で表される(B)及び(C)の混合指標αが、0.001〜19である樹脂組成物と、蛍光体と、を含む蛍光樹脂組成物;
混合指標α=(αc)/(αb) (2)
(式中、αb:前記(B)成分の含有量(mol%)、αc:前記(C)成分の含有量(mol%))。 (もっと読む)


【課題】リードの変色が無く且つ耐熱衝撃性に優れた、シリコーン樹脂で封止された光半導体装置を提供する。
【解決手段】光半導体素子10と、リード21a、21b、光半導体素子を載置するパッケージ20と、光半導体素子を封止するシリコーン樹脂組成物の硬化物30を備える光半導体装置であって、該硬化物の固体29Si−DD/MAS分析から求められる(ΦSiO3/2)単位(但しΦはフェニル基を表す)の量が、0.13モル/100g〜0.37モル/100gである、光半導体装置である。 (もっと読む)


【課題】フリップチップ実装の半導体装置の封止に際し、基板、素子等の間の隙間侵入性と硬化後のチップクラック防止性に優れた半導体封止用液状エポキシ樹脂組成物、及びそれをアンダーフィル材として用いて封止したフリップチップ型半導体装置を提供する。
【解決手段】(A)液状エポキシ樹脂、(B)特定のシリコーン変性フェノール硬化剤:(A)成分中のエポキシ基に対するフェノール性水酸基の比が0.8〜1.1となる量、(C)平均粒子径が0.1〜1.0μmである無機充填材:(A)、(B)及び(C)成分の合計質量に対して10〜40質量%となる量を含有することを特徴とする半導体封止用液状エポキシ樹脂組成物、及び該エポキシ樹脂組成物をアンダーフィル材として用いて封止したフリップチップ型半導体装置。 (もっと読む)


【課題】断線を防止することで品質を向上させる半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】光を発光または受光する領域である受発光領域と複数のボンディングパッドとを主面に有する半導体素子と、凹部を有する凹状基板であって、その凹部内の側面に段差となる第1段差部が形成され、第1段差部に複数の接続端子が設けられ、半導体素子がその主面と反対の面で凹部の底面に搭載される凹状基板と、ボンディングパッドおよび接続端子を電気的に接続するワイヤーと、受発光領域を除いた半導体素子およびワイヤーを被覆する樹脂とを備え、凹状基板には、さらに、段差となる第2段差部が凹部内の側面における第1段差部とは異なる位置に設けられている。 (もっと読む)


【課題】 トランスファー成形時の離型性が十分に高く連続成形性に優れ、光半導体素子搭載用基板に必要とされる光学特性に優れる硬化物を形成可能である光反射用熱硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化触媒及び(D)白色顔料を含有する光反射用熱硬化性樹脂組成物であって、(A)エポキシ樹脂及び(B)硬化剤の少なくとも一方が、オルガノシロキサン骨格を有する化合物を含む光反射用熱硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】成形性に優れ、無機充填材と複合化させた場合の熱伝導率が高く、かつ低熱膨張性で耐湿性に優れた硬化物を与えるエポキシ樹脂組成物を提供し、更にそれを用いた硬化物を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂及び硬化剤、またはこれらと無機充填材を主成分とするエポキシ樹脂組成物において、硬化剤成分として、ジフェニルエステル構造を有するフェノール性化合物を硬化剤成分中50wt%以上用いて得られるエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】耐熱性及び高い熱伝導率を有する硬化物の得られるエポキシ樹脂及び該エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式(1)


(式中、複数存在するRはそれぞれ独立して水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表す。nは平均値であり1<n≦4を表す。)などの特定のフェノールアラルキル樹脂構造を有するエポキシ樹脂と特定のフェノールアラルキル樹脂、および無機充填剤を含有する半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】常温での取扱性に優れ溶融混練を経るコンパウンド化や成形が容易であり、かつ、硬化物において難燃性、耐熱性や耐湿性に優れるエポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、半導体封止材料、及びこれを用いたエポキシ樹脂組成物の硬化物、半導体装置を提供すること。
【解決手段】エポキシ樹脂(A)と硬化剤(B)を必須成分とするエポキシ樹脂組成物であって、前記エポキシ樹脂(A)が1,4−ジヒドロキシナフタレンとエピハロヒドリンとを反応させて得られる、示差走査熱量測定(DSC)により毎分3℃の速度で昇温して測定した融解ピークの頂点が80℃以上105℃以下にあるナフタレン型エポキシ樹脂結晶化物であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】
緻密な半導体の封止材に対応するため、封止材の保存安定性を向上させるとともに、封止時の封止材の流動性を保ち、且つ熱による効率的な封止材の硬化速度を実現すること。
【解決手段】
下記(A)成分と(B)成分とを含有することを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物である。さらに、(C)無機充填剤を含有していてもよい。
(A)エポキシ樹脂
(B)5−ヒドロキシイソフタル酸と、2−エチル−4−メチルイミダゾールとを含有する包接錯体 (もっと読む)


【課題】電子部品素子が緻密な外装樹脂により被覆された、信頼性の高い電子部品を効率よく製造することが可能な電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】(a)熱硬化性樹脂と、(b)球状無機フィラーと不定形無機フィラーとを、球状無機フィラー55〜65重量部、不定形無機フィラー35〜45重量部の割合で配合した無機フィラーと、(c)溶剤とを含む熱硬化性樹脂ペーストに電子部品素子10を浸漬して、電子部品素子10の表面に熱硬化性樹脂ペーストを塗布し、これを乾燥させた後、加熱して硬化させることにより外装樹脂本体層11を形成するとともに、この外装樹脂本体層11の表面に、トップコート用樹脂ペースト塗布して、外装樹脂本体層11を被覆するトップコート層12を形成する。
熱硬化性樹脂ペーストとして、無機フィラーの含有量が75〜80重量%の範囲にあるものを用いる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、多層プリント配線板の絶縁層に用いる樹脂組成物に用いる場合、従来よりも優れた耐吸湿性、高耐熱、低誘電特性、低熱膨張性、及び難燃性に優れるビフェニルアラルキル型シアン酸エステル樹脂、並びにビフェニルアラルキル型シアン酸エステル樹脂を含む樹脂組成物、及び、当該樹脂組成物を用いた特性のバランスに優れるプリプレグ、樹脂シート、積層板、多層プリント配線板、並びに半導体装置を提供するものである。
【解決手段】 ビフェニルアラルキル型シアン酸エステル樹脂、エポキシ樹脂、および硬化剤を必須成分とする樹脂組成物、および当該樹脂組成物を用いた樹脂シート、プリプレグ、積層板、多層プリント配線板、並びに半導体装置。 (もっと読む)


【課題】各構成部材が均一な線膨張を提供し、接続部の熱機械疲労の原因を減少させた高信頼性の、電子部品と基板の間にアンダーフィル接着剤を含む電子アセンブリを提供する。
【解決手段】基板14に電気的に接着されて基板との間にアンダーフィル接着剤16を有する電子部品を含み、アンダーフィル接着剤16が、ポリエポキシド樹脂と、硬化触媒と、融剤と、球形の非凝集、非晶質かつ固体である表面処理ナノ粒子18との混合物から本質的になる硬化性アンダーフィル接着用組成物の反応生成物を含む、ここで、化性アンダーフィル接着用組成物は25℃における粘度が1,000〜100,000センチポアズである、電子アセンブリ10。さらに、表面処理ナノ粒子が5〜600ナノメートルの平均粒度を有する、電子アセンブリ10、及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】ハロゲン系難燃剤等の難燃剤を用いず、かつ、無機充填材を多量に含有させなくても、耐炎性の優れ、かつ、粘度の充分に低いエポキシ樹脂組成物を得ることを目的とする。
【解決手段】エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、及び無機充填材を含有する半導体封止用エポキシ樹脂組成物であって、前記エポキシ樹脂が、特定の構造を有するフェニルフェノールノボラック型エポキシ樹脂と、ビフェニル型エポキシ樹脂とを含み、前記フェニルフェノールノボラック型エポキシ樹脂の含有量が、前記エポキシ樹脂全量に対して、40〜80質量%であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の半導体チップと封止樹脂との密着性を向上する。
【解決手段】半導体チップ2と、半導体チップ2を被覆し封止する封止樹脂3と、を備える半導体装置1である。半導体チップ2の表層部には凹部4が形成されている。凹部4には、その所定部位よりも深い位置に、該所定部位よりも大径の部分が形成されている。凹部4内に封止樹脂3が入り込むことにより、封止樹脂3と半導体チップ2とが相互に係合している。これにより、半導体チップ2と封止樹脂3との密着性を向上することができる。 (もっと読む)


【課題】低透湿性を有し、また、透明性及び高屈折率を有するエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(a)エポキシ化合物、及び、
(b)前記エポキシ化合物と反応性の架橋性基を2個以上有する化合物、
を含むエポキシ樹脂組成物であって、
(a)/(b)の質量比が0.3〜3であり、そして前記エポキシ樹脂組成物の屈折率が1.6以上である、
エポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】低熱抵抗を示し、耐熱性が良く、離油が無く、隙間の厚い箇所にも使用できる、保型性がある熱伝導性コンパウンドを提供する。
【解決手段】 A)熱硬化性液状シリコーン30〜60体積%、B)酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、酸化亜鉛、シリカ、窒化ケイ素および窒化ホウ素粉末の群から選ばれる1種又は2種以上の熱伝導性粉末40〜70体積%からなる樹脂組成物を反応硬化した後に混練、又は反応硬化と同時に混練することにより得られる熱伝導性コンパウンド。熱伝導性粉末の平均粒径が5〜70μmである熱伝導性コンパウンド。熱伝導性コンパウンドを用いた電子回路部品および電子回路部品を組み込んだ家庭用電気製品、OA機器、または自動車。 (もっと読む)


【課題】表面封止シリカ系粒子、その製造方法および該粒子を混合してなる半導体封止用樹脂組成物の提供。
【解決手段】平均粒子径2〜300nmのシリカ系微粒子を含む分散液を噴霧乾燥して得られる平均粒子径0.5〜50μmのシリカ系多孔質粒子の表面に存在する細孔を、平均粒子径2〜50nmのシリカ微粒子(粒子表面が溶解されたものを含み、以下同じ)および/またはその溶解物、または該シリカ微粒子および/またはその溶解物と珪酸の脱水・縮重合物、または該シリカ微粒子および/またはその溶解物と有機ケイ素化合物の加水分解・縮重合物で封止してなる、耐湿性を備えた表面封止シリカ系粒子およびその製造方法。 (もっと読む)


【課題】リードフレームとの密着性に優れ、流動性、成形性、実装時の半田耐熱性、実装後の耐湿性に優れ、長期間に渡って信頼性を確保することのできる封止用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂、(C)ポリカルボジイミド化合物、(D)エポキシ変性またはアミノ変性の変性シリコーンオイル、(E)無機質充填剤、および(F)硬化促進剤を必須成分として含有する封止用樹脂組成物であって、前記封止用樹脂組成物全体に対して前記(C)ポリカルボジイミド化合物を0.01重量%以上3重量%以下、(D)エポキシ変性またはアミノ変性の変性シリコーンオイルを0.01重量%以上2重量%以下含有することを特徴とする封止用樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】低透湿性、接着性、透明性、耐候性に加えて、耐溶剤性および耐薬品性に優れた封止材料(シーリング材料)に適した樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記の(A)および(B)を必須成分として含有する樹脂組成物である。
(A)側鎖に(メタ)アクリロイル基を有するアクリル系重合体。
(B)平均粒子径が0.3μm以下の無機質充填剤。 (もっと読む)


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