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【課題】クラックや接着界面の剥離を抑制する半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂、硬化剤下記式(I)で表される、および無機充填剤を必須成分とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
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【課題】本発明では、十分な精度で認証処理を行うことができる認証用パタンを露出面に形成している電子部品を提供することを課題とする。
【解決手段】上記課題を解決するために、露出面に認証用パタンを形成している電子部品であって、当該認証用パタンは、樹脂を含むベース部4と、ベース部4内で識別可能な色調を有する有色粒5と、を含み、有色粒5がベース部5内において分散したドット模様を形成している電子部品を提供する。 (もっと読む)


【課題】フリップチップ方式の半導体装置において、狭ギャップへの注入性に優れ、なおかつ狭い塗布スペースでの塗布を可能とする液状封止樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】フリップチップ方式の半導体装置において半導体チップと基板又は半導体チップと半導体チップのギャップの封止に用いる液状封止樹脂組成物であって、(A)液状エポキシ樹脂、(B)硬化剤、及び(C)無機充填剤を含有し、注入温度における粘度が0.1Pa・s以下であり、かつ注入温度および硬化温度における前記半導体チップ表面及び前記基板表面との接触角(θ)が15度以上である液状封止樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】封止用の樹脂材料と基板表面との親和性や密着性の不足に起因する、発光効率のバラツキや、樹脂硬化物層の剥離等の問題が解消されたLEDパッケージを提供する。
【解決手段】基板140上にLEDチップ110を実装し、更に蛍光体150を含有する樹脂材料160で封止するLEDパッケージにおいて、前記基板の前記樹脂材料と接触する表面に、アルコキシル基、エポキシ基、フェニル基、アルキル基、および(メタ)アクリル基からなる群から選択される少なくとも一種類以上の官能基を含む層を予め設ける。 (もっと読む)


【課題】 フラックス洗浄工程が不要で生産性に優れ、かつ半導体ウエハの裏面を研削した際の反りを低減することが可能な半導体装置の製造方法およびその製造方法で製造された半導体装置を提供すること。
【解決手段】 上記課題は、第1の接続電極が設けられた回路面を有する半導体ウエハの回路面にフラックス機能を有する樹脂組成物層およびバックグラインドテープをこの順に形成する第1の工程と、前記半導体ウエハの回路面とは反対側の面を研削する第2の工程と、前記半導体ウエハの回路面とは反対側の面にダイシングテープを積層する第3の工程と、前記バックグラインドテープを剥離する第4の工程と、前記フラックス機能を有する樹脂組成物層および半導体ウエハを個片化することにより前記フラックス機能を有する樹脂組成物層付き半導体チップを得る第5の工程と、さらに2つの工程を有する半導体装置の製造方法とすることにより解決することができる。 (もっと読む)


【課題】 半導体装置を回路基板に実装する電子装置の製造において環境負荷を軽減するとともに、電子装置の耐衝撃性及び接続信頼性を確保する。
【解決手段】 電子装置の製造方法は、回路基板110上に加熱により発泡する第1の樹脂部141’を形成する工程と、第1の樹脂部の上方に第2の樹脂部142’を形成する工程と、第2の樹脂部の上方に、接合材132を備える半導体装置120を配置する工程とを有する。この製造方法は更に、接合材132と回路基板110とを接合し、回路基板110と半導体装置120とを電気的に接続する端子130を形成する工程を有する。端子130を形成する工程における加熱により、気泡141bを内包した第1の樹脂部141が形成されるとともに、第1の樹脂部の膨張に伴う第2の樹脂部142’の移動により、端子130の周囲を覆う第2の樹脂部142が形成される。 (もっと読む)


【課題】光学デバイスの長期信頼性を支える上で、高い耐熱性、耐光性、ガスバリア性を有し、さらに耐冷熱衝撃性に優れる封止層を有する光学デバイスが求められている。
【解決手段】(1)周波数10Hzで測定した損失正接の極大値が−10℃〜50℃の温度範囲に少なくとも1つあり、貯蔵弾性率が50℃において20MPa以下であり、
(2)200℃に24時間放置した前後において、波長400nmの光における透過率の維持率が95%以上であり、
(3)40℃/90%RHの環境下における透湿度が20g/m2/day以下である封止層を有することを特徴とする光学デバイス。 (もっと読む)


【課題】耐リフロー性、耐湿性、および高温電気特性の優れた高信頼性の半導体封止装置およびこれに使用される封止用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂、(C)トリ(p−トリル)ホスフィン、(D)無機質充填剤、および(E)ハイドロタルサイトを必須成分として含有する封止用樹脂組成物の硬化物によって回路基板上に搭載された半導体チップとワイヤーを封止してなる半導体封止装置であって、前記回路基板と前記半導体チップとを接続するワイヤーが銅ワイヤーである半導体封止装置、およびこれに使用される封止用樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】光透過率の温度依存性が低く、温度に対する光透過率の変動を低減することのできる光学用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂および(B)硬化剤を含有するとともに、硬化物の屈折率よりも高い屈折率を有する無機質充填剤と、硬化物の屈折率未満の低い屈折率を有する無機質充填剤を含む無機質充填剤(C)を含有する光学用エポキシ樹脂組成物であり、該樹脂組成物を硬化して得られる光学部品、光半導体素子を樹脂封止してなる光半導体装置である。 (もっと読む)


【課題】金型成型によってシートの一部がパッケージの外側に漏れ出すことのない光半導体用封止シート、及び該シートを用いて封止した光半導体装置を提供すること。
【解決手段】蛍光体を含有する蛍光体含有層と封止樹脂を含有する封止樹脂層とが積層されてなる光半導体用封止シートであって、積層した面において、前記蛍光体含有層の端部が前記封止樹脂層の端部からはみ出しており、はみ出し長さが封止樹脂層の厚みの1〜10倍であることを特徴とする光半導体用封止シート。 (もっと読む)


【課題】耐光着色性、耐熱着色性、耐腐食ガス性に優れた硬化物を与える新規な硬化性樹脂組成物の提供。
【解決手段】オルガノポリシロキサン(A)と多価カルボン酸(B)、有機金属塩および/または有機金属錯体(C)、光安定剤(D)を含有する硬化性樹脂組成物、ただし、オルガノポリシロキサン(A)と多価カルボン酸(B)、光安定剤(D)は以下の条件を満たす。オルガノポリシロキサン(A):少なくとも、その分子中にグリシジル基および/またはエポキシシクロヘキシル基を有するオルガノポリシロキサン多価カルボン酸(B):少なくとも2つのカルボキシル基を有し、脂肪族炭化水素基を主骨格とする光安定剤(D):構造式(1)で示される化合物。
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【課題】フリップチップ方式の半導体装置においてフィラー高充填化が可能で、高い信頼性を有し、狭ギャップへの充填性に優れる液状樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(A)エポキシ樹脂、(B)アミン硬化剤、(C)フィラー、及び(D)芳香環を構成する2個以上の隣接する炭素原子にそれぞれ水酸基が結合した化合物を含むことを特徴とする液状樹脂組成物で、好ましくは、化合物(D)はナフタレン環を構成する2個以上の隣接する炭素原子にそれぞれ水酸基が結合した化合物であり、化合物(D)の含有量が、液状樹脂組成物全体に対して、0.005重量%以上0.3重量%以下である液状樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 Ag、Au、Pd及びNiのような金属との接着性が良好で、耐リフロー性が良好となり、かつ成形性や耐湿性、高温放置特性等の信頼性を低下させずに難燃性が良好な封止用エポキシ樹脂組成物、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供する。
【解決手段】 (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)分子内にジスルフィド基(−S−S−)を有する化合物を含有し、(C)分子内にジスルフィド基を有する化合物として、このS−S結合が金属面に対する配位が可能な構造の化合物を含有する封止用エポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】硬化物における難燃性、耐熱性に優れると共に、極めて低い線膨張係数を達成できる硬化性樹脂組成物、その硬化物、及びこれに用いるリン原子含有フェノール類の製造方法、並びに、該硬化性樹脂組成物を用いたプリント配線基板用樹脂組成物、プリント配線基板、フレキシブル配線基板用樹脂組成物、半導体封止材料用樹脂組成物、及びビルドアップ基板用層間絶縁材料用樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】アルコキシ基を芳香核上の置換基として有する芳香族アルデヒド(a1)、及び、P−H基又はP−OH基を分子構造中に有する有機リン化合物(a2)を反応させ、次いで、得られた反応生成物を、ビス(ヒドロキシフェニレン)スルホン構造を有するフェノール樹脂(a3)と反応させて得られるリン原子含有フェノール類(A)、及びエポキシ樹脂(B)を必須成分とする。 (もっと読む)


【課題】携帯電話等の無線通信装置の低背化を図ることができる電子モジュール及び電子モジュール製造方法を提供する。
【解決手段】電子モジュール1−1は、ICチップ2と平面インダクタ3と樹脂4と外部端子21〜23,33,34とで構成されている。具体的には、樹脂4が、ICチップ2とコイル電極31とを裏面側から封止している。すなわち、樹脂4が、パッケージ材として用いられると共に、平面インダクタ3の裏面側の磁性層としても用いられている。そして、このような樹脂4の裏面側に、ICチップ2の外部端子21〜23と平面インダクタ3の外部端子33,34とが設けられている。 (もっと読む)


【課題】
保存安定性に優れ、かつフリップチップ接続をした際にボイドの発生が充分に抑制され、良好な接続信頼性を得ることができる半導体封止充てん用エポキシ樹脂組成物、並びにこれを用いた半導体装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
エポキシ樹脂、酸無水物、硬化促進剤、フラックス剤を必須成分とし、硬化促進剤が4級ホスホニウム塩である半導体封止充てん用エポキシ樹脂組成物、並びにこれを用いた半導体装置及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】高い耐熱性および透明性を維持しつつ、優れた輝度安定性を付与した硬化物を得ることができる光半導体封止用樹脂組成物、その硬化物、ならびにこれを使用して光半導体素子を封止した光半導体装置の提供。
【解決手段】エポキシ樹脂、硬化剤、及び硬化促進剤を含有し、脂環式エポキシ樹脂(A)として、下記式(I)で表される化合物、脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物、及び脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基を3以上有する化合物からなる群から選択される少なくとも1種の化合物を、エポキシ樹脂の全量に対して55〜100wt%含有し、硬化剤が酸無水物系硬化剤であり、且つ硬化促進剤として、ホスホニウムイオンと該ホスホニウムイオンとイオン対を形成しうるハロゲンアニオンとのイオン結合体を含有する光半導体封止用樹脂組成物。
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【課題】半導体部品を回路基板に実装した後にアンダーフィル樹脂を充填する必要がなく、耐落下衝撃性を向上できる半導体部品の実装方法を提供する。
【解決手段】はんだ粒子及びフラックス成分を含有する熱硬化性樹脂組成物1を用いて半導体部品2と回路基板4とを接合する接合部6を設ける半導体部品2の実装方法に関する。熱硬化性樹脂組成物1を回路基板4の電極5ごとに塗布する。熱硬化性樹脂組成物1を被覆するように、フラックス成分を含有しない封止材9を塗布する。熱硬化性樹脂組成物1及び封止材9が共に未硬化状態のまま、半導体部品2の端子3と回路基板4の電極5とが対向するように半導体部品2と回路基板4とを重ねて加熱する。熱硬化性樹脂組成物1を硬化させて、はんだ粒子が溶融一体化したはんだ部7と、はんだ部7の周囲を被覆する樹脂硬化部8とで形成される接合部6を設ける。封止材9を硬化させて、接合部6の周囲を封止する。 (もっと読む)


【課題】 優れたレーザーマーキング性と半田耐熱性を有するエポキシ樹脂組成物と、それを用いて封止したことによりレーザーマーキング視認性に優れる半導体装置を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂(A)、硬化剤(B)および無機充填剤(C)を主成分とするエポキシ樹脂組成物において、DBP吸収量が100cm3/100g以上であるカーボンブラック(D)を含有し、かつ前記無機充填剤(C)が平均粒径0.1〜10μmの破砕シリカ(c1)または平均粒径1〜100nmの極小微細球状シリカ(c2)の少なくとも一方を含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物及び該樹脂組成物で封止してなる樹脂封止型半導体装置。 (もっと読む)


【課題】
無機充填材の詰まりやボイドなどの問題の無い、COF方式あるいはSOF方式で組み立てられる半導体装置に用いられる液状封止樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】
耐熱性フィルム上の回路と、その回路上に搭載される半導体素子との接続部が2個以上存在し、その接続部において耐熱性フィルムと半導体素子との隙間が10μm以上50μm以下で、且つ隣接する接続部同士の間隔が5μm以上25μm以下の部位を有する半導体装置に用いられる液状封止樹脂組成物であって、液状封止樹脂組成物が(A)エポキシ樹脂(B)硬化剤、(C)無機充填材、及び(D)前記無機充填材の表面電荷を中和し得る添加剤を含み、無機充填材の含有量が10重量%以上80重量%以下であり、平均粒径が0.1μmから0.5μmで、最大粒径が5μm以下である液状封止樹脂組成物。 (もっと読む)


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