【課題】オプティカルブラック領域の信号レベルが変化する場合でも、適切な信号レベルを算出でき、横引きノイズのない映像信号を得ることを目的とする。
【解決手段】映像信号処理装置は、ライン毎にオプティカルブラック領域の出力信号のＯＢライン平均値を求める１ラインＯＢ平均算出部１０３と、ＯＢライン平均値を求めたラインを含むフレームの１フレーム前におけるフレームのオプティカルブラック領域の出力信号のＯＢフレーム平均値を求める１フレームＯＢ平均算出部１０４と、１ラインＯＢ平均算出部１０３で求めたＯＢライン平均値と、１フレームＯＢ平均算出部１０４で求めたＯＢフレーム平均値とを比較し、比較結果に基づき、ＯＢライン平均値を求めたラインを含むフレームの映像信号を、ライン平均値またはフレーム平均値を用いて補正する黒レベル補正部１０８映像補正部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】位相差画素のスミアを低減する。
【解決手段】半導体基板の表面部に二次元アレイ状に複数の画素２を配列形成し、画素２で構成される複数の画素列に対し１本置きの画素列に沿って電荷転送路３を形成すると共に、両脇の２本の画素列で該電荷転送路３を共用させ、共用する電荷転送路３を挟んで隣接する２つの画素２ａ，２ｂを位相差画素とすべく、該位相差画素の２つの画素の夫々に遮光膜開口４ａ，４ｂを設けると共に、２つの遮光膜開口４ａ，４ｂを、当該画素の中央部に対して電荷転送路３に沿う方向で逆方向、及び電荷転送路３に沿う方向に対して直角の方向で逆方向、かつ、該共用する電荷転送路３から離れる方向に偏心して設ける。 （もっと読む）

【課題】固体撮像素子用の微細化したカラーフィルタの製造方法において、着色画素の剥がれを回避すること、および、簡単な工程により平坦で形状の良好な着色画素からなるカラーフィルタ着色層を得ること。
【解決手段】半導体基板上に複数の光電変換素子を平面配置した画素部を有する固体撮像素子基板１上に、画素部の各光電変換素子に対応して複数色パターンの繰り返し配列で覆うように複数の着色画素を規則的に整列配置したカラーフィルタ着色層の製造方法であって、入色順が最終の色を除く各色の着色画素２、３を順次形成後、最終の色の着色画素４を形成するための着色組成物４’を画素部全面に塗布、硬化し、異方性エッチングで露出表面から所定の厚さまで前記最終の色の着色組成物を除去する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】基板材料として不透明材料を使用することができ、また、強度を保持しながら光学設計の自由度を高めることができる光学素子およびカメラモジュールを得ること。
【解決手段】貫通孔２が形成された基板１１と、基板１１の片面に貫通孔２を覆うよう形成された透明な薄膜１２と、薄膜１２が貫通孔２を覆う領域に、薄膜１２の表面に接するよう樹脂材料１３等で形成されたレンズ３と、を備え、基盤１２の材料に不透明材料を使用することができる。 （もっと読む）

【課題】複数台の撮像装置を使用して、カラーの合成画像と距離情報を得ることができる撮像装置において、解像度の低下を招くことなく感度を向上し、さらには多くの色情報の取得が可能な撮像装置を提供する。
【解決手段】カラー画像を取得するとともに、被写体までの距離情報を取得するために、入射した光を光電変換して画像信号を出力する２系統の撮像素子と、２系統の画像信号に基づき被写体までの距離情報を求める距離情報取得部と、２系統の画像信号を合成してカラー画像を得る合成部とを備える撮像装置であって、撮像素子のうち第１の撮像素子は透明画素と光の３原色のうち第１の原色画素と第２の原色画素とを一組とした画素構成を有し、第２の撮像素子は透明画素と光の３原色のうち、第３の原色画素と、第１または第２のいずれかの原色画素とを一組とした画素構成を有している。 （もっと読む）

【課題】劣化の無い正確な偏光情報を得られる。
【解決手段】本発明の偏光イメージング装置１において保護膜１３は入射光を電気信号に光電変換する光電変換素子１２の上に薄膜形成される。偏光フィルタ１６は保護膜１３の上に堆積した偏光材料をパターニングして形成され、入射光の偏光方向を定める。平坦化層１７は偏光フィルタ１６を保護し、偏光フィルタ１６の上に平面を形成される。マイクロレンズ１８が平坦化層１７の上に光電変換素子１２及び偏光フィルタ１６の各画素に対応して形成され入射光を光電変換素子１２に集光する。よって光電変換素子１２と偏光フィルタ１６との間に薄膜状の保護膜１３が介在することになる。また、偏光フィルタ１６が保護膜１３の上に堆積された偏光材料をパターニングして形成されることから従来のような接合プロセスを行わずに一体化できることによりアライメント精度が向上する。 （もっと読む）

【課題】より多くの光を受光領域に取り込むことができる固体撮像装置を提供する。
【解決手段】二次元配列された複数の受光領域１１〜１３を有し、受光領域１１〜１３への入射光を光電変換し、入射光の強度に応じた電気信号を出力する光電変換部１０と、光電変換部１０の上層に設けられる複数の集光レンズ２１からなるレンズ部２０であって、集光レンズ２１の各々が、連続する第１（１１）〜第３（１３）の受光領域１１〜１３の各組に対応して設けられるレンズ部２０と、光電変換部１０とレンズ部２０との間に設けられる分光素子３０であって、分光素子３０が、周期的に屈折率が変化する媒体よりなり、集光レンズ２１を透過した第１の波長帯及び第３の波長帯の光を回折させて、第１の受光領域１１及び第３の受光領域１３に入射させ、集光レンズ２１を透過した第２の波長帯の光を偏向せずに透過して、第２の受光領域１２に入射させる分光素子とを備える。 （もっと読む）

【課題】 測距用レンズとガラス基板と半導体チップとを一体化して、小型化と低コスト化とを図ることのできる加工方法を用いた場合においても、高精度な遮光を実現することが可能な測距装置を提供する。
【解決手段】本発明の測距装置は、互いに光軸Ｏ１、Ｏ２に平行な一対の測距用レンズ１１ａ、１１ｂを有して各測距用レンズによりそれぞれ被写体像を撮像領域１６ａ、１６ｂに形成するレンズアレイ板１１と、撮像領域が形成されたウエハ板１４と、レンズアレイ板１１とウエハ板１４との間に介在されかつ各測距用レンズに入射する像形成光束を各測距用レンズに対応する各撮像領域に導く透明板１２とを一体に有する。透明板１２には、レンズアレイ板１１に臨む面の側からウエハ板１４に臨む面の側に向かって厚さ方向に延びる遮光用溝１７ａと、ウエハ板１４に臨む面の側からレンズアレイ板１１に臨む面の側に向かって厚さ方向に延びる遮光用溝１７ｂとが形成されている。この両遮光用溝の少なくとも一方に遮光用樹脂１８が充填されている。 （もっと読む）

【課題】 蓋体が強固に接合された撮像装置を提供する。
【解決手段】 一端を外部端子２に接続して他端を上面に露出した第１配線導体３が形成された配線基板１と、配線基板１に実装した撮像素子７と、配線基板１の撮像素子７の周囲に形成され、第１配線導体３に接続された接続電極５と、レンズ10とレンズ10を光軸方向に動かす駆動装置11を備え、撮像素子７を収納して配線基板１に接合された箱状の蓋体９と、駆動装置11に接続されて蓋体９の下面に引き出された第２配線導体13と、接続電極５と第２配線導体13とを接続する導電性樹脂である第１接合材14と、蓋体９と配線基板１とを接合する絶縁性樹脂である第２接合材15とを備えた撮像装置であって、接続電極５および配線基板１に、接続電極５を貫通して配線基板１の厚み方向の途中まで、第１接合材14を充填した穴４が形成された撮像装置である。接続電極５と第１接合材14との剥離を低減できる。 （もっと読む）

【課題】偽色を低減させ、且つ高解像度のカラー撮像素子を提供する。
【解決手段】配列合成部２０４は、ＲＲ´ランダム配列パターンＳ２１が示す各画素の間に一画素分の間隔が開くように並べ替え、ＢＢ´ランダム配列パターンＳ２２の各画素の間に一画素分の間隔が開くように並べ替え、ＧＧ´規則配列パターンＳ２３の規則的配列を市松の配列に並べ替て、これらを合成することで一部ランダム配列パターンである色フィルタパターンＳ１０を生成する。 （もっと読む）

イメージセンサは、ピクセルアレイを形成するために、ロー及びカラムに典型的に破裂された、複数の光活性ピクセル及び複数の暗基準ピクセルを含む。暗信号は、第一の利得レベルで各カラムにおける一定数の暗基準ピクセルから読み出される。初期カラムオフセット補正は、前記第一の利得レベルで読み出されたそれぞれの暗信号を用いて、ピクセルアレイにおける１以上のカラムに対して定められる。前記初期カラムオフセット補正は、異なる利得レベルに対して、それぞれ検出された変化に応じて繰り返し調整される。カラムオフセット補正は、それぞれ異なる利得レベルと前記第一の利得レベルとの間の変化量に基づいて調整され得る。 （もっと読む）

ＣＭＯＳ製造プロセスとナノワイヤ製造プロセスとを結合してアクティブピクセル配列としてイメージングデバイスを形成する。配列内のピクセルはナノワイヤを囲む単一または複数のフォトゲートを含む。フォトゲートは、ナノワイヤのポテンシャルプロファイルを制御し、光生成電荷のナノワイヤ内の蓄積と、信号読み出しのための電荷の転送を可能とする。各ピクセルは、リセットトランジスタ、電荷転送スイッチトランジスタ、ソースフォロワー増幅器、およびピクセルセレクトトランジスタを含む読み出し回路を備えても良い。ナノワイヤは一般に、ナノワイヤの先端に衝突する光エネルギーを受けるためにバルク半導体基板上で垂直ロッドとして構成される。ナノワイヤは、光検出器、または光線をバルク基板に導くように設定された導波管、のいずれかとして機能するよう設定しても良い。ここでの実施形態では、ナノワイヤフォトゲートおよび基板フォトゲートの存在によって波長の異なる光を検出することができる。

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【課題】硬化性に優れ、遮光膜の形成領域外における感光性組成物由来の残渣物を低減しうるウエハレベルレンズ用感光性樹脂組成物及び該感光性樹脂組成物に用いるウエハレベルレンズ用チタンブラック分散物、並びに、該感光性樹脂組成物を用いてなる遮光膜を備えたウエハレベルレンズの提供。
【解決手段】（Ａ）チタンブラック粒子、（Ｂ）分散剤、及び（Ｃ）有機溶媒を含有し、前記（Ａ）チタンブラック粒子からなる被分散体の９０％以上が３０ｎｍ以下の粒径を有するウエハレベルレンズ用チタンブラック分散物、並びに、該チタンブラック分散物、（Ｄ）光重合性化合物、及び（Ｅ）光重合開始剤を含有するウエハレベルレンズ用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】ウエハプロセスにより作製されるカメラモジュールのフレア防止対策であって、作製工程において、人手や手間を要せず、工程的にも簡便に作製できる外光遮蔽部を備えるカメラモジュールの構造およびその製造方法を提供する。
【解決手段】固体撮像素子の上にスペーサを介して少なくとも一枚のレンズ体を積層してなるカメラモジュールにおいて、少なくともスペーサの内側壁を、無電解めっき層の遮光層により被覆するか、レンズ体のレンズ要素の少なくとも周辺部を遮光層により被覆したことを特徴とするカメラモジュールである。 （もっと読む）

【課題】 近赤外域に受光感度を有し、良好な結晶性を得やすく、かつ、その一次元または二次元アレイを、高精度で形成しやすく、暗電流を低くできる受光素子、受光素子アレイ、およびそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】 ｐｎ接合１５を受光層３に含むＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体積層構造の受光素子であって、受光層がＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体の多重量子井戸構造を有し、ｐｎ接合１５は、不純物元素が、受光層内に選択拡散されて形成されており、受光層における不純物濃度が、５×１０^１６ｃｍ^−３以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】物理長の異なる複数の伝送線路において、電気長を等しくする。
【解決手段】半導体基板１上の薄膜絶縁体上に形成された物理長の異なる複数の伝送線路Ａ、Ｂのうち、物理長の長いほうの伝送線路において、伝送線路を構成する信号線メタルと半導体基板１との間に低誘電率絶縁膜３を挟むことによって信号伝搬速度を速くした領域を設け、この低誘電率絶縁膜３を挟んだ領域の長さを伝送線路Ａの物理長に応じて調整することによって、すべての伝送線路の電気長を等しくする。 （もっと読む）

【課題】各ＡＤ変換器内の遅延ユニットの基準電圧を安定させることによって良好なデジタル値を得ることができる光電変換装置を提供する。
【解決手段】ＡＤ変換器に基準電圧を供給する基準電圧線は、複数のＡＤ変換器のそれぞれに対応した複数の分岐基準電圧線に分岐し、複数の分岐基準電圧線は、それぞれ対応するＡＤ変換器内の構成要素にのみ接続される。 （もっと読む）

【課題】暗時リーク電流の発生を抑えた裏面照射型固体撮像素子を製造可能な、裏面照射型固体撮像素子用ウェーハの製造方法を提供する。
【解決手段】素材ウェーハ１１を急速加熱・急速冷却（ＲＴＡ）装置２１に入れ、熱処理を行う（ＲＴＡ工程）。この急速加熱・急速冷却（ＲＴＡ）処理時に、ＲＴＡ装置２１の炉内雰囲気を、窒素を含むように、ガスＧを流入させるのが好ましい。こうした急速加熱・急速冷却（ＲＴＡ）処理は、例えば、１１５０〜１３５０℃の範囲で、１〜６０秒行えばよい。 （もっと読む）

【課題】 デバイス工程中、十分なゲッタリング能力を維持することで、金属汚染を抑制し、イメージセンサの白傷欠陥の発生を低減させることができる裏面照射型イメージセンサ用エピタキシャル基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 高酸素シリコン基板の表面直下にゲッタリングシンクを形成する工程と、前記高酸素シリコン基板の表面上に、第１エピタキシャル層を形成する工程と、該第１エピタキシャル層上に、第２エピタキシャル層を形成する工程とを具え、前記ゲッタリングシンクを形成する工程は、前記高酸素シリコン基板に、650〜1150℃の温度で長時間熱処理を施すことにより、酸素析出物領域を形成することを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】選択可能な複数の解像度レベルにおいて作動可能なセンサアレイを提供することである。
【解決手段】センサアレイは、複数の画素と第１および第２ビデオラインと複数の中間回路を備え、中間回路はそれぞれ複数の画素におけるそれぞれの画素に電気的に接続され、第１および第２ビデオラインの両方に電気的に接続される。また、センサアレイの解像度を変更する方法において、アレイは第１および第２ビデオライン、複数の画素、および複数の中間回路を含み、方法は、各中間回路をそれぞれの画素および第１および第２ビデオラインに電気的に接続する工程と、第１モードにおいて、信号を１つの画素から複数の中間回路のそれぞれの中間回路を通って第１ビデオラインへ送信する工程と、第２モードにおいて、信号を１つの画素から複数中間回路のそれぞれの中間回路を通って第２ビデオラインに送信する工程を備える。 （もっと読む）