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Fターム[4M118GA02]の内容

固体撮像素子 (108,909) | 光照射 (2,492) | 照射構造 (1,007) | 裏面照射 (825)

Fターム[4M118GA02]に分類される特許

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【課題】横線ノイズを低減した高画質固体撮像装置を提供する。
【解決手段】本発明の固体撮像装置の1形態は、行単位に選択される単位画素Pnmから画素信号を読み出す固体撮像装置であって、各単位画素に含まれる増幅トランジスタM4と、列毎に設けられ、選択された行に属する増幅トランジスタM4にバイアス電流を供給する第1トランジスタMLmと、基準バイアス電圧を発生する電流源の1次側ミラートランジスタMFと、電流源の1次側ミラートランジスタMFのゲート端子から、第1のトランジスタMLmのゲート端子に基準バイアス電圧を伝達する第1のバイアス信号線と、電流源の1次側ミラートランジスタMFのゲート端子と各第1のトランジスタMLmのゲート端子との間の前記バイアス信号線に挿入されたサンプルホールド回路250とを備える。 (もっと読む)


【課題】量子ドット型赤外線検知器の感度を向上させること。
【解決手段】量子ドットと、前記量子ドットを覆い、エネルギーギャップが前記量子ドットより広い第1の障壁層と、前記第1の障壁層の上側および前記量子ドットの下側に設けられ、エネルギーギャップが前記量子ドットより広く且つ前記第1の障壁層より狭い中間層と、前記第1の障壁層内に設けられ、エネルギーギャップが前記量子ドットより広く且つ前記第1の障壁層より狭い量子井戸層とを有する光電変換層と、前記光電変換層の両側に設けられた電極層を備えた量子ドット型赤外線検知器。 (もっと読む)


【課題】カメラの光学レンズからの入射光がより広い入射角度範囲であっても撮像領域にわたり高感度が維持され、感度ムラが低減された固体撮像装置を提供する。
【解決手段】撮像領域に行列状に配置された複数の単位画素11を有する固体撮像装置であって、単位画素11は、撮像領域の面方向に互いに異なる実効屈折率分布を有する、単位画素11内の境界線50において互いに接する集光素子101Aと集光素子101Bとを有する集光部101と、集光部101で集光された入射光を受光する受光部104とを備え、集光部101は、受光部104に対して、撮像領域の中心方向へシフトして配置される。 (もっと読む)


【課題】
光導電膜の厚膜化や光導電膜への印加電圧の過度な増大を伴わず、大幅に感度を向上させるとともに、高い光電変換効率と安定したアバランシェ増倍を両立できるアバランシェ増倍方式の撮像デバイスを提供する。
【解決手段】
光入射側に配設される第1透光性電極と、第1透光性電極に積層され、第1透光性電極を介して入射する入射光を光電変換する第1光電変換部と、第1光電変換部に積層され、第1光電変換部で生成される電荷が注入されて発光する第1電界発光薄膜部と、第1電界発光薄膜部に積層される第2透光性電極と、第2透光性電極に積層され、第1電界発光薄膜部で発光され第2透光性電極を透過した光を光電変換する第2光電変換部と、第2光電変換部で生成される信号電荷を2次元の画像信号として読み出す信号読み出し部とを含み、第1光電変換部又は第2光電変換部は光電変換部内で電荷のアバランシェ増倍を行う。 (もっと読む)


【課題】固体撮像装置において、遮光膜下のオプティカルブラック領域への光の回り込み、及び有効画素部での混色発生などの抑制を図る。
【解決手段】半導体基板22に形成され、光電変換部PDを有する複数の画素23が配列された画素領域24と、画素領域24における有効画素領域33及び遮光されたオプティカルブラック領域34を有する。さらに、半導体基板22の光入射側とは反対側の面上に形成された多層配線層28と、多層配線層側の面に接合された半導体による支持基板41と、支持基板41の接合面側に形成された光の反射防止構造51を有する。 (もっと読む)


【課題】固体撮像装置において、垂直信号線の電圧降下を低減し、シェーディング改善などの画質の改善を図る。
【解決手段】物理量を電気信号に変換する複数の画素5が2次元状に配列された画素部6と、画素5からの信号が読み出される垂直信号線10と、画素部6の内部で垂直信号線10から信号を取り込み、画素部6の列に対応して配列されたカラム回路11とを有する。 (もっと読む)


【課題】イメージセンサにおけるノイズの発生を抑える。
【解決手段】裏面照射型イメージセンサは、基板と、上記基板の裏面上に配置された裏面保護層と、上記裏面保護層上に配置された透明導電層とを備えている。 (もっと読む)


【課題】光検出装置の縮小、製造コストの低減を図る。
【解決手段】可視光センサ及び赤外光センサを配置する際の面積を縮小するために、可視光を検知する第1のフォトダイオードと赤外光を検知する第2のフォトダイオードとを重畳して配置し、可視光を第1のフォトダイオードで先に吸収する構成とすることで第2のフォトダイオードに入射される可視光を非常に少なくするものである。また、第2のフォトダイオードと重畳して配置する第1のフォトダイオードを第2のフォトダイオードの光学フィルタとして用いるものである。そのため第1のフォトダイオードを構成する半導体層は可視光を吸収し、且つ赤外光を透過する半導体層とし、第2のフォトダイオードの半導体層は赤外光を吸収する半導体層とするものである。 (もっと読む)


【課題】シールリング構造を有し、半導体基板の一部を除去した半導体チップにおいて、シールリング構造を構成するプラグが、半導体基板を除去した部分で露出することによる耐湿性の劣化を回避する。
【解決手段】半導体ウエハを分割して得られる半導体チップ100において、半導体基板101上に形成された機能回路を含む回路形成領域Crと、該回路形成領域の周囲の、該半導体基板の一部を除去した領域上に、該回路形成領域への水分の侵入が阻止されるよう形成されたシールリング構造Shとを備え、該シールリング構造Shは、絶縁膜内に形成され、該絶縁膜の上下に位置する導電性層を接続する導電性プラグ104c及び105cを有し、該シールリング構造を構成する最下層の導電性プラグ104cは、該半導体基板に代わる耐湿材料層102c上に配置されている。 (もっと読む)


【課題】CMOSイメージセンサに代表される固体撮像素子において、裏面受光構造を採ることにより、画素の微細化および高開口率化を可能とした固体撮像素子を提供する。
【解決手段】フォトダイオード37を有するシリコン層31と、シリコン層31における受光面と逆側の他方の面上に設けられた配線層と、シリコン層31内における他方の面側の表面層に設けられたP+層45とシリコン層31内に設けられたN−型領域41からなる光電変換領域と、光電変換領域よりも高濃度の第2導電型であって、シリコン層31内におけるP+層45とN−型領域41からなる光電変換領域との間に設けられたN+領域44とを備えた固体撮像素子である。 (もっと読む)


【課題】回路ノイズ及び混色を低減しながら、高感度化を図る。
【解決手段】本発明の一形態に係る固体撮像装置10は、シリコン層101の第一主面側から入射した光を電荷に変換する第一導電型の複数のフォトダイオード111と、シリコン層101の第一主面側の表面に形成されている第二導電型の埋め込み層126と、フォトダイオード111間に形成されるとともに、シリコン層101の第二主面から埋め込み層126まで到達するように形成されている第二導電型の分離部120と、分離部120の第二主面側に形成されているトランジスタ112と、シリコン層101の第ニ主面側に形成されている周辺回路部130と、シリコン層101の、フォトダイオード111間の領域の第一主面側と、周辺回路部130が形成されている領域の第一主面側とに埋め込み形成されている導電性の遮光部119とを備える。 (もっと読む)


【課題】異なる機能を有する素子を積層して形成した半導体装置、又は固体撮像装置において、上下の素子間にシールド層を容易に形成することができる製製造方法を提供する。また、これにより、上下の素子間に発生する電磁波の影響やクロストークの影響を低減された半導体装置又は固体撮像装置を提供する。
【解決手段】撮像素子22は、第1の半導体基板27と、第1配線層30と、該第1配線層30上部に形成された第1金属層31とを備え、第1の半導体基板27の裏面側が受光面とされた画素領域が形成されている。ロジック素子26は、第2の半導体基板45と、第2配線層48と、該第2配線層48上部に形成された第2金属層32とを備え、画素領域で得られた画素信号を処理する信号処理回路が形成されている。これらの撮像素子22及びロジック素子26は、第1金属層31と第2金属層32とが接合されるように、互いに積層されている。 (もっと読む)


【課題】画素サイズの微細化を実現するとともに、高感度、低混色及び高画質を実現することができる固体撮像装置を提供する。
【解決手段】光が入射する第1面、及び、第1面と反対側の第2面を有する層であって、第1面から入射した光を光電変換する複数のフォトダイオード203、複数のフォトダイオード203を分離する分離部204、及び、フォトダイオード203で生成された信号電荷を検出するトランジスタ200を含む半導体層202と、第2面側に形成され、多層配線201を含む配線層2010と、第1面上に形成された層であって、分離部204に向けて入射してくる光を吸収する吸収部208を含む吸収層2080と、吸収層2080上に複数のフォトダイオード203のそれぞれに対応して形成され、隙間209によって隔てられたカラーフィルタ210a〜210cとを備える。 (もっと読む)


【課題】基板の光入射面とは反対側の界面で発生する暗電流を抑制すると共に、基板を透過した光による混色を抑制できる裏面照射型の固体撮像装置、及びその製造方法を提供することを目的とする。さらに、その固体撮像装置を用いた電気機器を提供することを目的とする。
【解決手段】裏面照射型の固体撮像装置において、基板11と、基板11に形成されたフォトダイオード領域PDと、配線層17と、遮光配線28と、接続部30とを備えた構成とする。遮光配線28は、配線層17内に形成され、フォトダイオード領域PDの少なくとも一部を覆う領域に形成される。接続部30は、遮光配線28からフォトダイオード領域PDに所望の電圧を供給する。遮光配線28により、基板11を透過した光による混色が低減される。また、遮光配線28からフォトダイオード領域PDに所望の電圧を供給することで、暗電流の抑制が図られる。 (もっと読む)


【課題】スイッチング素子部分に遮光部材を設けることなく、スイッチング素子でのノイズの発生を抑制しつつ、残像を消去できる放射線撮影装置を提供する。
【解決手段】光透過性を有する基板64の一方の面に、第1波長域の光に対して感度を有するセンサ部72、及び第1波長域よりも広い波長域の光に対してノイズが発生するTFT70が形成された画素が複数設けられた放射線検出器60の基板64の他方の面に対して主に第1波長域の光を照射する。 (もっと読む)


【課題】隣接カップリング容量を抑制した固体撮像装置及びこの固体撮像装置を備えたカメラ等の電子機器を提供する。
【解決手段】半導体チップ部が貼り合わされ、第1の半導体チップ部に画素アレイと第1多層配線層が形成され、第2の半導体チップ部にロジック回路と第2多層配線層が形成された積層半導体チップを有する。半導体チップ間を接続する複数の接続配線67と、一方向に隣り合う接続配線67間をシールドする第1シールド配線113とを有する。各接続配線67は、第1多層配線層内の所要の第1配線に繋がる第1の接続パッドに接続された接続導体68と、第1の半導体チップ部を貫通して第2多層配線層内の所要の第2配線に繋がる第2の接続パッドに接続された貫通接続導体69を有する。接続配線67は、接続導体68と貫通接続導体とを連結する連結導体とを有して形成される。固体撮像装置は、裏面照射型の固体撮像装置として構成される。 (もっと読む)


【課題】裏面照射型の固体撮像装置において、隣接画素間の混色(クロストーク)を抑制することを目的とする。
【解決手段】複数の画素を配列してなり、画素毎に撮像信号を生成する撮像領域と、該画素を構成する回路素子を駆動する駆動回路とを備えた固体撮像装置100において、画素は、半導体基板101の裏面側領域に形成され、入射光を光電変換する光電変換部102と、該半導体基板の表面側に形成され、該入射光の光電変換により得られた光電変換信号を該光電変換部から該撮像信号として読み出す信号処理回路とを有し、該半導体基板の裏面上の隣接する画素の境界部分に、光反射性部材からなる隆起部112が選択的に形成され、該半導体基板の裏面上に絶縁膜113aが、該隆起部による段差が反映されて、該入射光を該光電変換部に集光する凹レンズが形成されるよう形成されている。 (もっと読む)


【課題】高感度化を図りつつ、電荷の高速転送を実現することが可能な距離センサ及び距離画像センサを提供すること。
【解決手段】フォトゲート電極PGは、平面形状が互いに対向する第1及び第2長辺LS1,LS2と互いに対向する第1及び第2短辺SS1,SS2とを有する長方形状である。第1及び第2半導体領域FD1,FD2は、第1及び第2長辺LS1,LS2の対向方向でフォトゲート電極PGを挟んで対向して配置されている。第3半導体領域SR1は、第1及び第2短辺SS1,SS2の対向方向でフォトゲート電極PGを挟んで対向して配置されている。第3半導体領域SR1は、第1及び第2短辺SS1,SS2側でのポテンシャルをフォトゲート電極PGの直下の領域における第1及び第2半導体領域FD1,FD2の間に位置する領域でのポテンシャルよりも高めている。 (もっと読む)


【課題】フォトダイオード(PD)の感度の低下の軽減を可能としつつ画素の読み出し時間の短縮が可能な裏面照射固体撮像装置を提供すること。
【解決手段】裏面照射型固体撮像装置は、半導体基板1にフォトダイオード3とMOSトランジスタQ1、Q2、Q3を具備して、このMOSトランジスタは半導体基板の表面に形成され、フォトダイオード3は半導体基板の表面と反対の裏面に照射される入射光LGに応答する。フォトダイオード3の主要部とその近傍の上部には、同一列で複数行同時選択される複数のフォトダイオードPDからの複数の信号電圧を転送するための複数の垂直信号線VSL1、2、3が形成される。裏面照射型固体撮像装置では、半導体基板の裏面からフォトダイオードへの照射光が入射されるので、画素の読み出し時間の短縮のための複数の垂直信号線VSL1、2、3を形成しても、フォトダイオードの感度の低下が生じない。 (もっと読む)


【課題】プロセスバラつきが低減され、白点の発生が低減された固体撮像装置を提供することを目的とする。さらに、その固体撮像装置を用いた電気機器を提供することを目的とする。
【解決手段】基板12を貫通する貫通孔31に、ゲート絶縁膜24を介して縦型ゲート電極28が形成された固体撮像装置において、基板12裏面側の貫通孔31端部のゲート絶縁膜24を所望の深さまで積極的に除去し、その代替として負の固定電荷を有する膜からなる電荷固定膜17を形成する。電荷固定膜17により、貫通孔31の形成時に、貫通孔31底部側で発生した欠陥に起因する異常キャリアを吸収することができるので、白点の発生を抑制することができる。 (もっと読む)


201 - 220 / 825