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Fターム[5B015JJ13]の内容

S−RAM (6,838) | 目的、効果 (1,559) | 誤作動防止 (387) | ノイズ対策 (170) | α線による誤作動防止 (49)

Fターム[5B015JJ13]に分類される特許

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【課題】同一サイクルで複数のデータを読み出すことを前提としない場合においても、振動やノイズに耐性のある半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】制御部20は、1受信単位を構成する複数のデータユニットのうち、最後に入力されたデータユニットをメモリアレイ2内の第1のアドレスのメモリセルに格納し、最後に入力されたデータユニットに先行して入力されたデータユニットをメモリアレイ内の、第1のアドレスとは別の第2のアドレスのメモリセルに格納する。第1のアドレスのメモリセルと第2のアドレスのメモリセルとは、メモリアレイ2内では少なくとも行方向および列方向において隣接しない。 (もっと読む)


【課題】第1の導電型の共通ウェルが形成された半導体基板と、前記半導体基板上の前記共通ウェルに行列状に配列されたメモリセルよりなり、列方向に整列して共通のビット線に接続される一群のメモリセルがメモリセルカラムを形成するメモリセルアレイからなるスタティックランダムアクセスメモリにおいて、隣接カラム群間のソフトエラーの伝搬を抑制する。
【解決手段】隣接する第1および第2のカラム群において、前記第1のカラム群CGで選択される一のメモリセルカラムの第1導電型ウェルPW(01)と、第2カラム群CGで同時に選択されるメモリセルカラムの第1導電型ウェルPW(05)は、いずれか一方が、共通ウェル11から、第2導電型の深いウェルDNWにより遮断されており、前記第2導電型の深いウェルDNWは、行方向に測った場合の一つのカラム群の寸法を超えない寸法を有する。 (もっと読む)


【課題】半導体記憶装置におけるマルチビットエラーの発生を抑制する。
【解決手段】複数のカラムを有し、互いに異なる1つのデータの入出力端子に各々が対応づけられるブロック(1I/Oビットに対応するセルアレイ)26A、26Bを複数有し、それらをカラム方向に隣り合わせて配置した第1のメモリセルアレイ、及びそれと同じく構成された第2のメモリセルアレイを備え、第1のメモリセルアレイのブロック26A−0、26A−2と第2のメモリセルアレイのブロックブロック26B−1、26B−3とを組とし、第1のメモリセルアレイのブロック26A−1、26A−3と第2のメモリセルアレイのブロック26B−0、26B−2とを組としてアドレスを割り当て、あるアドレスに対するアクセスにおいて、各メモリセルアレイにてそれぞれ1つおきのブロックの出力がデータとして出力されるようにする。 (もっと読む)


【課題】プログラム処理性能を損なうことなくデータの信頼性を向上させることが可能な半導体記憶装置を提供することである。
【解決手段】本発明にかかる半導体記憶装置は、アドレスに応じたデータの読み出しまたは書き込みを実施するメモリセル2と、メモリセル2に対して2サイクル以上同一アドレスで読み出しを行なっていることを検出する検出手段15と、メモリセル2から読み出されたデータのエラーを訂正するエラー訂正手段3と、エラー訂正後のデータを保持するデータ保持手段6と、を備える。メモリセル2は、検出手段15の検出結果に応じて、データ保持手段6に保持されているデータを前記アドレスに対応づけて書き込む。データ保持手段6は、前記アドレスに応じた読み出しデータとしてデータ保持手段6に保持されているデータを出力する。 (もっと読む)



【課題】SRAMを有する半導体装置の信頼性を向上させる。
【解決手段】シリコン基板1上に形成された6つのnチャネル型トランジスタQNA1,QNA2,QNA3,QNA4,QND1,QND2と、2つのpチャネル型トランジスタQPL1,QPL2とによって構成されるメモリセルMC1を有する半導体装置である。シリコン基板1上には、行方向に見て、順に、第1pウェルPW1、第1nウェルNW1、第2pウェルPW2、第2nウェルNW2、および、第3pウェルPW3が配置されている。第1および第2正相アクセストランジスタQNA1,QNA2は第1pウェルPW1に配置され、第1および第2ドライバトランジスタQND1,QND2は第2pウェルPW2に配置され、第1および第2逆相アクセストランジスタQNA3,QNA4は第3pウェルPW3に配置されている。 (もっと読む)


【課題】回路構成を複雑化することなくソフトエラー低減化を図ったメモリセル構造を有する半導体記憶装置を得る。
【解決手段】NMOSトランジスタN1及びPMOSトランジスタP1によるインバータI1(出力部が記憶端子Na)とNMOSトランジスタN2及びPMOSトランジスタP2によるインバータI2(出力部が記憶端子Nb)とが交叉接続され、さらにNMOSトランジスタN3及びN4が記憶端子Na及びNbにそれぞれ接続される。記憶端子Naに一方電極が接続されるNMOSトランジスタN1及びN3はPウエル領域PW0及びPW1に分けて形成されるともに、記憶端子Nbに一方電極が接続されるNMOSトランジスタN2及びN4はPウエル領域PW1及びPW0に分けて形成される。Pウエル領域PW0及びPW1はNウエル領域NWを挟んで各々反対側に形成される。 (もっと読む)


【課題】ソフトエラーに対する耐性向上と回路規模の縮小を両立させることができない。
【解決手段】クロック調整回路7は、入力クロック信号CLKのハイ状態とロウ状態の比
率を、1つのマスタラッチ1のデータ保持時間帯を狭めるように調整し、ハイ状態(マスタラッチ1のデータ保持時間)を可及的に狭めて出力する。インバータ6はクロック調整回路7の出力を極性反転する。マスタラッチ1のトランスファーゲート4およびスレーブラッチ2−1〜2−3のトランスファーゲート5−1〜5−3は、クロック調整回路7およびインバータ6の出力により、データの通過を制御する。スレーブラッチ2−1〜2−3の出力は3入力多数決回路3で多数決をとられた後に出力信号Qとなる。 (もっと読む)


【課題】センスアンプの活性化時期を最適化した半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】SRAM10は、ワード線WLと、ビット線BLと、アドレス信号ADに応答してワード線WLを選択するアドレスデコーダ14と、センスアンプイネーブル信号SAEに応答して活性化されるセンスアンプ18と、センスアンプイネーブル信号SAEを生成するセンスアンプ制御回路22とを備える。ワード線WLがセンスアンプ18から遠いほどセンスアンプ18が遅く活性化されるように、センスアンプ制御回路22は、ワード線WLがセンスアンプ18から遠いほどセンスアンプイネーブル信号SAEの遅延時間を長くする。 (もっと読む)


高エネルギーの原子粒子衝突に曝される際に、ソフトエラーアップセット事象に対して不感性を呈する記憶素子が提供される。記憶素子はそれぞれ、2つのアドレストランジスタと、双安定要素を形成するように相互接続される4つのトランジスタの対とを含む、10個のトランジスタを有してもよい。トゥルーおよびコンプリメントクリアライン等のクリアラインは、あるトランジスタの対と関連している正の電源端子および接地電源端子にルーティングされてもよい。クリア操作の際、トランジスタの対の一部または全部は、選択的にクリアラインを使用して、電力供給を停止することが可能である。これは、論理0値が、アドレストランジスタを介して駆動されるクリア操作を促進し、クロスバー電流サージを低減させる。
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【課題】耐放射線特性の優れた半導体回路を提供することを目的とする。
【解決手段】複数のpMOSトランジスタ11を直列又は一のpMOSトランジスタ12を備えた並列回路に接続した第1の回路ブロック1と、複数のnMOSトランジスタ21を直列又は一のnMOSトランジスタ22を備えた並列回路に接続した第2の回路ブロック2とを備え、前記第1の回路ブロック1と前記第2の回路ブロック2との接続点Sを出力端子Voutに接続するとともに、全ての前記pMOSトランジスタ11,12のゲート及び全ての前記nMOSトランジスタ21,22のゲートを共通の入力端子Vinに接続する半導体回路。 (もっと読む)


【課題】本発明は、メモリ回路部と非メモリ回路部を有する集積回路に関し、論理回路素子に対するソフトエラーとしてのSET(Single Event Transient)を効果的に抑制できる、集積回路を提供する。
【解決手段】論理回路ブロック202に含まれるNMOSトランジスタのチャネルが形成される第2導電型半導体領域101のP型濃度が、SRAMブロック201内のN型の(駆動)トランジスタN1,N2のチャネルが形成される第2導電型半導体領域101のP型濃度より低い。このため、論理回路ブロック202において、より容易に寄生バイポーラトランジスタがオンし、SETの発生要因となるドレイン電位低下を防止する。そのため、回路的負担増なしにSETを効果的に抑制できる。 (もっと読む)


【課題】 不揮発性メモリーと揮発性メモリーの構成において、瞬断、α線等によって不揮発性メモリーの記憶情報が変化し誤動作した場合に、誤動作検知の有無に関わらず、正常動作に復帰する。
【解決手段】 不揮発性メモリーに入力するリセットを1ビット毎、1ワード毎、任意の所定のビット数毎にまとめて送り、それを一単位として周期的に送り、瞬断、α線等によって不揮発性メモリーの記憶情報が変化しても、外部からの入力信号なしに正常動作に復帰する。 (もっと読む)


【課題】従来の状態記憶回路は、レイアウト面積効率が低い問題があった。
【解決手段】本発明の半導体装置は、N型トランジスタとP型トランジスタとが直列に接続された偶数個のトランジスタ対TP1〜TP4と、トランジスタ対のN型トランジスタとP型トランジスタとを接続する接続ノードと、接続ノードが設けられるトランジスタ対の前段に配置されるトランジスタ対のN型トランジスタのゲートと、接続ノードが設けられるトランジスタ対の後段に配置されるトランジスタ対のP型トランジスタのゲートとを接続するゲート間配線と、を有し、偶数個のトランジスタ対TP1〜TP4はループ状に接続された状態記憶回路を構成し、任意のトランジスタ対(例えばTP1)に属するN型トランジスタN1は、トランジスタ対TP1の2段前かつ2段後ろに配置されるトランジスタ対TP3に属するN型トランジスタN3と異なるPウェル領域に配置される半導体装置。 (もっと読む)


【課題】 サブスレッショルドリーク電流を抑制し、動作電源の変動によるスタティックメモリセルのデータ破壊を抑制する。
【解決手段】 半導体集積回路は、一対の電源配線(10,11)と、複数個のスタティックメモリセル(18)と、前記電源配線から前記スタティックメモリセルに印加する動作電圧を制御する電圧制御回路(20)と、前記電源配線の電圧をモニタするモニタ回路(21)と、動作モードを制御するモード制御回路(5)と、を含む。モニタ回路は、前記一対の電源配線間の電位差が縮小する変化を検出することが可能である。電圧制御回路は、モード制御回路による低消費電力モードの指示に応答してスタティックメモリセルの一対の電源ノードの電位差を小さくする方向に制御し、モニタ回路による前記一対の電源配線間の電位差縮小の検出に応答してスタティックメモリセルの一対の電源ノードの電位差を大きくする方向に制御することが可能である。 (もっと読む)


【課題】ECC回路を用いつつ面積、消費電力、アクセス時間の増大を改善する。
【解決手段】書き込み動作時において、複数のメモリセルから第1バスに読み出された通常データとパリティービットとを用いて通常データのエラー訂正をエラー訂正回路により行い、該エラー訂正がされた通常データを第2バスに出力する第1動作と、第1動作により訂正された通常データのうち第2バスに転送された書き込みデータに対応したデータ部分を書き込みデータ生成回路により入れ替えて第1バスの通常データ部に出力する第2動作と、第2動作により入れ替えられた書き込みデータを含む通常データを用いてパリティービット生成回路によりパリティービットを生成して第1バスのパリティービット部に出力する第3動作と、第2動作と第3動作とにより第1バスに出力された通常データとパリティービットを複数のメモリセルに書き込む第4動作とを行う。 (もっと読む)


【課題】MCUの発生抑制に有効な構成の半導体メモリデバイスを提供する。
【解決手段】ソースがGND電圧の供給線に接続され、ドレインが負荷素子(PMOS)を介して電源電圧Vddの供給線に接続されるN型の駆動トランジスタN1,N2を含むSRAMセル100と、N型の駆動トランジスタN1,N2が形成されるPウェル20PをGND電圧より低い所定のバックバイアス電圧(−VBB)に制御する基板バイアス制御回路8と、を有する。 (もっと読む)


【課題】シングルイベントアップセットへの耐性を求めて改良されたメモリセルを提供する。
【解決手段】
一方のインバータ161の出力と、他方のインバータ162のPMOSおよびNMOSトランジスタのゲートとの間に別個のトランジスタ163,164が配置され、これらのトランジスタ163,164は別個に制御可能である。インバータ162のNMOSトランジスタのゲートまでの経路にNMOSトランジスタが配置され、インバータ162のPMOSトランジスタのゲートまでの経路にPMOSトランジスタが配置される。 (もっと読む)


【課題】ソフトエラーを減少させる。
【解決手段】ソフトエラーを減少させる方法には、記憶回路内の複数の節点に所定の状態を割り当てることと、記憶回路内に結合された複数の信号を評価することであって、第1の節点(節点A:NODE_A)がその所定の状態から変化することを可能にしかつ第2の節点(節点B:NODE_B)が摂動の影響を受けやすくなることを可能にすることと、第2の節点が所定の期間その所定の状態に維持することであって、該所定の状態に維持することにより前記記憶回路のソフトエラーにたいする影響の受けやすさを減少させることが含まれる。 (もっと読む)


【課題】ソフトエラーに対する耐性を高めることが可能であり、かつ、レイアウト設計の自由度を高めることが可能な半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】複数のメモリセル群(G0〜G11)は複数の読出対象群(メモリセル群G0〜G6またはメモリセル群G7〜G11)を含む。複数の読出対象群の少なくとも2つは(たとえばメモリセル群G0,G1)は互いに距離を隔てて位置する。隣あう2つのメモリセル群に跨るソフトエラーが発生しても、これらのメモリセル群同士では、データグループと誤り訂正符号とからなるチェックワードが互いに異なる。これにより1つのメモリセル群のカラム数を増やすことなく、多ビットエラーが生じる確率を小さくすることができる。 (もっと読む)


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